专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种马兰戈尼干燥方法和晶圆处理装置-CN202310820154.4在审
  • 曹自立;刘洪旺;李长坤;韩春宇 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-07-06 - 2023-10-13 - F26B11/18
  • 本发明公开了一种马兰戈尼干燥方法和晶圆处理装置,该方法应用于晶圆处理装置,所述晶圆处理装置包括带动喷液嘴和喷气嘴摆动的摆臂,所述马兰戈尼干燥方法包括:第一阶段,喷液嘴从朝向晶圆中心的起始位置开始向晶圆表面供液以进行液膜覆盖,同时喷气嘴在保证不撕破液膜的情况下向外喷气,并且摆臂停留第一预设时间;第二阶段,喷液嘴和喷气嘴跟随摆臂的摆动而移动,同时喷液嘴保持供液,喷气嘴降低喷气流量以避免撕破液膜;第三阶段,当喷气嘴移动至其朝向晶圆中心时,喷气嘴的喷气流量增大至执行马兰戈尼干燥的相应流量,并且摆臂停留第二预设时间。
  • 一种马兰干燥方法处理装置
  • [发明专利]晶圆竖直旋转处理设备及其应用的通风系统-CN202110761694.0有效
  • 曹自立;李灯;申兵兵;李长坤;赵德文 - 华海清科股份有限公司
  • 2021-07-06 - 2023-08-25 - H01L21/677
  • 本发明公开了一种晶圆竖直旋转处理设备及其应用的通风系统,晶圆竖直旋转处理设备包括:用于竖直旋转晶圆的夹持机构、用于输送流体的供给臂、用于在晶圆处理腔室内形成动态气流的通风系统;通风系统包括进气组件和排气组件,外部的气体从设于进风罩下方的进气管路引入并通过进风面板的进风口通入晶圆处理腔室,腔室内的气体从排风背板的排风口进入环形排风罩进行汇集,并通过环形排风罩的底部引出结构向下方的排气管路引出;进风面板上不同面积的进风口按照特定方式分布,进风口为台阶孔形状,其包括位于进气侧的第一通孔和位于出气侧的第二通孔,第一通孔的截面积不同于第二通孔的截面积从而对流经进风口的气体流量进行调节。
  • 竖直旋转处理设备及其应用通风系统
  • [实用新型]一种滚轮组件-CN202320768166.2有效
  • 曹自立;李长坤;宁昭旭 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-07-21 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了一种滚轮组件,与实现晶圆清洗的箱体耦接,所述滚轮组件包括活动轮、旋转轴、安装座和密封组件;所述密封组件分别与安装座和箱体固定,用于密封安装座与箱体之间的缝隙;所述密封组件包括密封垫、外压环和内压环,内压环将密封垫与安装座固定,外压环将密封垫与箱体固定,内压环位于外压环的内侧。
  • 一种滚轮组件
  • [发明专利]一种滚轮组件-CN202310371425.2在审
  • 曹自立;李长坤;宁昭旭 - 华海清科股份有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-07-07 - H01L21/67
  • 本发明公开了一种滚轮组件,与实现晶圆清洗的箱体耦接,所述滚轮组件包括活动轮、旋转轴、安装座和密封组件;所述密封组件分别与安装座和箱体固定,用于密封安装座与箱体之间的缝隙;所述密封组件包括密封垫、外压环和内压环,内压环将密封垫与安装座固定,外压环将密封垫与箱体固定,内压环位于外压环的内侧。
  • 一种滚轮组件
  • [实用新型]一种用于晶圆清洗的滚刷组件-CN202223508063.7有效
  • 曹自立;姚福聪;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-06-23 - B08B1/04
  • 本实用新型提供了一种用于晶圆清洗的滚刷组件,包括:辊筒,其表面具有多个均匀分布的出液孔;第一固定件,其配置于所述辊筒的一端并且具有连通所述辊筒的进液口;第二固定件,其配置于所述辊筒的另一端,用于在外部驱动装置的作用下致所述辊筒转动;海绵,其包覆所述辊筒的外表面并形成一体;所述辊筒内还配置有内芯,其表面具有芯孔,使得清洗液经由所述进液口流入所述内芯后,经由所述芯孔匀流后由所述出液孔排出到达所述海绵;所述芯孔沿所述内芯的圆周面上的螺旋线等距分布。本实用新型通过增设内芯可以有效调节清洗液在辊筒内的流速分布,使得清洗液可以沿辊筒轴向均匀排出。
  • 一种用于清洗组件
  • [实用新型]晶圆清洗装置和晶圆加工设备-CN202223508085.3有效
  • 曹自立;姚福聪;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-06-23 - B08B1/00
  • 本实用新型提供了一种晶圆清洗装置和晶圆加工设备,包括:滚刷,分别配置于晶圆的两侧刷洗晶圆的表面;驱动机构,驱动所述滚刷;旋转机构,用于旋转晶圆;所述滚刷包括同轴套装的刷体、第一芯筒、第二芯筒;所述刷体紧贴其内间隔地嵌套有第二芯筒的第一芯筒的外表面;所述第一芯筒散布有多个通水孔,所述第二芯筒散布有多个节水孔,使得注入滚刷的液体轴向均匀地输送至刷体。本实用新型提供的晶圆清洗装置改善了传统滚刷出液不均匀的问题,通过在第一芯筒内套装第二芯筒,清洗液经过两级匀流,实现了滚刷轴向均匀出液,保证刷体的轴向各处均处于湿润状态,进而缩短了晶圆加工设备在清洗环节的清洗时间,提高了清洗效率。
  • 清洗装置加工设备
  • [发明专利]一种用于晶圆清洗的滚刷组件-CN202211692060.5在审
  • 曹自立;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-05-30 - B08B1/04
  • 本发明提供了一种用于晶圆清洗的滚刷组件,包括:辊筒和包覆于其表面的海绵,所述辊筒的表面具有多个输水孔;第一固定件,其配置于所述辊筒的一端并且具有连通所述辊筒的通孔;第二固定件,其配置于所述辊筒的另一端,用于在外部驱动装置的作用下致所述辊筒转动;所述辊筒内还配置有内芯,所述内芯的外表面形成有波纹结构,包括交替的多个凸部和多个凹部;所述凸部的顶面配置有多个匀流孔。由于内芯的外表面具有波纹结构,因此在内芯的外表面形成重力势能的低谷,每个轴向出液位置的匀流孔喷出的清洗液得以分别被限制在各个凸部的底部滴落,从而保障了实际滴液点位的数量和设计的轴向出液位置数量一致,并且各滴液点的滴液流量均匀。
  • 一种用于清洗组件
  • [发明专利]一种用于晶圆清洗的滚刷组件-CN202211692065.8在审
  • 曹自立;姚福聪;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-05-23 - B08B1/04
  • 本发明提供了一种用于晶圆清洗的滚刷组件,包括:辊筒,其表面具有多个均匀分布的出液孔;第一固定件,其配置于所述辊筒的一端并且具有连通所述辊筒的进液口;第二固定件,其配置于所述辊筒的另一端,用于在外部驱动装置的作用下致所述辊筒转动;海绵,其包覆所述辊筒的外表面并形成一体;所述辊筒内还配置有内芯,其表面具有芯孔,使得清洗液经由所述进液口流入所述内芯后,经由所述芯孔匀流后由所述出液孔排出到达所述海绵;所述芯孔沿所述内芯的圆周面上的螺旋线等距分布。本发明通过增设内芯可以有效调节清洗液在辊筒内的流速分布,使得清洗液可以沿辊筒轴向均匀排出。
  • 一种用于清洗组件
  • [发明专利]一种应用于晶圆处理的双向气封结构和晶圆处理装置-CN202211685619.1在审
  • 曹自立;宁昭旭 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-05-16 - H01L21/687
  • 本发明公开了一种应用于晶圆处理的双向气封结构和晶圆处理装置,其中双向气封结构包括旋转轴组件和固定套筒组件;所述旋转轴组件的至少一部分的外周侧套设有固定套筒组件,所述旋转轴组件和固定套筒组件之间通过轴承连接,所述固定套筒组件包括位于晶圆处理腔室外的主体部分和伸入晶圆处理腔室内的伸入部分,所述主体部分设有贯穿其内、外表面的气封通道,所述气封通道与所述旋转轴组件相接触的位置形成有分别位于气封通道两侧的第一窄缝和第二窄缝,气流通过第一窄缝流入所述晶圆处理腔室,气流通过第二窄缝流向所述轴承并排出。
  • 一种应用于处理双向结构装置
  • [实用新型]一种应用于晶圆处理的双向气封结构和晶圆处理装置-CN202223494142.7有效
  • 曹自立;宁昭旭 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-27 - 2023-05-16 - H01L21/687
  • 本实用新型公开了一种应用于晶圆处理的双向气封结构和晶圆处理装置,其中双向气封结构包括旋转轴组件和固定套筒组件;所述旋转轴组件的至少一部分的外周侧套设有固定套筒组件,所述旋转轴组件和固定套筒组件之间通过轴承连接,所述固定套筒组件包括位于晶圆处理腔室外的主体部分和伸入晶圆处理腔室内的伸入部分,所述主体部分设有贯穿其内、外表面的气封通道,所述气封通道与所述旋转轴组件相接触的位置形成有分别位于气封通道两侧的第一窄缝和第二窄缝,气流通过第一窄缝流入所述晶圆处理腔室,气流通过第二窄缝流向所述轴承并排出。
  • 一种应用于处理双向结构装置
  • [发明专利]晶圆清洗装置和晶圆加工设备-CN202211692068.1在审
  • 曹自立;姚福聪;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-05-12 - B08B1/00
  • 本发明提供了一种晶圆清洗装置和晶圆加工设备,包括:滚刷,分别配置于晶圆的两侧刷洗晶圆的表面;驱动机构,驱动所述滚刷;旋转机构,用于旋转晶圆;所述滚刷包括同轴套装的刷体、第一芯筒、第二芯筒;所述刷体紧贴其内间隔地嵌套有第二芯筒的第一芯筒的外表面;所述第一芯筒散布有多个通水孔,所述第二芯筒散布有多个节水孔,使得注入滚刷的液体轴向均匀地输送至刷体。本发明提供的晶圆清洗装置改善了传统滚刷出液不均匀的问题,通过在第一芯筒内套装第二芯筒,清洗液经过两级匀流,实现了滚刷轴向均匀出液,保证刷体的轴向各处均处于湿润状态,进而缩短了晶圆加工设备在清洗环节的清洗时间,提高了清洗效率。
  • 清洗装置加工设备
  • [实用新型]一种用于晶圆清洗的滚刷组件-CN202223508089.1有效
  • 曹自立;李长坤 - 华海清科股份有限公司
  • 2022-12-28 - 2023-04-21 - B08B1/04
  • 本实用新型提供了一种用于晶圆清洗的滚刷组件,包括:辊筒和包覆于其表面的海绵,所述辊筒的表面具有多个输水孔;第一固定件,其配置于所述辊筒的一端并且具有连通所述辊筒的通孔;第二固定件,其配置于所述辊筒的另一端,用于在外部驱动装置的作用下致所述辊筒转动;所述辊筒内还配置有内芯,所述内芯的外表面形成有波纹结构,包括交替的多个凸部和多个凹部;所述凸部的顶面配置有多个匀流孔。由于内芯的外表面具有波纹结构,因此在内芯的外表面形成重力势能的低谷,每个轴向出液位置的匀流孔喷出的清洗液得以分别被限制在各个凸部的底部滴落,从而保障了实际滴液点位的数量和设计的轴向出液位置数量一致,并且各滴液点的滴液流量均匀。
  • 一种用于清洗组件

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