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- [发明专利]可在室温下工作的单电子存储器及制备方法-CN02123969.X无效
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孙劲鹏;王太宏
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中国科学院物理研究所
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2002-07-11
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2004-01-14
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H01L27/10
- 本发明涉及一种采用单壁碳纳米管和MOSFET设计的单电子存储器及其制备方法,该器件包括:硅衬底,其表面是一层二氧化硅绝缘层,在其上制备出具有分裂栅结构的场效应晶体管和电极;还包括具有量子点结构的单壁碳纳米管;所述的场效应晶体管的分裂栅由一个中心栅和位于中心栅两侧,平行排列的两个外栅组成,并且由位于二氧化硅绝缘层之上的导电材料层形成;在外栅和中心栅下方对应的硅衬底中,通过掺杂形成p型导电沟道,导电沟道两侧是经重掺杂分别形成的一个n型的源极和一个漏极;所述的电极与分裂栅方向垂直设置;碳纳米管的两端分别与中心栅和电极相接触。它具有分裂栅结构,降低了工作时需要的电子数目,本实用新型单电子存储器可以在室温下实现信息低功耗超高密度存储。
- 室温工作电子存储器制备方法
- [发明专利]具有高集成度的单电子存储器及其制备方法-CN02123970.3无效
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孙劲鹏;王太宏
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中国科学院物理研究所
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2002-07-11
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2004-01-14
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H01L27/10
- 本发明涉及具有高集成度的单电子存储器及制备方法,包括:以硅作为衬底,其表面氧化形成二氧化硅绝缘层,在其上设置栅极、电极和数据线引脚;其中两个电极、一个栅极和数据线引脚,是由位于二氧化硅绝缘层上的导电层形成的;两个电极具有一定的间距;一碳纳米管在两个电极之上,与两个电极欧姆接触;栅极位于两个电极的一侧;并在衬底的另一边设置数据线引脚;另一根碳纳米管在栅极和数据线引脚之上,并与两者欧姆接触;碳纳米管上有两个隧穿结,二者之间形成碳纳米管上的一个量子点。该方法制备出的量子点可以在室温下出现库仑阻塞现象,因此器件可在室温下工作,通过测量碳纳米管晶体管的电流可以实现存储器数据的读出。
- 具有集成度电子存储器及其制备方法
- [发明专利]碳纳米管“或否”逻辑器件-CN02123861.8无效
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赵继刚;王太宏
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中国科学院物理研究所
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2002-07-05
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2004-01-07
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H01L27/04
- 本发明涉及一种碳纳米管“或否”逻辑器件,它包括以Si作为衬底,该衬底上设有SiO2氧化层,在Si衬底的SiO2绝缘层上设置碳纳米管、栅极和电极;所述的栅极包括两个独立的栅极,在位于Si衬底上SiO2绝缘层中彼此相邻的两条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层构成,栅极的绝缘层厚度小于3纳米;所述的电极包括两个独立的电极,位于Si衬底上SiO2绝缘层和碳纳米管之上,或碳纳米管之下;一根碳纳米管平直放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面以及电极的贵金属层表面相接触。一个电极加恒定偏压,另一电极为输出端,利用两个栅极控制碳纳米管截止或导通,从而实现了逻辑“或否”功能。与其它碳纳米管“或否”逻辑器件相比,本发明结构简单,且易于制作。
- 纳米逻辑器件
- [发明专利]利用碳纳米管制作的逻辑“非”门器件-CN02123863.4无效
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赵继刚;王太宏
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中国科学院物理研究所
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2002-07-05
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2004-01-07
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H01L27/04
- 本发明涉及一种利用碳纳米管制作的“非”门逻辑器件,该逻辑器件包括一Si衬底,该衬底上有一SiO2绝缘层,在Si衬底上设置单壁碳纳米管、一个栅极和电极;其特征在于:所述的栅极位于Si衬底上SiO2绝缘层中的一条沟槽之中沉积的Al,并经表面氧化形成的Al2O3绝缘层组成;所述的电极包括两个平行于栅极设置在栅极两侧,该电极设置在单壁碳纳米管之下或位于单壁碳纳米管之上;一根单壁碳纳米管放置在SiO2绝缘层的表面上,与栅极的Al2O3绝缘层表面和电极的贵金属层表面相接触,第一电极联接恒压源,栅极为输入端。利用栅极控制碳纳米管截止或导通,从而实现了逻辑“非”功能。与其它碳纳米管逻辑器件相比,本发明逻辑“非”门器件结构简单,且易于制作和集成。
- 利用纳米制作逻辑器件
- [发明专利]利用碳纳米管制作的随机存储器及制备方法-CN02123864.2无效
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赵继刚;王太宏
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中国科学院物理研究所
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2002-07-05
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2004-01-07
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H01L27/04
- 本发明涉及一种碳纳米管随机存储器,包括以Si作为衬底,该衬底上有SiO2绝缘层、碳纳米管、栅极和电极;栅极位于Si衬底上SiO2绝缘层中的一条沟槽之中,其内沉积Al及经表面氧化形成的Al2O3绝缘层,栅极并与一电阻相连接,该电阻与恒压源相连接;电极平行于栅极,并在栅极两侧设置碳纳米管之上或之下,其中第一电极接地,第二电极与开关相连接,同时栅极与第二电极在衬底上短路相连;一根碳纳米管垂直于栅极和两个独立的电极,平直放置在SiO2绝缘层的表面上,并与Al2O3绝缘层表面和电极表面相接触。利用栅极控制碳纳米管截止或导通状态,并且保持碳纳米管的这种状态,从而实现了容量为1bit的信息存储。本发明结构简单,且易于制作和集成。
- 利用纳米制作随机存储器制备方法
- [发明专利]复合量子点器件及制备方法-CN02123459.0无效
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竺云;王太宏
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中国科学院物理研究所
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2002-06-28
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2003-12-31
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H01L29/66
- 本发明公开了复合量子点器件及其制备方法。该器件包括以高掺杂的导电的GaAs作为衬底,利用分子束外延方法在其衬底上按顺序制备出掺杂的缓冲层、半导体GaAs隔离层、InAs量子点层和在InAs量子点层上覆盖一层薄的GaAs盖冒层,在衬底的盖冒层表面制备出电极,在衬底背后沉积AuGeNi作为器件背栅;还包括在缓冲层上制备一层AlGaAs/GaAs超晶格势垒层、一层δ-Si掺杂层;该器件采用常规方法制备,它由量子点、二维电子气和薄的肖特基隧穿垒层等结构构成的一种复合量子点器件,具有发光、光探测、开光、放大和存储等多种功能,可分别用作发光管、光探测器、隧穿二极管、场效应晶体管和存储器等,也可用作它们之间的一种组合。具有性能稳定、可控和应用广等优点。
- 复合量子器件制备方法
- [发明专利]量子点器件的三端电测量方法-CN02123464.7无效
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竺云;王太宏
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中国科学院物理研究所
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2002-06-28
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2003-12-31
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H01L21/66
- 本发明涉及一种量子点器件的三端电测量方法,其测量方法是利用在量子点表面形成一薄肖特基接触,在量子点层上设三电极,其中一电极接地,一电极施加恒定偏压,另一电极施加扫描电压,由测量仪器测出在恒定偏压条件下的另一电极上扫描电压对应的电流Log曲线,由其计算出量子点隧穿电阻和量子点二维电子气电阻;本发明可全部测出量子点器件的各具体量,从而可用来判断量子点的密集程度、分布的均匀性和量子点大小的涨落,也可判断二维电子气的浓度和迁移率的高低,还可指导进一步完善器件结构,提升器件性能。
- 量子器件三端电测量方法
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