专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种管线布局调整装置-CN202223549705.8有效
  • 曲昱 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-04-25 - F16L3/223
  • 本实用新型涉及管路布局减振技术领域,尤其涉及一种管线布局调整装置。所述管线布局调整装置包括第一管夹、第二管夹和第三管夹,第一管夹上设有多层第一导向夹道,第二管夹上设有多层第二导向夹道,第三管夹上设有多层第三导向夹道。以第二导向夹道延伸方向为X向,以每层第二导向夹道的排列方向为Y向,以多层第二导向夹道的排列方向为Z向;第一导向夹道和第二导向夹道均位于XZ平面内,每层第一导向夹道沿Y向排列;通过将第二导向夹道与第三导向夹道位于XY平面内,多层第三导向夹道沿Z向排列,管路仅受二维弯曲,不会受到三维扭转力,可降低管路牵拉力对减振器的影响,提高减振器性能从而保证光刻机的工作稳定性。
  • 一种管线布局调整装置
  • [发明专利]一种准直镜及像传感器-CN202010622649.2有效
  • 郁毅敏 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2020-06-30 - 2023-04-18 - G02B27/30
  • 本发明提供一种准直镜及像传感器,所述准直镜包括沿光束入射方向依次间隔排布的孔径光阑、第一透镜组、第二透镜组和第三透镜组,所述第一透镜组具有负光焦度,所述第二透镜组和所述第三透镜组具有正光焦度,所述第一透镜组、第二透镜组和所述第三透镜的焦距满足以下关系式:3f2/f5,且0.5f3/f2,且f1‑0.5×f2,且0.5f/d0.6;其中,f1为第一透镜组的焦距,f2为第二透镜组的焦距,f3为第三透镜组的焦距,f为总焦距,d为所述孔径光阑限定的光斑直径。如此设计,可保证准直镜的数值孔径在水中大于1.35,因此,可满足浸没式投影物镜的偏振像差测量传量传感器的数值孔径NA≥1.35的要求。
  • 一种准直镜传感器
  • [发明专利]定位系统、定位方法及干涉仪的验证方法-CN202010124752.4有效
  • 张建新;高彩霞;杨志勇 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2020-02-27 - 2023-04-07 - G03F7/20
  • 本发明提供一种定位系统、定位方法和干涉仪的验证方法,所述定位系统包括:照明单元、遮光件、反光件、第一探测器和调焦调平单元。所述照明单元提供的光束经遮光件遮挡,在物镜的像面上形成一暗斑,所述暗斑中心位于物镜的中心光轴上,所述第一探测器检测暗斑中心的水平方向坐标以作为第一位置坐标。所述调焦调平单元的投影件发射出多个光斑,光斑投射于反光件上并经反光件反射形成反射光斑,所述第二探测器接收反射光斑并获取每一光斑的坐标以作为第二位置坐标,从而定位所述调焦调平单元。由此解决光刻机在曝光显影后的关键尺寸与垂向控制理论值存在偏差的问题,改善光刻机的垂向控制性能,提升前道光刻机的曝光成像效果,提高产品的良率。
  • 定位系统方法干涉仪验证
  • [发明专利]镜组调节机构、可调式光学系统及光刻设备-CN202010609690.6有效
  • 苏同克 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2020-06-29 - 2023-04-07 - G02B7/00
  • 本发明提供了一种镜组调节机构、可调式光学系统及光刻设备,定心单元包括沿周向交替设置的形变区及固定区,形变区与镜组固定单元连接,固定区与镜筒连接,固定区在轴向及径向上的刚度均大于形变区在轴向及径向的刚度,使得固定区可以较好的起到固定和限位作用,而形变区在轴向上的刚度小于在径向上的刚度,可保证镜筒和镜组固定单元之间可在轴向上相对移动且在径向上相对固定,降低镜组固定单元在调整过程中的径向位移,从而降低镜组固定单元在进行位置调整时的径向串扰,提高镜组固定单元的水平向模态。
  • 调节机构调式光学系统光刻设备
  • [发明专利]掩模板及光刻机的标定方法-CN202111164097.6在审
  • 王博;张家锦 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-09-30 - 2023-04-04 - G03F1/44
  • 本发明提供一种掩模板及光刻机的标定方法。其中,掩模板上的测量标记包括第一图形和第二图形,第一图形和第二图形具有一公共点,且均设置有刻度图形。在标定过程中,以标准光刻机为参照,分别在标准光刻机和待标定光刻机上曝光出测量标记,直接读取公共点的偏差并修正参数,实现对视场中心的标定;通过直接读取和计算,能得到曝光视场尺寸的误差及上片误差。其中,通过测量标记不仅可以获得二自由度的位置偏差,还能获得旋转偏差,提高上片误差的测量精度。此外,还可以将待标定光刻机作为参照基准,标定出不同上片角度下的上片相对偏移量。因此,本发明不但提高了标定效率,保证了光刻的精准度,而且应用场景多样化,通用性好,适用范围广。
  • 模板光刻标定方法
  • [发明专利]调焦测量系统及光刻设备-CN202111160739.5在审
  • 彭俊;张雨;王晓庆 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-09-30 - 2023-04-04 - G03F9/00
  • 本发明提供了一种调焦测量系统及光刻设备,其中所述调焦测量系统包括:光源模块,用于提供短波长波段的照明光束;投影模块,用于使所述照明光束照射于目标面并形成一反射光束;探测单元,用于探测所述反射光束以生成一电信号;所述投影模块包括类梯形耦合棱镜,所述照明光束垂直入射和出射所述类梯形耦合棱镜,且所述类梯形耦合棱镜具有两个梯形斜边的倾斜面,分别作为所述照明光束的入射面和出射面。本发明通过设置类梯形耦合棱镜,且照明光束垂直入射和出射所述类梯形耦合棱镜,可以使所述调焦测量系统既满足Scheimpflug条件,又可以解决短波长波段的照明光束在光路上出现的色差问题。
  • 调焦测量系统光刻设备
  • [发明专利]一种隔热结构及晶圆加热装置-CN202111157150.X在审
  • 赵仁洁 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-09-30 - 2023-04-04 - B32B3/12
  • 本发明公开了一种隔热结构及晶圆加热装置,其属于半导体技术领域,隔热结构包括网格结构以及设置于所述网格结构内部的隔热层,所述网格结构的顶面能够放置物品,所述网格结构沿热源传导方向的投影全部位于所述隔热层所覆盖的范围内,所述网格结构与所述隔热层通过3D打印一体成型。晶圆加热装置包括如上所述的隔热结构。网格结构直接与物品接触,能够降低热传导,隔热层能够起到阻挡空气对流和热辐射导致的传热,因此提升了隔热效果。网格结构能够减小隔热结构的重量,隔热层起到增加强度的作用,网格结构与隔热层配合,减小变形,延长使用寿命。
  • 一种隔热结构加热装置
  • [发明专利]一种气足-CN202111162039.X在审
  • 赵仁洁 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-09-30 - 2023-04-04 - F16C32/06
  • 本发明涉及半导体装备技术领域,尤其涉及一种气足。本发明中气足的气浮机构包括出气主管路、至少两组第一分支管路组以及出气管路,至少两组第一分支管路组与出气主管路相连通,第一分支管路组连接有出气管路,通过所有出气管路并连设置,从出气主管路排出的正压气体经第一分支管路组到各个出气管路流经的路径长度相同,能够保证从出气主管路排出的正压气体分流的均匀性。同时,由于取消掉红宝石的设置,能够保证出气管路的出气口的正压气体的流量较大,保证气浮力较大,还降低了气足的制造难度和成本。综上,通过上述设结构,能实现气足均匀且较大的气浮力,保证气足的可靠性,还降低了气足的制造难度和成本。
  • 一种
  • [发明专利]镜片支架、物镜及镜片面形补偿方法-CN202111152140.7在审
  • 杨若霁;王彦飞;李运锋 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-09-29 - 2023-03-31 - G02B7/00
  • 本发明提供一种镜片支架、物镜及镜片面形补偿方法。其中,镜片支架包括:镜框、支撑装置以及多个面形补偿装置。镜框包括环形本体和第一环形平台。支撑装置位于所述第一环形平台上,以支撑镜片。多个面形补偿装置位于环形本体远离镜片的一侧面,且沿环形本体的周向分布,以保证镜片的每一区域都能面形调整。面形补偿装置包括柔性杠杆和驱动部件;驱动部件用于主动提供补偿作用力,柔性杠杆用于传导补偿作用力至支撑装置,以补偿镜片面形。且通过干涉仪的检测结果,能够计算出镜片各区域的待补偿量,以使驱动部件提供精准的补偿力,实现高效、精准的主动面形补偿,提高光学成像性能。此外,面形补偿装置的结构简单,适用于各种镜片结构,通用性强。
  • 镜片支架物镜补偿方法
  • [发明专利]套刻测量装置及光学设备-CN202010479603.X有效
  • 周晓磊;杨晓青 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2020-05-29 - 2023-03-31 - G03F7/20
  • 本发明提供一种套刻测量装置及光学设备,包括:照明模块,用于产生照射光束以对晶圆上的套刻标记进行照明;照明切换模块,用于切换照明模式以适应对不同的套刻标记的测量;成像模块,用于对所述套刻标记进行成像;光瞳调制模块,用于配合照明模式的切换对所述套刻标记的成像进行调制。本发明通过照明切换模块对照明模式进行切换,并结合光瞳调制模块对套刻标记成像的调制,即可实现对IBO标记和μDBO标记的一体化测量,提高测量装置的集成性,增大测量装置对套刻误差的适应性。
  • 测量装置光学设备
  • [发明专利]周期性结构、隔热结构和增材制造方法-CN202011459559.2有效
  • 吴飞 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2020-12-11 - 2023-03-31 - B22F10/38
  • 本发明提供了一种周期性结构、隔热结构和增材制造方法,所述周期性结构为三周期极小曲面结构,所述周期性结构包括若干周期性排布的晶格单胞,所述晶格单胞具有多个沿不同方向设置的支撑杆,所述支撑杆呈锥体设置,所述周期性结构的至少一边界面为由若干所述锥体底面构成的点阵面,所述若干锥体底面均匀地分布在所述周期性结构的边界面上。本发明提供的周期性结构的至少一边界面为由若干锥体底面构成的点阵面,由此可以有效增大导热的均匀性,同时截面大小反复交替的结构也能够保证热量不易散出。此外,本发明还可以在受力表面获得更均匀的效果。
  • 周期性结构隔热制造方法
  • [发明专利]周期性结构、隔热装置和晶圆键合装置-CN202011459562.4有效
  • 吴飞 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2020-12-11 - 2023-03-31 - F16L59/02
  • 本发明提供了一种周期性结构、隔热装置和晶圆键合装置,所述周期性结构包括若干呈周期性排布的三周期极小曲面结构,所述三周期极小曲面结构具有多个沿X向、Y向和Z向设置的支撑杆,且沿X向和Y向设置的支撑杆的一端均设有沿Z向设置的连接杆。所述隔热装置包括若干如上文所述的周期性结构。所述晶圆键合装置包括键合腔、真空单元、键合夹具和施压装置,所述施压装置包括对称设置的上压盘和下压盘,所述上压盘和所述下压盘均包括如上文所述的隔热装置。本发明具有极佳的承载性能和隔热性能以及优良的受力均匀性和受热均匀性。
  • 周期性结构隔热装置晶圆键合
  • [发明专利]基片交接单元及基片交接装置-CN202010899824.2有效
  • 赵文波;刘屈武 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2020-08-31 - 2023-03-28 - G03F7/20
  • 本发明提供一种基片交接单元及基片交接装置,基片交接单元包括定子及动子;所述定子包括线圈以及沿轴向设置的内腔,所述线圈围绕所述内腔周向设置;所述动子包括磁体及气浮轴承,所述磁体沿所述定子的轴向可活动地设置于所述内腔中;所述磁体用于在所述线圈的驱动下沿所述定子的轴向移动;所述磁体通过所述气浮轴承气浮连接于所述内腔中;所述气浮轴承至少包括上气浮面与下气浮面,所述上气浮面与所述下气浮面沿所述定子的轴向间隔分布,且所述上气浮面的延伸方向与所述下气浮面的延伸方向相同。如此配置,每个基片交接单元均独立包括定子和动子,能够各自独立地调整,减小集成的难度。气浮轴承的设置进一步提高基片交接单元的稳定性和可靠性。
  • 交接单元装置

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