“丁晨良”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果57个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置-CN202110049599.8有效
发明人：匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;刘秋兰;丁晨良;杨臻垚 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置，该装置主要包含两路光：一路光通过偏振分束器产生偏振方向两两相同的四光束，四光束在物镜焦平面重叠，进行振幅和强度叠加后产生干涉点阵，点阵暗斑用作抑制涡旋光阵列；另一路光通过数字微镜器件DMD产生激发光点阵，并投影到物镜焦平面上和抑制涡旋光阵列重合，在大视场中可得到万束量级以上边缘光抑制阵列，可用于高通量超分辨的双光子直写。
基于干涉点阵 dmd 边缘抑制阵列并行装置

[发明专利]一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法-CN202011638382.2有效
发明人：匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;丁晨良;魏震;徐良 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法，该装置可产生N×N强度独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI刻写点由干涉点阵暗斑和激发光重合而成，具有高通量超分辨刻写的能力。装置主要包括两路光：一路光通过四光束干涉产生等强度等间距的光斑点阵，点阵暗斑用作涡旋抑制光；另一路光通过MLA产生N×N激发光点阵，同时通过SLM和DMD分别调控各激发光的位置和强度，实现涡旋光阵列与激发光点阵精密重合且刻写点大小独立可控。该装置与方法通过产生相同刻写点大小的PPI阵列，可进行高均匀度三维结构的高通量超分辨直写加工，控制刻写点大小使其具有特定分布，还可并行加工任意曲面结构，可应用于超分辨光刻等领域。
一种基于边缘抑制阵列并行装置方法

[发明专利]分光检测系统和光束指向检测与稳定系统-CN202310425344.6在审
发明人：马程鹏;匡翠方;徐良;丁晨良;魏震 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-04-18 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G01J1/42 文献下载
摘要：本申请提供一种分光检测系统和光束指向检测与稳定系统。分光检测系统用于检测光束指向控制组件出射的光束的性质，包括分光检测组件和控制器。分光检测组件包括分光组件和检测组件，分光组件用于反射和透射光束，检测组件用于接收光束反射形成的反射光束，检测反射光束的性质。控制器连接于检测组件和光束指向控制组件之间，控制器用于根据反射光束的性质，确定光束调整量，控制光束指向控制组件根据光束调整量调制光源发出的光束。本申请提供的分光检测系统通过设置控制器根据检测组件检测得到的光束性质，控制光束指向控制组件调制光源发出的光束，降低光束在长距离传播的过程中的偏移和光学器件引入的指向误差，提高光束的稳定性。
分光检测系统光束指向稳定

[发明专利]利用二次扰动激光的飞秒泵浦–探测微区测量系统及方法-CN202310615053.3在审
发明人：匡翠方;高秀君;王权;张祖鑫;张嘉晨;丁晨良 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G01N21/31 文献下载
摘要：利用二次扰动激光的飞秒泵浦–探测微区测量系统及方法，包括飞秒激光器、分束镜、声光调制器、全反镜、超连续谱产生套件、连续激光器、电控位移台、二向色镜、反射式物镜、凸透镜、单色仪、光电倍增管、锁相放大器、滤光片、光纤光谱仪和计算机等部件。在探测部分利用反射式物镜替换凸透镜汇聚激发光和收集信号光，提高飞秒泵浦–探测技术空间分辨精度。本发明是利用二次扰动激光的飞秒泵浦–探测系统，用于分析连续激光对样品激发态弛豫过程的影响，提供对复杂超快光物理行为的进一步理解，进而优化材料设计方案。
利用二次扰动激光飞秒泵浦探测测量系统方法

[发明专利]一种基于连续谱光源的可变波长激光直写光刻系统与应用-CN202310807886.X在审
发明人：马程鹏;匡翠方;张杨燕;孙秋媛;孙琦;杨臻垚;丁晨良 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统，属于超精密光学成像与刻写技术领域，包括光源与刻写模块，其中光源为连续谱光源；光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块；光束调节组件包括滤波模块，和能量调节模块或波相差调节模块中的一种或串联设置的两种组合。与现有技术相比，本发明提供一种多路单独滤波及调制的光源调制光路，可同时实现多通道不同波长的光束调制，多光束可互相配合，通过不同轴汇合或同轴重合方式，实现多通道超分辨光刻或基于边缘抑制的超分辨光刻。
一种基于连续谱光源可变波长激光光刻系统应用

[发明专利]一种可控脉冲展宽与延时的超分辨激光直写装置及方法-CN202111241114.1有效
发明人：匡翠方;丁晨良;杨臻垚;孙秋媛;杨顺华;徐良;刘旭 -专利权人：之江实验室
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种可控脉冲展宽与延时的超分辨激光直写装置及方法，该装置包括飞秒激光光源、二分之一波片、偏振分光棱镜、脉冲展宽器、能量调制器、相位板、直角棱镜、反射镜等部件。本发明将飞秒光源出射的飞秒光束分成两束光，对其中一束进行脉冲展宽与光强分布的调制，然后将两束光合束后入射到刻写系统，实现同波长的基于边缘光抑制的激光刻写。利用本发明的装置可以得到一束强度分布为高斯的飞秒光束和一束可调脉冲宽度、可调光强分布的光束，并且可以通过调控光程来精细调控分束后的两个光束达到刻写样品上的时间，精度可达皮秒量级，可用于高精度激光直写光刻系统。
一种可控脉冲展宽延时分辨激光装置方法

[发明专利]一种基于光场调控的双路并行超分辨激光直写装置-CN202110388124.1有效
发明人：匡翠方;朱大钊;徐良;丁晨良;刘旭;李海峰 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-04-12 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于光场调控的双路并行超分辨激光打印装置，属于超分辨激光微纳加工领域。直写激光器发出的激光依次经过直写路准直器、直写路防漂移系统、直写路能量调控模块、直写路波前调控模块进入合束模块；抑制路激光器发出的激光依次经过抑制路准直器、抑制路防漂移系统、抑制路能量调控模块、抑制路波前调控模块进入合束模块；直写光在直写路波前调控模块中被调制，抑制光在抑制路波前调控模块中被调制，两路光合束后，形成两对直写‑抑制光斑组合。本发明通过分区复用SLM并利用其偏振选择特性，在一束直写光束和一束抑制光束的基础上实现了双聚焦光斑，同时实现每个光斑能量的独立调控，将激光直写打印系统的速度提升了一倍。
一种基于调控并行分辨激光装置

[发明专利]一种基于全息相位分束的光纤并行激光直写方法及系统-CN202211053614.7有效
发明人：匡翠方;温积森;徐良;朱大钊;丁晨良 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-08-30 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于全息相位分束的光纤并行激光直写方法和系统，本发明将一水平偏振方向的激光入射至空间光调制器的液晶面元，所述的空间光调制器加载不同的全息相位图实现对入射光束的分束并调整分束后各个子光束的位置，从而实现良好地耦合进光纤阵列。光纤阵列通过光开光模块实现每一路光的开关。通过每路光的开关以及三维位移台的移动，实现三维大面积的微纳结构直写，本发明的直写效果更加丰富，直写效率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
一种基于全息相位光纤并行激光方法系统

[发明专利]一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统-CN202310698595.1在审
发明人： 丁晨良;匡翠方;苏晨怡;杨顺华;徐良;刘勇;刘旭 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种超分辨激光纳米直写光刻技术，具体涉及一种基于双光束的高通量超分辨三维刻写方法与系统，该方法为，合束光平行入射数字微镜器件并经数字微镜器件反射后入射微透镜阵列，于微透镜阵列焦平面处形成聚焦点阵，使该聚焦点阵成像于双光束光刻胶表面形成激发光束与抑制光束重合的刻写点阵，对双光束光刻胶进行曝光；合束光由激发光束与抑制光束合束得到；通过调节数字微镜器件区域微镜的开关状态，调控刻写点阵中各点处的能量；通过调节抑制光束的能量，使刻写点阵中各点于中心区域形成光刻胶聚合促进，于外围区域形成光刻胶聚合抑制。与现有技术相比，本发明实现了高通量、超分辨、三维纳米结构的刻写，大幅提升刻写精度与效率。
一种基于光束通量分辨三维刻写方法系统

[发明专利]一种高通道荧光辐射差分显微成像方法和装置-CN202310175875.4在审
发明人：刘勇;丁晨良;匡翠方 -专利权人：之江实验室
申请日： 2023-02-16 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G01N21/64 文献下载
摘要：本发明公开了一种高通道荧光辐射差分显微成像方法和装置，包括激光器、分束器、光纤模式选择模块、光场调整模块、显微成像模块、探测模块和控制单元，通过光纤模式选择模块分时选通空间位置重叠的N个空心激发光斑和N个实心激发光斑，N个激发光斑、光场调整模块、显微成像模块与探测模块包含的N根探测光纤一一对应构成N个独立的FED显微成像通道，可以并行获取待测样品的结构信息，提升FED的成像速度。
一种通道荧光辐射显微成像方法装置

[发明专利]一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置-CN202110048105.4有效
发明人：匡翠方;温积森;刘旭;丁晨良;朱大钊 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置，包括偏振控制模块、准直扩束系统、激发光束阵列掩膜、偏振分光镜、四光束干涉形成的抑制光虚拟掩膜、聚焦高数值孔径物镜以及三维可控精密位移台等主要装置，所述的空间光调制器实时连续加载不同的计算全息图实现激发光束阵列子光束的开光，从而实现不同图案的直写。四光束两两呈一定角度干涉形成光学掩膜作为抑制光阵列，从而提高直写分辨率。这使得该系统的直写效果更加丰富，直写效率与分辨率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
一种双掩膜高通量激光分辨方法装置

[发明专利]光斑自动跟焦装置及其方法-CN202310513844.5在审
发明人：张良;匡翠方;杨臻垚;丁晨良;樊吴申;孙秋媛;刘旭;周国尊 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H04N23/67 文献下载
摘要：本申请提供一种光斑自动跟焦装置及其方法。该光斑自动跟焦装置包括光源、光学系统、物镜、物镜压电位移器、四象限光电探测器及控制系统，光源发出的入射光束经由光学系统和物镜通过入射光路入射到样品表面，其中，四象限光电探测器用于接收经样品表面反射并经由物镜和光学系统通过反射光路出射的反射光束，并将反射光束的光信号转换为四路电信号；控制系统用于基于四路电信号来确定入射到样品表面的入射光斑的离焦量，并基于入射光斑的离焦量来生成补偿控制信号给物镜压电位移器；物镜压电位移器用于基于补偿控制信号来控制物镜沿轴向移动以使入射光斑能够始终聚焦于样品表面。本申请能够自动控制物镜轴向运动以达到自动跟焦目标。
光斑自动装置及其方法

[发明专利]一种用于激光直写的光纤光刻物镜镜头-CN202310119397.5在审
发明人：匡翠方;张凌民;魏震;李海峰;朱大钊;丁晨良;徐良 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-01-17 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本说明书公开了一种用于激光直写的光纤光刻物镜镜头，该物镜镜头包括：光焦度为负的第一透镜组、光焦度为负的第二透镜组以及光焦度为正的第三透镜组，第一透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、负、正的透镜；第二透镜组包含三个光焦度依次为负、正、负的透镜；第三透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、正、正的透镜；第一透镜组负责接收光源，并将光源折射至第二透镜组，第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将收集的光线折射至第三透镜组，第三透镜组将光线将聚焦于基底，物镜镜头中的透镜均处于同一光轴，本说明书中的物镜镜头能够校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
一种用于激光光纤光刻物镜镜头

[发明专利]一种基于光学系统的光束自动校准装置及方法-CN202310243262.X在审
发明人：匡翠方;樊吴申;丁晨良;刘旭;张良;汤孟博;孙琦 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2023-03-14 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G02B27/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于光学系统的光束自动校准装置及方法，通过运用前置运算放大器、高精度模数转换芯片ADC电路采集探测器的信号，经过模数转换后在逻辑芯片进行算法实现；其后逻辑芯片再输出一组新的信号，经过后置运算放大器、高精度数模转换芯片DAC、变压器等处理，再输送至后端设备，可实现光束校准。本发明使用当前性能较高的集成电路，对光束校准测量的精度把控更精准，响应速度较快，整个装置低成本、低功耗，算法植入后全自动运作，并且可通过上位机的软件实时关注装置的工作状态。本发明采用独立芯片来采集信号、处理模数、数模转换，或者是算法运行，无论从精度上、或者是运行效率上，都高于传统设计。
一种基于光学系统光束自动校准装置方法

[发明专利]一种基于共焦光路像素差分的焦面检测方法及装置-CN202211480569.3在审
发明人：匡翠方;彭伏平;丁晨良;孙琦;樊吴申;温积森 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G02B21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于共焦光路像素差分的焦面检测方法，该方法基于分别放置在共焦差分光路中的焦前和焦后位置上的两路图像传感器，通过将两路图像传感器获取的离焦光斑形状进行差分，结合后期图像处理，实现了焦面的实时探测跟踪与补偿。还公开了一种基于共焦光路像素差分的焦面检测装置，包括位于光学系统中心光轴上依次排布的光源、滤波准直装置、二分之一波片、偏振分光棱镜、四分之一波片、物镜、样品，以及与偏振分光棱镜共轴依次布置的会聚透镜、分光棱镜和两路图像传感器。本发明与现有的其他焦面检测方法相比，具有装置简单，抗干扰能力强的优点，能实现高精度焦面跟踪定位与补偿。
一种基于共焦光路像素检测方法装置

1
2
3
4
下一页»
尾页
共 57 条