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[发明专利]水乳型圆网感光胶-CN200510024728.9无效
发明人：潘跃进;聂昌颉 -专利权人：上海中大科技发展有限公司;上海中大印染材料工业有限公司
申请日： 2005-03-29 - 公布日： 2005-09-14 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开一种水乳型圆网感光胶，其由改性SBQ树脂水溶液、可光固化的树脂与环氧树脂的互容物、环氧树脂固化剂、光聚合引发剂、低级烷基脂肪醇等组成。本发明采用了与环氧树脂有相容性的可光固化的树脂与之共混，添加适量低级烷基脂肪醇，不采用甲苯等有毒害溶剂，方便地制得了稳定的水乳液。以此制备的花型网版，经光固化形成互穿网络，在无铬离子作光敏剂的情况下，提高了水显影牢度和印制牢度。本发明在使用过程中，无毒害气体排放，无重金属离子废液排放，极具工业使用价值。
水乳型圆网感光

[发明专利]光刻胶组合物-CN200510067714.5无效
发明人： J·F·卡梅隆 -专利权人：罗姆及海斯电子材料有限公司
申请日： 2005-02-22 - 公布日： 2005-09-14 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供一种包括至少两种不同的酚醛聚合物混和物的新的光刻胶，其中，每种聚合物具有与另一种聚合物不同的光酸不稳定基团。该混和物的一种或优选两种酚醛树脂都具有非常低的多分散性值。本发明的光刻胶在光刻处理后可显示出所形成图像的良好的分辨率。
光刻组合

[发明专利]高效水乳型圆网感光胶-CN200510024723.6有效
发明人：潘跃进;聂昌颉 -专利权人：上海中大科技发展有限公司;上海中大印染材料工业有限公司
申请日： 2005-03-29 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开一种高效水乳型圆网感光胶，其由改性了的SBQ树脂水溶液、可光固化树脂与环氧树脂的互容物、环氧树脂固化剂、亲水性不饱和单体、光聚合引发剂、低级烷基脂肪醇等组成。本发明不采用重铬酸盐作为光敏剂，不含甲苯等有毒溶剂。在使用过程中，无毒害气体排放，无重金属离子废液排放。该圆网感光胶水显影牢度可满足制备精细花纹要求，高温后固化后具优良的印制牢度，使用前景广阔。
高效水乳型圆网感光

[发明专利]高分辨率的圆网制版用感光胶-CN200510024725.5无效
发明人：潘跃进;钱松华 -专利权人：上海中大科技发展有限公司;上海中大印染材料工业有限公司
申请日： 2005-03-29 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开高分辨率的圆网制版用感光胶，该感光胶添加成膜性好的水乳液，成膜性的水乳液选自乙烯－醋酸乙烯水乳液、醋酸乙烯－丙烯酸水乳液、丙烯酸酯水乳液、有机硅－丙烯酸酯水乳液。本发明在保持了感光胶原有产品性能的基础上(例如感光光谱吸收范围在350～420mm耐印率符合技术指标)乳液的粒径达0.5～1.0μm成膜细腻、光洁、制作高目数圆网像再现性良好，分辨率高。
高分辨率制版感光

[发明专利]正型感光性组合物用显影剂-CN200410007888.8无效
发明人：佐藤勉 -专利权人：株式会社新克
申请日： 2004-03-03 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及正型感光性组合物用显影剂，是用于通过近红外线波长区域的激光曝光感应后该感应部可溶于显影液的、具有近红外线波长区域激光感应性的正型感光性组合物的显影液，其含有a)水，b)作为可以形成主材的有机或无机碱的氢氧化四甲基铵、氢氧化苄基三乙基铵、原硅酸钠等，和c)作为防止pH降低的具有缓冲作用的液剂的焦磷酸钾、三聚磷酸钠等。
感光性组合显影剂

[发明专利]光固化性·热固性树脂组合物和使用该组合物的印刷线路板-CN200510052170.5有效
发明人：植田千穗;栗原弘司 -专利权人：太阳油墨制造株式会社
申请日： 2005-02-25 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种印刷线路板用光固化性·热固性树脂组合物和使用其的印刷线路板，该印刷线路板用光固化性·热固性组合物相对于丝网印刷法、帘式涂布法、喷涂法、辊涂法等显示出经时稳定的涂布性，且耐热性、附着性、电绝缘性优异。本发明提供的光固化性·热固性树脂组合物，其特征在于：其含有(A)1分子中具有1个或以上羧基的含羧基树脂、(B)光聚合引发剂、(C)聚羟基羧酸酯系添加剂、(D)稀释剂、(E)填充剂和(F)环氧树脂。
光固化热固性树脂组合使用印刷线路板

[发明专利]鎓盐和其作为潜酸的用途-CN01820057.5有效
发明人： H·亚马托;T·阿萨库拉;A·马特苏莫托;M·奥瓦 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 2001-11-26 - 公布日： 2005-08-31 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：化学放大光刻胶组合物，包括：(a)在酸的作用下固化的化合物或其溶解度在酸的作用下增加的化合物；和(b)作为光敏酸给体的式Ia，Ib，Ic，IIa或IIc的至少一种化合物，其中R₁是例如C₁－C₅烷基，C₃－C₃₀环烷基，C₁－C₅卤代烷基，C₂－C₁₂链烯基，C₄－C₈环烯基，C₆－C₁₂双环烯基，苯基，萘基，蒽基，菲基，或是杂芳基；所有这些是未取代的或是取代的；任选一些取代基与在苯基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基环上的其它取代基，或与苯基、萘基、蒽基、菲基或杂芳基环上的碳原子之一形成5或6元环；R₁’是例如C₁－C₁₂亚烷基，C₃－C₃₀亚环烷基，亚苯基，亚萘基，二亚苯基，或氧联二亚苯基，其中这些基团是未取代或取代的；A和B例如是直接键；Ar₁和Ar₂彼此独立是苯基，萘基，蒽基，菲基或杂芳基，所有这些是未取代或取代的；Ar₃，Ar₄和Ar₅例如具有以上对于Ar₁和Ar₂给出的含义之一；Y是例如C₃－C₃₀亚环烷基，亚苯基，亚萘基，二亚苯基或氧联二亚苯基，所有这些是未取代或取代的。
作为用途

[发明专利]包含光活性化合物混合物的用于深紫外平版印刷的光刻胶组合物-CN03813607.4有效
发明人： M·帕德玛纳班;工藤隆范;李相昊;R·R·达梅尔;D·M·拉曼 -专利权人： AZ电子材料日本株式会社
申请日： 2003-06-11 - 公布日： 2005-08-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种新型光刻胶组合物，该光刻胶组合物可以采用碱性水溶液显影，并能够在深紫外中的曝光波长下成像。本发明也涉及将该新型光刻胶成像的方法以及新型光酸产生剂。
包含活性化合物混合物用于深紫平版印刷光刻组合

[发明专利]包含聚合物磺酸盐酸产生剂的辐射敏感组合物及其在成像中的用途-CN03812607.9无效
发明人：陶烃 -专利权人：柯达彩绘图案有限公司
申请日： 2003-05-29 - 公布日： 2005-08-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种辐射敏感的形成图案的组合物，其包含(1)至少一种选自式(I)和式(II)的产生酸的化合物，其中R₁、R₂、R₃、R₄、R₅和R₆独立地选自氢、硝基、羟基、羰基、卤素、氰基、未经取代的和经取代的烷基、未经取代的和经取代的环烷基基团、未经取代的和经取代的烷氧基，以及未经取代的和经取代的芳基基团；其中X⁺是选自重氮鎓、碘鎓、硫鎓、磷鎓、溴鎓、氯鎓、氧硫氧鎓、氧硫鎓、硫氧鎓、硒、碲和砷的鎓离子；并且n是从4至100的整数；(2)至少一种可被酸交联的交联剂；(3)至少一种能够与所述交联剂反应的聚合物；以及(4)至少一种红外吸收化合物。
包含聚合物盐酸产生辐射敏感组合及其成像中的用途

[发明专利]光敏半导体纳米晶和包含其的光敏组合物及其用途-CN200410102383.X有效
发明人：朴钟辰;张银珠;田信爱;安傣琼;李晟熏 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2004-10-21 - 公布日： 2005-08-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供了与包含光敏功能基团表面配位的半导体纳米晶、包括半导体纳米晶的光敏组合物、和一种通过使用光敏的半导体纳米晶或光敏组合物制造膜，曝光所述膜并显影所述曝光膜来形成半导体纳米晶图案的方法。半导体纳米晶图案与半导体纳米晶在图案形成之前相比，显示出发光特性并且可以很有用地应用于有机－无机混合电致发光装置中。
光敏半导体纳米包含组合及其用途

[发明专利]选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用-CN03811876.9无效
发明人：陶烃;黄建兵 -专利权人：柯达彩绘图案有限公司
申请日： 2003-05-22 - 公布日： 2005-08-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种用于成像光敏元件的产酸剂，所述产酸剂具有结构式(I)，(II)或(III)，式中：R¹为取代或未取代的烃基或芳基；X是O，S或Se；Y是S，Se或Te；Ar¹是取代或未取代的芳基；R²、R³和R⁴各自独立地为取代或未取代的烃基或芳基，或者R²，R³和R⁴中任意两个连接在一起形成环结构；并且R⁵和R⁶各自独立地选自取代或未取代的烃基或芳基，或者R⁵和R⁶彼此连接形成环结构。
选择产酸剂及其辐射敏感元件成像处理中的应用

[发明专利]有机抗反射涂覆组合物及用其形成光阻图案的方法-CN200410095699.0有效
发明人：郑傤昌 -专利权人：海力士半导体有限公司
申请日： 2004-11-22 - 公布日： 2005-08-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明揭示一种有机抗反射涂覆组合物及一种用其形成光阻图案以改良该图案在光阻材料超细图案形成过程中均匀性的方法。该有机抗反射涂覆组合物可避免光阻图案形成过程期间，在待曝光部分中，因光阻膜所含光酸产生剂的曝光而产生的过量酸，从而抑制该酸扩散至其它未曝光部分，以避免引起光阻图案破坏或绉缩。
有机反射组合形成图案方法

[发明专利]用于等离子体显示板的光敏导电组合物-CN200510054218.6无效
发明人：李范旭;韩东熙;申尚煜;全震焕 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2005-01-28 - 公布日： 2005-08-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种用于等离子体显示板的光敏导电组合物，它包括含有硅烷化合物的光敏导电组合物、光敏有机载体、玻璃料以及导电粉末。
用于等离子体显示光敏导电组合

[发明专利]化学增幅型抗蚀剂及图案形成方法-CN200510004698.5无效
发明人：远藤政孝;笹子胜 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2005-01-21 - 公布日： 2005-08-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：在基板上形成含有水溶性聚合物的化学增幅型抗蚀剂组成的抗蚀剂膜。其中使用水溶性聚合物根据气体透过性比化学增幅型抗蚀剂小的材料。进而通过掩模对抗蚀剂膜选择性照射曝光光线进行图案曝光，然后通过对进行了图案曝光的抗蚀剂膜进行显影，得到由抗蚀剂膜以良好形状被微细化的抗蚀剂图案。
化学增幅型抗蚀剂图案形成方法

[发明专利]沉浸式石印流体-CN200510054221.8无效
发明人：张鹏;B·M·布德赫拉尔;G·E·帕里斯;L·C·巴伯 -专利权人：气体产品与化学公司
申请日： 2005-01-21 - 公布日： 2005-08-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明公开了可以添加到沉浸流体中的合适添加剂，包含选自水流体、非水流体和其混合物的至少一种载体介质的沉浸流体，和包含至少一种载体介质和至少一种添加剂的沉浸流体，该至少一种添加剂在140nm到365nm的工作波长下可用于进行沉浸式石印。
沉浸石印流体