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[发明专利]光敏金属纳米颗粒和用其形成导电图案的方法-CN200410048459.5有效
发明人：朴钟辰;郑银贞;李相润 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2004-06-10 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：光敏金属纳米颗粒和用其形成导电图案的方法，其中，具有末端活性基团的硫醇或异氰化物化合物的自组装单分子层形成于光敏金属纳米颗粒表面上，并且光敏基团引入到该末端活性基团。所述光敏金属纳米颗粒通过暴露在光下能够容易地形成具有优异导电率的导电性膜或图案，因此，可以用于以下领域：抗静电的可洗的粘性垫子或鞋子、导电性聚氨酯印刷机滚筒、电磁干扰屏蔽等。
光敏金属纳米颗粒形成导电图案方法

[发明专利]着色感光性树脂组合物-CN200410047524.2有效
发明人：市川幸司;白川政和 -专利权人：住友化学工业株式会社
申请日： 2004-05-21 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种着色感光性树脂组合物，包含着色剂(A)、粘结剂树脂(B)、光聚合性化合物(C)、光聚合引发剂(D)、颜料分散剂(E)和溶剂(F)，所述着色感光性树脂组合物在玻璃基板上涂布形成树脂层、使所述树脂层预烘干、经掩膜曝光、显像、后烘干时，后烘干后所得到的硬化树脂层的硬度是铅笔硬度3H以上～9H以下，且预烘干、经掩膜曝光后得到的感光性树脂层在100rpm搅拌下的25℃碱水溶液中浸渍120秒后感光性树脂层非曝光部溶解的部分的透射率(400～780nm的平均值)在98％以上～100％以下。
着色感光性树脂组合

[发明专利]微石印术用光刻胶组合物中的光酸产生剂-CN01818641.6无效
发明人： V·A·佩特洛夫;F·L·沙德特三世 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2001-10-31 - 公布日： 2005-02-02 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：含有聚合物粘合剂，和选自如下的光活性组分的光刻胶组合物：(1)包含全氟烷基的异羟肟酸磺酰氧基酯，全氟烷基包含至少五个碳原子；(2)S－全氟烷基二苯并噻吩鎓盐；和(3)S－全氟烷基二芳基锍盐。这些光活性组分与聚合物粘合剂相容、其可用于在相对较短的波长，如157nm下的曝光成像。
石印用光组合中的产生

[发明专利]聚合物和含有该聚合物的光刻胶-CN200410055223.4有效
发明人： A·赞比尼;张弢;J·H·李 -专利权人：罗姆和哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2004-03-03 - 公布日： 2005-01-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供具有非碳四价元素(Si、Ti、Ge、Zr、Sn)的新聚合物和含有这种聚合物的光可成像组合物。优选的聚合物是有机的，如一种或多种含有碳原子的聚合物重复单元。尤其优选的是含有SiO₂或TiO₂重复单元的聚合物，并且其可以有利的用作在短波长例如亚－300nm和亚－200nm下抗蚀剂成像的树脂组分。
聚合物含有光刻

[发明专利]氟化的硅－聚合物和包含该聚合物的光刻胶-CN200410064070.X无效
发明人： G·G·巴克雷;S·卡纳噶萨巴帕瑟;G·泊勒斯 -专利权人：罗姆和哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2004-02-23 - 公布日： 2005-01-26 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种包括含硅聚合物的光成像组合物，该含硅聚合物的氟原子和硅原子具有特定的比率。本发明优选的光刻胶有增强的抗等离子蚀刻性。
氟化聚合物包含光刻

[发明专利]黑色矩阵用感光性树脂组成物-CN200410032208.8有效
发明人：李俊贤 -专利权人：奇美实业股份有限公司
申请日： 2004-03-26 - 公布日： 2005-01-12 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：黑色矩阵用感光性树脂组成物，包含：碱可溶性树脂(A)、含乙烯性不饱和基之化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)及黑色颜料(E)；其中，该碱可溶性树脂(A)含有下记一般式(a－1)所表示的官能基(式中，R表示各自独立之氢原子、碳数1～5之直链或分歧烷基、苯基、或卤素原子)；且该组成物于25℃所测得之粘度介于0.5～4.0cps、固成分含量介于5～25重量％，且溶剂(D)于20℃之饱和蒸气压在600Pa以下。该组成物经涂布减压干燥，表面无针孔，预烤涂膜无线形残痕、云状残痕，涂布均匀性佳，曝光感度佳，所形成黑色画素的耐热性佳。且其系以流延涂布的方式，将该树脂组成物涂布在液晶显示器的基板上。
黑色矩阵感光性树脂组成

[发明专利]着色光敏树脂组合物-CN200410035299.0有效
发明人：市川幸司 -专利权人：住友化学工业株式会社
申请日： 2004-03-26 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：着色光敏树脂组合物，其是含有着色剂(A)、粘合剂聚合物(B)、光聚合性化合物(C)、光聚合引发剂(D)、溶剂(E)和表面活性剂(F)的着色光敏树脂组合物，23℃下的该组合物的粘度为3.0～6.5mPa·s，而且，向玻璃基板上滴加10μL该组合物的0.2秒后和1秒后的接触角，都在10°～20°。其在缝隙涂布等省液涂布中使用时，可形成平坦性良好的膜。
着色光敏树脂组合

[发明专利]含有苯酚－亚联苯基树脂的负型光敏树脂组合物-CN200410047730.3有效
发明人：荒尾圭;野村真 -专利权人：罗姆和哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2004-02-06 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：提供负型光敏树脂组合物。该负型光敏树脂组合物含有酚醛清漆树脂和苯酚－亚联苯基树脂，以及环氧化合物。这些树脂组合物具有优异的对硬化树脂材料的抗热冲击性。
含有苯酚联苯树脂光敏组合

[发明专利]图像形成用感光性树脂组合物-CN200410036984.5无效
发明人：大槻信章 -专利权人：株式会社日本触媒
申请日： 2004-04-26 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种保存稳定性、碱显影性均优良的图像形成用感光性树脂组合物，其是一种含有含羧基的环氧丙烯酸酯的树脂组合物，所述含羧基的环氧丙烯酸酯是通过在酯化催化剂的存在下使1分子中具有2个以上环氧基的环氧树脂与不饱和一元酸反应、进而使该反应中获得的环氧丙烯酸酯中的羟基与多元酸酐反应而获得；其特征在于，作为酯化催化剂，使用下述通式表示的季鏻盐。式中，R¹、R²、R³、R⁴相同或不同，各表示具有可带有取代基的芳香环的有机基团，X^－表示对阴离子。
图像形成感光性树脂组合

[发明专利]固化树脂图案的形成方法-CN200410038703.X无效
发明人：八子由子 -专利权人：住友化学工业株式会社
申请日： 2004-03-23 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：固化树脂图案的形成方法，在将含有具有固化性的碱溶性树脂(A)、醌二叠氮化合物(B)、光阳离子聚合引发剂(C)的放射线敏感性组合物涂敷在基板上，除去溶剂后通过掩模照射放射线，然后在显影液中进行显影形成规定的树脂图案，向前述的树脂图案上照射放射线，进一步通过热处理进行固化从而形成固化树脂图案的方法中，照射在前述树脂图案上放射线的量为醌二叠氮化合物失活的最小必需量的40～1000％。这样可以形成具有所希望剖面形状的固化树脂图案。
固化树脂图案形成方法

[发明专利]化学放大型光刻胶组合物-CN200410038704.4无效
发明人：花元幸夫;桑名耕治;山本敏 -专利权人：住友化学工业株式会社
申请日： 2004-03-26 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种化学放大型光刻胶组合物，它含有通过将粗树脂(1)与活性炭接触所得到的经处理过的树脂(1)、酸产生剂以及溶剂，其中树脂(1)是(a)(甲基)丙烯酸树脂，它不溶或微溶于碱水溶液，但经酸作用后能溶于碱水溶液，它包含在其侧链上具有脂环烃基团的重复单元，或者(b)苯乙烯树脂，它不溶或微溶于碱水溶液，但经酸作用后能溶于碱水溶液，它含有由羟基苯乙烯衍生而来的重复单元，以及制备它的方法。
化学大型光刻组合

[发明专利]光致抗蚀剂组合物及其制备方法-CN200410059567.2无效
发明人： J·R·索尼克;F·L·沙德特三世;M·弗里德 -专利权人：纳幕尔杜邦公司
申请日： 2004-05-08 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种制备具有提高的纯度和低多分散性的聚合物的无水、液相方法，包含聚合、纯化、酯交换、纯化、除去催化剂和溶剂交换的步骤。不需要额外的处理步骤，在溶液中合成的聚合物能直接用于制备光致抗蚀剂组合物。
光致抗蚀剂组合及其制备方法

[发明专利]一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺-CN200310112654.5无效
发明人：刘干;邵美姑 -专利权人：无锡市化工研究设计院
申请日： 2003-12-12 - 公布日： 2004-11-17 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺，涉及以P(MMA－TBMA－MAA－IBMA)作为主体树脂，该抗蚀剂属具有高分辨率性能的正性抗蚀剂，或称正胶。本发明提供了主体树脂的合成，光产酸剂二苯碘三氟甲基磺酸盐的合成，本发明抗蚀剂的配方和制备方法，本发明抗蚀剂应用的光刻工艺。本发明为独立自主开发的一种电子束化学增幅正性抗蚀剂，分辨率0.13μm，灵敏度5～10μC/cm²(50kV)，达到或接近国际同类产品水平。
一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法光刻工艺

[发明专利]负性彩色感光组合物-CN02816377.X无效
发明人：堀口尚文 -专利权人：日本化药株式会社
申请日： 2002-08-21 - 公布日： 2004-11-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种用于制备彩色滤光片的负性彩色感光组合物，具有极佳的以下特性：光滑性，分辨率，成形性，抗热性，抗光照性，光谱特性，生产过程的简单性，以及感光度；并具有令人满意的保存稳定性。这种化合物由以下组分构成：粘合剂聚合物，可光聚合单体，光聚合引发剂，聚合抑制剂，染料和有机溶剂。
彩色感光组合

[发明专利]感放射线性树脂组合物-CN200310120348.6无效
发明人：八子由子 -专利权人：住友化学工业株式会社
申请日： 2003-10-30 - 公布日： 2004-11-03 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供对放射线灵敏度高，能够形成对可见光透过率高的透明固化树脂图案的感放射线性树脂组合物。本发明提供一种感放射线性树脂组合物，其特征在于：含有共聚物(A)，所述共聚物(A)包含由不饱和羧酸衍生出的结构单元(a1)和由具有氧杂环丁烷基的不饱和化合物(其中，不饱和羧酸除外)衍生出的结构单元(a2)；以及通式(1)所示苯酚化合物的醌二叠氮磺酸酯(B) (式中，Y¹、Y²、Z¹－Z⁷各自独立地表示可以被卤素原子取代的碳原子数1－4的烷基、氢原子或羟基，选自Y¹和Y²中的至少一个为羟基，且选自Z¹－Z⁷中的至少二个表示羟基，R¹－R⁶各自独立地表示氢原子，或表示碳原子数1－10的烷基、碳原子数2－4的烯基、碳原子数3－10的环烷基或苯基，上述苯基可以被碳原子数1－4的烷基、卤素原子、碳原子数1－4的烷氧基取代)。
放射线性树脂组合