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[发明专利]一种生物酶催化分解管道疏通剂及其制备方法-CN202310795309.3在审
发明人：程绍禹 -专利权人：广州市爱家有方日用品有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种生物酶催化分解管道疏通剂及其制备方法，属于技术领域。所述生物酶催化分解管道疏通剂，包括生物酶催化分解组分，所述生物酶催化分解组分，按重量份计，包括：生物酶1～10份、巯基乙酸钙0～5份、取代碱10～60份、葡萄糖酸钠5～30份、硫酸钠10～20份。本发明提供的生物酶催化分解管道疏通剂以生物酶、菌粉及取代碱等复配，不含苛性碱，使用更加安全，取代碱溶于水后形成碱性环境，提高生物酶的活性及菌的活力，生物酶、菌粉及取代碱等协同，能快速去除管道中的油脂成分，降解头发等堵塞物及臭味分子。
一种生物酶催化分解管道疏通及其制备方法

[发明专利]一种固化硅酮胶的除胶剂配方及其使用方法-CN202211080736.5有效
发明人：付成;葛生雨;郭慧君;赵亮 -专利权人：圣戈班汇杰（杭州）新材料有限公司
申请日： 2022-09-05 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种固化硅酮胶的除胶剂配方及其使用方法，该除胶剂采用高沸点和高闪点的酸催化剂和溶剂制备，其中的酸催化剂为苯磺酸或烷基苯磺酸，溶剂为白油和/或硅油，固化硅酮胶先经除胶剂浸泡30～120min，并结合80‑120℃高温烘10min以上的除胶工艺，使固化硅酮胶烘成小碎片或粉末，能够清除厚度达10mm以上的固化硅酮胶，且除胶剂的原料简单易得，安全环保，配制方便，除胶效果好，具有很好的应用前景。
一种固化硅酮配方及其使用方法

[发明专利]一种酸性离子液体及包含其的清洗剂和半导体基板清洗方法-CN202210344210.7有效
发明人：侯军;申海艳;吕晶;任浩楠 -专利权人：浙江奥首材料科技有限公司
申请日： 2022-03-31 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明提供了一种酸性离子液体及其制备方法，尤其是还提供了包含该离子液体的一种清洗剂和使用该清洗剂的半导体基板清洗方法等，所述清洗剂通过包含该离子液体，从而可与H2O2实现FEOL和BEOL等前后段全流程清洗，且能络合金属离子，抑制H2O2的分解，延长了清洗剂的使用寿命和循环次数，还保证了使用过程中的稳定性，在半导体清洗技术领域具有潜在的巨大应用前景和潜力。
一种酸性离子液体包含洗剂半导体清洗方法

[发明专利]TIN拉回和清洁组合物-CN202310303019.2在审
发明人： J·J-J·柯;T·W·于;Y-P·郑 -专利权人：巴斯夫欧洲公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种可用于控制TiN相对于W的蚀刻速率且从表面移除任何残余物，例如可能含有氟(F)的有机或无机残余物的新组合物，该组合物包含a)脂族或芳族磺酸；b)一种或多种抑制剂；c)非质子性溶剂；d)二醇醚；和e)水。本发明还涉及一种包含该组合物与氧化剂和任选地该氧化剂的稳定剂的组合的套组，及其用途。
tin 拉回清洁组合

[发明专利]一种用于在半导体晶圆清洗过程中的化学机械研磨后的清洗组合物-CN202110805013.6在审
发明人：孙秀岩;苏俊;金徽;王倩;郭磊 -专利权人：张家港安储科技有限公司
申请日： 2021-07-16 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在半导体晶圆清洗过程中的化学机械研磨后的清洗组合物，包括所述清洗组合物按照以下质量百分比的原料制成：有机碱的质量百分比1～20％，氨基酸络合剂的质量百分比0.05～20％，含氮的杂环化合物的质量百分比0.05～20％，水的质量百分比60～99％。本发明的清洗组合物，包含氨基酸为络合剂，增加对化学机械研磨后金属表面金属离子的络合，通过金属腐蚀抑制剂的选择与添加，抑制金属钴表面清洗过程中的腐蚀，保护金属钴表面，保证产品精确性，通过清洗组合物清洗抛光后的含金属的晶片，可去除抛光后晶片表面残留的研磨颗粒、金属离子等残留，降低金属表面粗燥度，降低清洗后表面缺陷，防止晶片在等待下一步工序过程中可能产生的金属腐蚀。
一种用于半导体清洗过程中的化学机械研磨组合

[发明专利]一种用于在半导体晶圆清洗过程中的清洗液-CN202110663474.4在审
发明人：孙秀岩;王倩;郭磊;苏俊;金徽 -专利权人：张家港安储科技有限公司
申请日： 2021-06-16 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于在半导体晶圆清洗过程中的清洗液，包括所述清洗液按照以下质量百分比的原料制成：胍或胍的衍生物的质量百分比1～20％，链烷醇胺的质量百分比1～20％，抗氧化剂的质量百分比0.1～10％，可选的含氮杂环的金属腐蚀阻止剂的质量百分比0.01～5％。本发明中的清洗液不含季铵碱。该清洗液除了可以有效去除抛光后铜晶片表面残留的研磨颗粒、金属离子等残留并不对铜表面明显腐蚀，该清洗液可以对在半导体高级节点中使用的钴的阻碍层具有保护性能。
一种用于半导体清洗过程中的

[发明专利]一种M20极速除锈剂-CN202110616037.7在审
发明人：黄家朗 -专利权人：佛山市雅伦高科石业有限公司
申请日： 2021-06-02 - 公布日： 2021-09-10 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种M20极速除锈剂，所述除锈剂由以下原料组分组成：纯水50‑60％、氢氧化钠8‑10％、单乙醇胺4‑6％、聚丙烯酸3.5‑3.7％、乙酸1‑1.2％和氨基磺酸24‑26％。该M20极速除锈剂PH值在8‑9之间，不会腐蚀石材，导致石材失光，能够对铁锈有较快的识别速度和去除功效，本除锈剂一旦遇上铁锈锈迹，2分钟内就会变成紫色液体，即可鉴别出是否为铁锈，15分钟即可完成反应，将石材上的铁离子清除，从而起到除锈的效果，通过这个反应，操作人员可对铁锈进行快速识别，从而选择不同的除锈解决的方案，节省了试错的时间和物料成本，提高了操作人员的工作效率和经济效益。
一种 m20 除锈

[发明专利]钨阻挡层抛光料浆组合物-CN201780048960.7有效
发明人：朴韩泰;孔铉九;李相美 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2017-06-16 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种钨阻挡层抛光料浆组合物，根据本发明的一个实施例的钨阻挡层抛光料浆组合物包括：抛光粒子；和含有硫磺的氨基酸，可改善边缘过度侵蚀EOE(edge over erosion)。
阻挡抛光组合

[发明专利]一种针对人工关节蜡模表面油污的清洗剂及处理方法-CN202010826029.0在审
发明人：陈晓旦;高子程;邢仁克;张力;魏向春;田至娟 -专利权人：无锡卡仕精密科技有限公司
申请日： 2020-08-17 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种针对人工关节蜡模表面油污的清洗剂及处理方法，属于蜡模清洗技术领域。所述清洗剂由质量浓度为85％‑95％的柠檬烯溶液和质量浓度为95％以上的2‑苯硫基乙醇混合而成，柠檬烯溶液和2‑苯硫基乙醇的体积比为2‑2.2：2.8‑3。使用本发明提供的清洗剂与处理方法清洗人工关节蜡模后，蜡件表面无油污，无腐蚀痕迹，无需使用清水漂洗，不含有害物质，不会对人体造成危害，而且清洗后的废液还能回收再利用，用于清洗油性笔书写后所留下的字迹。
一种针对人工关节表面油污洗剂处理方法

[发明专利]一种在线浊度表测量系统光洁剂-CN202010447769.3在审
发明人：杨传;王剑峰;李涛;于文涛;李晓雷;张建华 -专利权人：河北冀研能源科学技术研究院有限公司
申请日： 2020-05-25 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种在线浊度表测量系统光洁剂，包括以下重量份数的组分：污垢溶解剂10.0～18.0份、二甲苯磺酸盐2.0～4.0份、去油剂2.0～3.0份、有机硅消泡剂0.3～0.5份、增效剂3.0～5.0份、去离子水溶剂69.5～82.7份；在线浊度表测量系统光洁剂在使用时的操作步骤包括配制光洁剂、清洗光电池、清洗气泡捕集器、纯净水漂洗的步骤。本发明的在线浊度表测量系统光洁剂，能清除浊度表测量系统中的矿物质水垢等沉积物，解决对低浊度水体系统进行测量时，浊度表流量发生变化或震动等情况下浊度表测量不准确的问题。
一种在线浊度测量系统光洁

[发明专利]一种塑料瓶回收用清洗剂-CN201811244659.6在审
发明人：王凯 -专利权人：湖北健坤高分子新材料有限公司
申请日： 2018-10-24 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种塑料瓶回收用清洗剂，由下列重量份数的原料制成：二甲基亚砜10‑15份、乙醇20‑30份、无水偏硅酸钠10‑15份、羟丙基瓜尔胶15‑15份、D101大孔吸附树脂20‑50份、聚乙二醇单甲醚2‑5份、柠檬酸钠3‑5份、消泡剂5‑10份。本发明不含有毒有害的有机溶剂，绿色环保，气味刺激小，使用安全性高，清洗效率高，清洗过程中不损伤塑料基材，不影响塑料再生后塑料颗粒的应用，具有良好的应用前景。
清洗剂塑料瓶回收聚乙二醇单甲醚无水偏硅酸钠羟丙基瓜尔胶二甲基亚砜使用安全性绿色环保柠檬酸钠气味刺激清洗过程清洗效率塑料基材塑料颗粒影响塑料有机溶剂重量份数消泡剂乙醇应用损伤再生

[发明专利]一种空压机冷却器除垢剂-CN201810810346.6在审
发明人：顾小燕 -专利权人：顾小燕
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明涉及空压机冷却器除垢剂，所述空压机冷却器除垢剂由以下质量份数的成分组成：氨基磺酸28—35份，硝酸铵25—32份，氯化钠15—23份，柠檬酸3—8份，食盐7—15份，氯化铵9—17份，水87—96份。该法所制成品，无毒，无污染，除垢效果突出，原料所含柠檬酸可以促进水垢发酵变松软，减小其与箱体内壁间的附着力，利于后期的除垢作业，同时，食盐对除垢剂还可以起到还原和再生作用，在使用过本品后，可以长时间抑制水垢的再生，进而有效的提高设备的使用寿命。
除垢剂空压机冷却器柠檬酸水垢食盐附着力氯化钠氨基磺酸除垢效果使用寿命箱体内壁再生作用氯化铵硝酸铵质量份制成品本品除垢减小松软发酵还原无毒再生

[发明专利]一种还原清洗剂及其在伞面布上的应用方法-CN201510663939.0有效
发明人：许尔明 -专利权人：浙江圣山科纺有限公司
申请日： 2015-10-15 - 公布日： 2018-10-02 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种还原清洗剂，尤其是涉及一种还原清洗剂及其在伞面布上的应用方法。其主要是解决现有技术所存在的采用保险粉易产生布面前后水洗效果不均匀的现象，保险粉不易保存，还原清洗质量有差异等的技术问题。本发明将二氧化硫脲、亚硫化合物、缓冲稳定剂、脱色脱糊剂进行搅拌混合成混合物，然后将混合物投入到水中，将染色后的伞面布浸入到水中，将还原清洗剂同样加入水中，首先缓慢升温，进行保温；急速降温再次进行保温；然后急速升温进行保温；最后慢速降温进行保温，用挤压辊对伞面布进行辊轧处理，将伞面布内多余的残液挤压出去，最后再采用温水清洗，最后得到还原清洗后的伞面布。
一种还原洗剂及其伞面布上应用方法

[发明专利]一种除霉清洁剂-CN201810179388.4在审
发明人：张云;刘冬 -专利权人：苏州绿叶日用品有限公司
申请日： 2018-03-05 - 公布日： 2018-09-04 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种除霉清洁剂，主要由以下组分组成：除霉剂、螯合剂、溶剂、pH调节剂、流变改性剂、增效剂、水。该产品除霉效果好，附着力强，温和不刺激，环境友好。
清洁剂流变改性剂除霉效果附着力强环境友好除霉剂增效剂螯合剂溶剂刺激

[发明专利]一种环保型清洗剂及其制备方法-CN201610597222.5在审
发明人：周丽 -专利权人：周丽
申请日： 2016-07-26 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： C11D7/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种环保型清洗剂及其制备方法，该清洗剂包括如下原料丙烯酸80‑130份、溴甲酚绿60‑80份、氢氧化钾32‑57份、硼砂14‑31份及硅藻土8‑15份；其制备方法为将丙烯酸及溴甲酚绿投入反应釜中，在常温下搅拌8‑10min后加入氢氧化钾、硼砂及硅藻土，搅拌25‑30min即可。优点为该环保型清洗剂不仅去污效果佳，且其润滑性、抗静电性及防腐性能强，环保无污染；同时，本发明的制备方法简单，无需复杂的合成设备，安全环保。
一种环保洗剂及其制备方法

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