[发明专利]一种光学镜头的镀膜方法、装置及产品

权利要求书

1.一种光学镜头的镀膜方法，其特征在于，包括：

基于所述光学镜头的半径和所述光学镜头的第一膜层厚度获得补偿数据，所述第一膜层厚度为从所述光学镜头的中心到边缘的预设连续膜层厚度；

基于所述补偿数据中最大值及第一预设弧度，获得第二预设弧度内的第二连续半径，所述第一预设弧度≤2π，所述第二预设弧度≤π，所述第一预设弧度≥所述第二预设弧度；

基于所述第二预设弧度和所述第二连续半径，获得预设数量的基于所述光学镜头的中心对称的面形掩膜层；

基于预设蒸发源和第一预设转动方式的所述面形掩膜层，在第二预设转动方式的至少1个所述光学镜头的预设镜面上进行预设时间的镀膜获得所述第一膜层厚度的镀膜层，所述预设蒸发源为预设淀积方向的预设镀膜速率的蒸发源。

2.如权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述基于所述补偿数据中最大值及第一预设弧度，获得所述第二预设弧度内的第二连续半径的步骤，包括：

基于所述补偿数据中最大值及第一预设弧度，获得预设掩膜区域的第二膜层厚度，所述第一预设弧度为所述预设掩膜区域对应角的弧度；

基于所述补偿数据中最大值和所述第二膜层厚度，获得第一预设弧度内的第一连续半径；

基于所述补偿数据中最大值和所述第二连续半径，获得所述第二预设弧度内的第二连续半径。

3.如权利要求2所述的镀膜方法，其特征在于，

所述第二膜层厚度的计算式为：

其中，d为所述第二膜层厚度，单位为nm；

k为所述补偿数据的最大值，单位为nm；

θ为所述第一预设弧度；

π为圆周率。

4.如权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，

所述预设数量≥2。

5.如权利要求4所述的镀膜方法，其特征在于，

所述面形掩膜层包括至少1个扇形、三角形、四边形、或圆形的掩膜。

6.如权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，

所述预设淀积方向设置为所述预设蒸发源在所述面形掩膜层的下方，所述光学镜头在所述面形掩膜层的上方，所述面形掩膜层在所述光学镜头和所述预设蒸发源之间；

所述预设镀膜速率≤5nm/min。

7.如权利要求6所述的镀膜方法，其特征在于，

所述第一预设转动方式为自转；

所述第二预设转动方式为公转。

8.如权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，

所述补偿数据包括补偿函数和补偿数据阵列。

9.一种光学镜头的镀膜装置，其特征在于，

所述光学镜头的镀膜装置用于根据权利要求1至8中任一项所述光学镜头的镀膜方法执行光学镀膜操作。

10.一种光学镜头产品，其特征在于，

采用权利要求1至8中任一项所述光学镜头的镀膜方法制作的所述光学镜头产品。