[发明专利]显示面板、阵列基板、光刻胶及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111510540.0 申请日: 2021-12-10
公开(公告)号: CN114460807A 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 王辉;田尚益;崔承镇;廖辉华;宋智辉;姜庆;李荣荣 申请(专利权)人: 长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G02F1/1333
代理公司: 深圳市隆天联鼎知识产权代理有限公司 44232 代理人: 王荣
地址: 410000 湖南省长*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 显示 面板 阵列 光刻 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻胶,其特征在于,所述光刻胶的结构式为:

其中,Ph表示苯基,m的值为0~5,且-COOH可以取代苯基上的任意位置上的H,n的值为1~6。

2.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述m为2,所述n为1时,-CH2-Ph-(COOH)2的结构式为:

3.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述m为1,所述n为1时,所述-CH2-Ph-COOH的结构式为:

4.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述光刻胶通过丙烯酸类聚合物和Br(CH2)n-Ph-(COOH)m反应制得。

5.根据权利要求4所述的光刻胶,其特征在于,所述丙烯酸类聚合物和所述Br(CH2)n-Ph-(COOH)m的摩尔之比为1:(1.05~1.3)。

6.根据权利要求4所述的光刻胶,其特征在于,所述丙烯酸类聚合物和所述Br(CH2)n-Ph-(COOH)m的摩尔之比为1:1.1。

7.一种光刻胶的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

依据摩尔之比1:(1.05~1.3)称取丙烯酸类聚合物和Br(CH2)n-Ph-(COOH)m并混合均匀得到混合物;其中,Ph表示苯基,m的值为0~5,且-COOH可以取代苯基上的任意位置上的H,n的值为1~6;

依据摩尔之比为氢氧化钠:所述混合物为1:(15~20)称取氢氧化钠,并调节pH为10~11,得到反应物;

将上述反应物在N2环境下120℃~180℃下加热回流18~30h,反应完全后得粗产物;

以体积比为1:3的乙酸乙酯和石油醚为溶剂,对上述粗产物进行重结晶并过滤,将过滤所得到的液体干燥即得光刻胶。

8.根据权利要求7所述的光刻胶的制备方法,其特征在于,所述丙烯酸类聚合物和所述Br(CH2)n-Ph-(COOH)m的摩尔之比为1:1.1。

9.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底以及设置于所述衬底的色阻层和如权利要求1~6任意一项所述的光刻胶,所述光刻胶设置于所述色阻层的上方。

10.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求9所述的阵列基板以及与所述阵列基板相对设置的对侧基板。

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