[发明专利]显示面板、阵列基板、光刻胶及其制备方法在审
申请号: | 202111510540.0 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN114460807A | 公开(公告)日: | 2022-05-10 |
发明(设计)人: | 王辉;田尚益;崔承镇;廖辉华;宋智辉;姜庆;李荣荣 | 申请(专利权)人: | 长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G02F1/1333 |
代理公司: | 深圳市隆天联鼎知识产权代理有限公司 44232 | 代理人: | 王荣 |
地址: | 410000 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 阵列 光刻 及其 制备 方法 | ||
1.一种光刻胶,其特征在于,所述光刻胶的结构式为:
其中,Ph表示苯基,m的值为0~5,且-COOH可以取代苯基上的任意位置上的H,n的值为1~6。
2.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述m为2,所述n为1时,-CH2-Ph-(COOH)2的结构式为:
3.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述m为1,所述n为1时,所述-CH2-Ph-COOH的结构式为:
4.根据权利要求1所述的光刻胶,其特征在于,所述光刻胶通过丙烯酸类聚合物和Br(CH2)n-Ph-(COOH)m反应制得。
5.根据权利要求4所述的光刻胶,其特征在于,所述丙烯酸类聚合物和所述Br(CH2)n-Ph-(COOH)m的摩尔之比为1:(1.05~1.3)。
6.根据权利要求4所述的光刻胶,其特征在于,所述丙烯酸类聚合物和所述Br(CH2)n-Ph-(COOH)m的摩尔之比为1:1.1。
7.一种光刻胶的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
依据摩尔之比1:(1.05~1.3)称取丙烯酸类聚合物和Br(CH2)n-Ph-(COOH)m并混合均匀得到混合物;其中,Ph表示苯基,m的值为0~5,且-COOH可以取代苯基上的任意位置上的H,n的值为1~6;
依据摩尔之比为氢氧化钠:所述混合物为1:(15~20)称取氢氧化钠,并调节pH为10~11,得到反应物;
将上述反应物在N2环境下120℃~180℃下加热回流18~30h,反应完全后得粗产物;
以体积比为1:3的乙酸乙酯和石油醚为溶剂,对上述粗产物进行重结晶并过滤,将过滤所得到的液体干燥即得光刻胶。
8.根据权利要求7所述的光刻胶的制备方法,其特征在于,所述丙烯酸类聚合物和所述Br(CH2)n-Ph-(COOH)m的摩尔之比为1:1.1。
9.一种阵列基板,其特征在于,包括衬底以及设置于所述衬底的色阻层和如权利要求1~6任意一项所述的光刻胶,所述光刻胶设置于所述色阻层的上方。
10.一种显示面板,其特征在于,包括如权利要求9所述的阵列基板以及与所述阵列基板相对设置的对侧基板。
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