专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]阵列基板制备方法、阵列基板、显示面板和显示器-CN202310357884.5在审
  • 王辉;廖辉华;宋智辉;袁海江 - 惠科股份有限公司
  • 2023-03-30 - 2023-08-01 - H01L27/12
  • 本申请公开了一种阵列基板制备方法、阵列基板、显示面板和显示器,所述阵列基板制备方法包括:在衬底上铺设氮化硅层,并确定氮化硅层上需要开孔的过孔区域,在氮化硅层上设置刻蚀保护层,并在刻蚀保护层上对应过孔区域的位置处开设刻蚀保护孔位,基于刻蚀保护孔位对氮化硅层进行刻蚀开孔,将刻蚀保护层去除,在包括氮化硅层的衬底上设置像素层,在包括像素层的衬底上设置有机光阻层,并在有机光阻层上对应过孔区域的位置处进行开孔;由于本发明是先基于刻蚀保护孔位对氮化硅层进行刻蚀,再对有机光阻层进行开孔,从而有效地提升了刻蚀开孔效率和刻蚀质量,避免了同时对氮化硅和有机光阻进行刻蚀产生的刻蚀质量差的问题。
  • 阵列制备方法显示面板显示器
  • [发明专利]显示面板的制作方法及显示面板-CN202310193097.1在审
  • 王辉;廖辉华;宋智辉;龙康;李荣荣 - 惠科股份有限公司
  • 2023-02-20 - 2023-07-25 - H01L21/77
  • 本申请属于显示领域,具体涉及一种显示面板的制作方法及显示面板,显示面板的制作方法包括:在衬底基板上依次形成第一金属基层和第一光刻胶层,去除第一光刻胶层中部分第一溶剂再图案化第一光刻胶层,再对第一金属基层进行刻蚀形成第一金属层;在第一金属层上依次形成绝缘层、第二金属基层和第二光刻胶层,去除第二光刻胶层中部分第一溶剂再图案化第二光刻胶层,再刻蚀形成第二金属层;其中,刻蚀第一金属基层和刻蚀第二金属基层的刻蚀液相同,第一金属层的坡角小于第二金属层的坡角。采用相同刻蚀液形成第一金属层和第二金属层,且使第一金属层的坡角小于第二金属层的坡角,在保证显示面板显示质量的同时,降低了显示面板的制作成本。
  • 显示面板制作方法
  • [实用新型]一种浮置板道床用新结构隔振器外套筒-CN202121777888.1有效
  • 卢柏林;谭广洲;王正江;姜昆;郭必永;管步进;朱泽民;衡亚洲;宋智辉 - 道尔道科技股份有限公司
  • 2021-07-30 - 2023-02-14 - E01B19/00
  • 一种浮置板道床用新结构隔振器外套筒,包括底板、外管、吊耳、连接板和限位销,所述外管焊接在所述底板上,所述吊耳焊接在所述外管的外侧壁上,所述连接板焊接在所述外管的内侧壁上,所述连接板为分体式工字型结构,所述限位销焊接在所述外管的内侧壁上。该浮置板道床用新结构隔振器外套筒具有以下优点和效果:1、连接板内部有预留的顶升空间,不需要采用传统的外置顶升工装夹具,提高城市轨道交通前期施工的进度。2、连接板结构简单,取消了复杂的维修工装,有更大的空间设计出简单快捷的施工办法。3、新结构采用简洁化的设计制作工艺,降低了产品重量。4、焊接强度高。5、可适用不同高度浮置板。6、材料利用率高,更加经济环保。
  • 一种浮置板道床结构隔振器外套
  • [发明专利]显示面板及显示装置-CN202210809914.7有效
  • 陈阳;廖辉华;姜庆;宋智辉;郑浩旋 - 惠科股份有限公司
  • 2022-07-11 - 2022-10-28 - H01L27/32
  • 本申请提供了一种显示面板及显示装置,显示面板包括弯折相连的第一弯折部及本体部,显示面板具有第一区域以及第二区域,至少部分第一区域对应第一弯折部设置,第二区域对应本体部设置,显示面板还包括多个第一发光单元及多个第二发光单元,多个第一发光单元设于第一区域,第一发光单元具有第一发光面积;多个第二发光单元设于第二区域,第二发光单元具有第二发光面积,第一发光面积小于第二发光面积,且第一区域中第一发光单元的密度大于第二区域中第二发光单元的密度。本申请提供的显示面板中,能够避免显示面板中高曲度位置容易产生边缘发绿或发紫等现象。
  • 显示面板显示装置
  • [发明专利]蚀刻方法及蚀刻液-CN202210754995.5在审
  • 宋智辉;王辉;廖辉华;康报虹 - 惠科股份有限公司
  • 2022-06-30 - 2022-09-30 - H01L21/3213
  • 本申请公开了一种蚀刻方法及蚀刻液,用于蚀刻由导电层和过渡金属层堆叠形成的复合金属线,所述蚀刻方法包括步骤:提供一基板,所述基板的表面设置有复合金属层,在所述复合金属层上形成蚀刻阻挡层图案;朝所述复合金属层喷涂主蚀刻液;检测所述主蚀刻液中含导电层金属离子的浓度,当所述主蚀刻液中含导电层金属离子浓度上升后,朝所述主蚀刻液中加入添加剂,将所述复合金属层蚀刻成复合金属线;其中,所述主蚀刻液和添加剂均包括:氧化剂、氟化物离子、螯合剂、有机碱、唑类化合物、表面活性剂、抗电位刻蚀剂和溶剂。采用上述蚀刻方法进行蚀刻,能够使得复合金属线在蚀刻后轮廓平滑,无逆向蚀刻截面角度、二段角、蚀刻残留的不良问题。
  • 蚀刻方法

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