专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果28个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]显示基板的制备方法、显示基板和显示面板-CN202210325379.8有效
  • 王辉;廖辉华;康报虹 - 长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司
  • 2022-03-30 - 2023-08-25 - G02F1/1333
  • 本申请公开了一种显示基板的制备方法、显示基板和显示面板,所述制备方法包括步骤:在衬底上形成色阻层;在色阻层上涂布有机绝缘光阻材料以形成具有第一预设厚度的机绝缘光阻层;对所述色阻层和所述有机绝缘光阻层所在的设备中进行抽真空处理;对所述有机绝缘光阻层进行曝光处理;以及经显影以得到第二预设厚度的有机绝缘光阻层;其中,所述第二预设厚度与所述第一预设厚度的比值为所述有机绝缘光阻层的残膜率,所述残膜率的值小于等于70%,且大于等于60%。通过控制有机绝缘光阻的成膜厚度,以改善在显示基板制程中色阻颜料中的金属元素或附着的离子不纯物跑出至有机绝缘光阻层,引起的显示残像问题。
  • 显示制备方法面板
  • [发明专利]阵列基板制备方法、阵列基板、显示面板和显示器-CN202310357884.5在审
  • 王辉;廖辉华;宋智辉;袁海江 - 惠科股份有限公司
  • 2023-03-30 - 2023-08-01 - H01L27/12
  • 本申请公开了一种阵列基板制备方法、阵列基板、显示面板和显示器,所述阵列基板制备方法包括:在衬底上铺设氮化硅层,并确定氮化硅层上需要开孔的过孔区域,在氮化硅层上设置刻蚀保护层,并在刻蚀保护层上对应过孔区域的位置处开设刻蚀保护孔位,基于刻蚀保护孔位对氮化硅层进行刻蚀开孔,将刻蚀保护层去除,在包括氮化硅层的衬底上设置像素层,在包括像素层的衬底上设置有机光阻层,并在有机光阻层上对应过孔区域的位置处进行开孔;由于本发明是先基于刻蚀保护孔位对氮化硅层进行刻蚀,再对有机光阻层进行开孔,从而有效地提升了刻蚀开孔效率和刻蚀质量,避免了同时对氮化硅和有机光阻进行刻蚀产生的刻蚀质量差的问题。
  • 阵列制备方法显示面板显示器
  • [发明专利]显示面板的制作方法及显示面板-CN202310193097.1在审
  • 王辉;廖辉华;宋智辉;龙康;李荣荣 - 惠科股份有限公司
  • 2023-02-20 - 2023-07-25 - H01L21/77
  • 本申请属于显示领域,具体涉及一种显示面板的制作方法及显示面板,显示面板的制作方法包括:在衬底基板上依次形成第一金属基层和第一光刻胶层,去除第一光刻胶层中部分第一溶剂再图案化第一光刻胶层,再对第一金属基层进行刻蚀形成第一金属层;在第一金属层上依次形成绝缘层、第二金属基层和第二光刻胶层,去除第二光刻胶层中部分第一溶剂再图案化第二光刻胶层,再刻蚀形成第二金属层;其中,刻蚀第一金属基层和刻蚀第二金属基层的刻蚀液相同,第一金属层的坡角小于第二金属层的坡角。采用相同刻蚀液形成第一金属层和第二金属层,且使第一金属层的坡角小于第二金属层的坡角,在保证显示面板显示质量的同时,降低了显示面板的制作成本。
  • 显示面板制作方法
  • [发明专利]显示面板及显示装置-CN202210809914.7有效
  • 陈阳;廖辉华;姜庆;宋智辉;郑浩旋 - 惠科股份有限公司
  • 2022-07-11 - 2022-10-28 - H01L27/32
  • 本申请提供了一种显示面板及显示装置,显示面板包括弯折相连的第一弯折部及本体部,显示面板具有第一区域以及第二区域,至少部分第一区域对应第一弯折部设置,第二区域对应本体部设置,显示面板还包括多个第一发光单元及多个第二发光单元,多个第一发光单元设于第一区域,第一发光单元具有第一发光面积;多个第二发光单元设于第二区域,第二发光单元具有第二发光面积,第一发光面积小于第二发光面积,且第一区域中第一发光单元的密度大于第二区域中第二发光单元的密度。本申请提供的显示面板中,能够避免显示面板中高曲度位置容易产生边缘发绿或发紫等现象。
  • 显示面板显示装置
  • [发明专利]蚀刻方法及蚀刻液-CN202210754995.5在审
  • 宋智辉;王辉;廖辉华;康报虹 - 惠科股份有限公司
  • 2022-06-30 - 2022-09-30 - H01L21/3213
  • 本申请公开了一种蚀刻方法及蚀刻液,用于蚀刻由导电层和过渡金属层堆叠形成的复合金属线,所述蚀刻方法包括步骤:提供一基板,所述基板的表面设置有复合金属层,在所述复合金属层上形成蚀刻阻挡层图案;朝所述复合金属层喷涂主蚀刻液;检测所述主蚀刻液中含导电层金属离子的浓度,当所述主蚀刻液中含导电层金属离子浓度上升后,朝所述主蚀刻液中加入添加剂,将所述复合金属层蚀刻成复合金属线;其中,所述主蚀刻液和添加剂均包括:氧化剂、氟化物离子、螯合剂、有机碱、唑类化合物、表面活性剂、抗电位刻蚀剂和溶剂。采用上述蚀刻方法进行蚀刻,能够使得复合金属线在蚀刻后轮廓平滑,无逆向蚀刻截面角度、二段角、蚀刻残留的不良问题。
  • 蚀刻方法
  • [发明专利]基板对组标记方法及其显示面板、显示装置-CN202011408247.9有效
  • 廖辉华 - 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
  • 2020-12-03 - 2022-07-12 - G02F1/1333
  • 本申请公开了一种基板对组标记的制备方法及其显示面板、显示装置,该方法包括:提供具有BM标记的CF基板;将具有BM标记的CF基板作为基准玻璃基板;基准玻璃基板上包括多个BM标记;提供基于BPS工艺制备的CF基板;将基于BPS工艺制备的CF基板作为待标记CF基板;基于基准玻璃基板上的各个BM标记的BM标记位置,在待标记CF基板上分别制备一一对应各BM标记的各个LOC标记,使得各BM标记位置与各对应LOC标记的LOC标记位置一一对应重合,进而改善LOC产品单独制造时因玻璃精度差异导致的标记(mark)偏移,达到Cell制程正常且精准的对组需求,提升BPS产品的LOC标记精度,改善Cell制程的对组精度,减少了破片率,且提升了良率。
  • 标记方法及其显示面板显示装置
  • [发明专利]光刻胶、显示基板及显示面板-CN202111450252.0在审
  • 姜庆;廖辉华;杨文萍;李荣荣 - 长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司
  • 2021-11-30 - 2022-03-22 - G03F7/004
  • 本申请适用于显示技术领域,具体提供了一种光刻胶、显示基板及显示面板,该光刻胶中含有至少一种如下式(Ⅰ)所示的颜料分散剂:(Ⅰ),其中,A包括亚烷基或亚烯基;Z包括羧基,羟基,巯基,取代的烷基,及取代或未取代的烷氧基、烯基、烯氧基、酯基、酰基中的一种或多种,取代的烷基、烯基中的取代基包括羧基、羟基、巯基中的至少一种,取代的烷氧基、烯氧基、酰基、酯基中的取代基包括羧基、羟基、巯基、烷氧基中的至少一种。该颜料分散剂的吡咯基团对炭黑等黑色颜料的亲和力高,Z基团在光刻胶溶剂中的分散性好,使得该颜料分散剂能显著提高黑色颜料在光刻胶的分散性。
  • 光刻显示面板

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top