[发明专利]像素结构和图像传感器

权利要求书

1.一种像素结构，其特征在于，包括：

多个邻接且阵列排布的像素单元，相邻所述像素单元之间设置有第一光学隔墙；

微透镜组件，所述微透镜组件位于所有所述像素单元上侧，且所述微透镜组件与所有所述像素单元相对；

其中，所述像素单元包括由上至下依次设置的彩色滤光片、像素微透镜和光电转换层，相邻所述像素单元的彩色滤光片的颜色不同，相邻所述彩色滤光片之间、相邻所述像素微透镜之间和相邻所述光电转换层之间分别具有第一光学隔墙，所述第一光学隔墙为采用深槽隔离技术形成的结构。

2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，至少四个所述像素单元排布形成子像素结构，所述像素结构包括多个子像素结构，所述微透镜组件包括第一透镜单元，所述第一透镜单元由多个第一微透镜在同一平面内排布形成；其中，所述第一微透镜与所述子像素结构一一对应地相对设置，使所述第一微透镜相对的所述像素单元中至少具有两个颜色相同的所述彩色滤光片。

3.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述子像素结构包括4个所述像素单元，4个所述像素单元呈2×2矩阵形式排列，其中一对对角设置的所述像素单元具有相同颜色的所述彩色滤光片。

4.根据权利要求2所述的像素结构，其特征在于，所述子像素结构包括9个所述像素单元，9个所述像素单元呈3×3矩阵形式排列，在矩阵边缘上分布的所述像素单元中，相对的所述像素单元具有相同颜色的所述彩色滤光片。

5.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，在所述像素单元中设置有第二光学隔墙，所述第二光学隔墙由所述彩色滤光片延伸至所述光电转换层，且所述第二光学隔墙垂直于所述光电转换层；

所述第二光学隔墙至少将所述像素单元分隔成第一子单元和第二子单元，所述第一子单元和所述第二子单元由上至下分别具有所述彩色滤光片和所述像素微透镜，且所述第一子单元和所述第二子单元共用所述光电转换层。

6.根据权利要求5所述的像素结构，其特征在于，所述第二光学隔墙嵌入所述光电转换层。

7.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述微透镜组件至少包括由上至下由依次排列的第二透镜单元和第三透镜单元。

8.根据权利要求7所述的像素结构，其特征在于，所述第二透镜单元由多个第二微透镜在同一平面内排布形成，所述第三透镜单元由多个第三微透镜在同一平面内排布形成，所述第二微透镜和所述第三微透镜的形状和/或大小不同。

9.根据权利要求7所述的像素结构，其特征在于，所述第二透镜单元和所述第三透镜单元的制造材料为纳米材料。

10.一种图像传感器，其特征在于，包括权利要求1－9中任一项所述的像素结构。