[发明专利]基板处理装置、基板处理设备以及基板处理方法在审
申请号: | 202011145117.0 | 申请日: | 2020-10-23 |
公开(公告)号: | CN112735975A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 朴仁煌;金成弼;金局生;金耿民 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 | 代理人: | 李英艳;玉昌峰 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 装置 设备 以及 方法 | ||
1.一种基板处理装置,包括:
旋转单元,支承基板,并使基板旋转;
药液喷出单元,向所述旋转单元喷出药液;
药液回收单元,与所述旋转单元相邻设置,并回收从所述旋转单元飞散的药液;
升降单元,与所述药液回收单元结合,并使所述药液回收单元能够相对于所述旋转单元沿上下方向移动;以及
一个以上位置矫正部件,使所述药液回收单元能够相对于所述升降单元被弹性支承,并使得药液回收单元针对所述升降单元的相对位置能够改变。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
所述药液回收单元包括:
主体部,回收药液;以及
支架部,从所述主体部向外部凸出。
3.根据权利要求2所述的基板处理装置,其中,
所述升降单元包括:
移动部件,构成为棒形状,并贯通所述支架部,并且支承所述位置矫正部件;
动力产生部件,使所述移动部件升降;以及
防脱离部件,在所述移动部件贯通所述支架部的状态下结合于所述移动部件的末端部分。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中,
所述位置矫正部件设置成围绕所述移动部件,并位于所述动力产生部件与所述支架部之间。
5.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中,
所述基板处理装置还包括:
防应力部件,设置成供所述移动部件贯通,并介于所述防脱离部件与所述支架部之间。
6.根据权利要求5所述的基板处理装置,其中,
所述防应力部件是球形状。
7.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中,
所述位置矫正部件是两个,任一个位置矫正部件设置成围绕所述移动部件,并位于所述动力产生部件与所述支架部之间,剩余一个位置矫正部件位于所述防脱离部件与所述支架部之间。
8.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,
所述位置矫正部件是压缩弹簧。
9.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中,
所述动力产生部件包括:
气缸,包括内部空间;
活塞,位于所述气缸的内部空间,并与所述移动部件结合,并且沿所述气缸的长度方向移动;以及
压力调节器,连接于所述气缸,并调节所述气缸的内部空间的压力。
10.一种基板处理设备,包括:
装载埠,被安装收纳有基板的载体;
索引腔室,在内部提供索引机器人,所述索引机器人从安装于所述装载埠的载体运送所述基板;以及
工艺处理部,提供基板处理装置,所述基板处理装置对所述基板执行液处理工艺,
其中,所述基板处理装置包括:
旋转单元,支承所述基板,并使所述基板旋转;
药液喷出单元,向所述旋转单元喷出药液;
药液回收单元,与所述旋转单元相邻设置,并回收从所述旋转单元飞散的药液;
升降单元,与所述药液回收单元结合,并使所述药液回收单元能够相对于所述旋转单元沿上下方向移动;以及
一个以上位置矫正部件,使所述药液回收单元能够相对于所述升降单元被弹性支承,并使得药液回收单元针对所述升降单元的相对位置能够改变。
11.根据权利要求10所述的基板处理设备,其中,
所述药液回收单元包括:
主体部,回收药液;以及
支架部,从所述主体部向外部凸出。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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