[发明专利]套刻误差测量装置及其测量方法和优化方法有效

专利信息
申请号: 202011056590.1 申请日: 2020-09-29
公开(公告)号: CN112198763B 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 刘世元;王鹏;陈修国;张劲松;石雅婷 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01N21/956;G01B11/00
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 孔娜;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 误差 测量 装置 及其 测量方法 优化 方法
【权利要求书】:

1.一种套刻误差测量装置,其特征在于,所述装置包括:

照明系统(110),用于产生探测光;

设于所述照明系统(110)光路上的起偏臂(120),所述起偏臂(120)沿光路依次包括起偏器(121)、第一相位延迟器(122)、第二相位延迟器(123)以及第一透镜组(124),所述起偏器(121)将所述探测光转化为线性偏振光,所述第一相位延迟器(122)与第二相位延迟器(123)对所述线性偏振光进行调制,第一透镜组(124)将调制后的线性偏振光会聚至待测套刻样件表面,所述第一相位延迟器(122)与第二相位延迟器(123)采用双折射晶体制作而成;

与所述起偏臂(120)沿待测套刻样件表面的法线对称设置的检偏臂(130),所述检偏臂(130)沿光路依次包括第二透镜组(131)、第三相位延迟器(132)、第四相位延迟器(133)以及检偏器(134),经所述待测套刻样件表面反射后的反射光经所述第二透镜组(131)准直后通过所述第三相位延迟器(132)、第四相位延迟器(133)以及检偏器(134)解调,所述第三相位延迟器(132)与第四相位延迟器(133)采用双折射晶体制作而成,所述起偏器(121,221)的方位角为0°,所述检偏器(134,243)的方位角为0°或90°,所述第一相位延迟器(122,222)的方位角为45°,所述第二相位延迟器(123,223)的方位角为0°、所述第三相位延迟器(132,241)的方位角为0°以及第四相位延迟器(133,242)的方位角为45°;

设于所述检偏臂(130)光路上的探测系统(140),所述探测系统(140)将检偏臂(130)解调的光束会聚并将所述光束发送至数据处理系统(150),所述数据处理系统(150)将所述光束转化为穆勒矩阵,并根据所述穆勒矩阵获得套刻误差。

2.一种套刻误差测量装置,其特征在于,所述装置包括:

照明系统(210),用于产生探测光;

设于所述照明系统(210)光路上的起偏臂(220),所述起偏臂(220)沿光路依次包括起偏器(221)、第一相位延迟器(222)以及第二相位延迟器(223),所述起偏器(221)将所述探测光转化为线性偏振光,所述第一相位延迟器(222)与第二相位延迟器(223)对所述线性偏振光进行调制,所述第一相位延迟器(122)与第二相位延迟器(123)采用双折射晶体制作而成;

设于所述起偏臂(220)光路上的入射角扫描系统(230),入射角扫描系统(230)沿光路依次包括扫描反射镜(231)、分束器(232)以及高数值孔径物镜(233),所述起偏臂(220)调制后的光束被所述扫描反射镜(231)和分束器(232)偏折后被所述高数值孔径物镜(233)会聚至待测套刻样件表面,所述光束被所述待测套刻样件反射并被所述高数值孔径物镜(233)收集后透过所述分束器(232)射出;

设于所述入射角扫描系统(230)光路上的检偏臂(240),所述检偏臂(240)沿光路依次包括第三相位延迟器(241)、第四相位延迟器(242)以及检偏器(243),所述第三相位延迟器(132)与第四相位延迟器(133)采用双折射晶体制作而成,所述起偏器(121,221)的方位角为0°,所述检偏器(134,243)的方位角为0°或90°,所述第一相位延迟器(122,222)的方位角为45°,所述第二相位延迟器(123,223)的方位角为0°、所述第三相位延迟器(132,241)的方位角为0°以及第四相位延迟器(133,242)的方位角为45°;

设于所述检偏臂(240)光路上的探测系统(250),所述探测系统(250)将检偏臂(240)解调的光束会聚并将所述光束发送至数据处理系统(260),所述数据处理系统(260)将所述光束转化为穆勒矩阵,并根据所述穆勒矩阵获得套刻误差。

3.根据权利要求1或2所述的套刻误差测量装置,其特征在于,所述第一相位延迟器(122,222)、第二相位延迟器(123,223)、第三相位延迟器(132,241)以及第四相位延迟器(133,242)的厚度比为1:1:5:5或者1:2:5:10或者1:4:2:9。

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