[发明专利]一种等离子体去胶装置

权利要求书

1.一种等离子体去胶装置，其特征在于，该装置包括真空室(13)、沿竖直方向贯穿真空室(13)底部的转轴(7)、与转轴(7)的底部传动连接的转轴驱动机构、设置在转轴(7)顶部的可调式样品支撑机构、设置在真空室(13)内并位于可调式样品支撑机构上方的等离子体发生单元、气体恒温循环系统、气瓶(12)及真空泵(11)，所述的气体恒温循环系统的一端与真空室(13)的侧面相连通，另一端与真空室(13)的顶部相连通，所述的气瓶(12)及真空泵(11)分别与真空室(13)的内部相连通；

所述的转轴驱动机构包括电机(8)以及设置在电机(8)与转轴(7)之间的传动齿轮组(19)，所述的转轴(7)为升降轴，所述的转轴(7)上设有高度调节旋钮(21)；

所述的可调式样品支撑机构包括多个沿周向均匀布设在转轴(7)顶部的支撑臂(6)、套设在支撑臂(6)上并可沿支撑臂(6)长度方向移动的支撑底座(2)以及设置在支撑底座(2)上的固定旋钮(14)；

所述的等离子体发生单元包括依次交替设置的多个低压电极(3)及多个高压电极(4)，所述的低压电极(3)及高压电极(4)均位于可调式样品支撑机构的上方；

所述的气体恒温循环系统包括气体恒温循环管道(20)以及分别设置在气体恒温循环管道(20)上的恒温加热器(9)、风机(10)，所述的气体恒温循环管道(20)的一端与真空室(13)的侧面相连通，另一端与真空室(13)的顶部相连通。

2.根据权利要求1所述的一种等离子体去胶装置，其特征在于，所述的真空室(13)的下方设有电机安装室(18)，所述的转轴驱动机构位于电机安装室(18)内。

3.根据权利要求1所述的一种等离子体去胶装置，其特征在于，所述的支撑臂(6)的侧面沿支撑臂(6)长度方向开设有固定槽(17)，所述的固定旋钮(14)的一端穿过支撑底座(2)的侧面并伸入固定槽(17)内。

4.根据权利要求1所述的一种等离子体去胶装置，其特征在于，所述的支撑底座(2)包括底部支撑部(201)以及外侧限位部(202)。

5.根据权利要求1所述的一种等离子体去胶装置，其特征在于，所述的气体恒温循环管道(20)上位于真空室(13)顶部的一端设有气体喷头(5)。

6.根据权利要求1所述的一种等离子体去胶装置，其特征在于，所述的真空室(13)的侧壁上设有密封门(15)及观察窗(16)。