[实用新型]一种气相沉积炉内气体悬浮装置

说明书

本实用新型提供了一种气相沉积炉内气体悬浮装置，包括平行设置并且旋转配合的石墨盘和底座，所述底座上设有主进气孔、第一分气孔、第二分气孔、第一倾斜出气孔和第二倾斜出气孔，所述第一分气孔、第二分气孔分别位于所述主进气孔的两侧，所述第一分气孔、第二分气孔分别与所述主进气孔交汇连通于同一点。本实用新型的有益效果是：在主进气孔的同一位置分出第一分气孔、第二分气孔，再分别通过第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔产生旋转气体，推动石墨盘悬浮并转动，保证了气体流动阻力一致，有效保证了两倾斜气体流量一样，悬浮效果好，旋转顺畅，可显著提高薄膜均匀性以及质量，并有效延长装置的使用周期。

技术领域

本实用新型涉及气相沉积炉，尤其涉及一种气相沉积炉内气体悬浮装置。

背景技术

气相沉积的基本原理涉及反应化学、热力学、动力学、转移机理、膜生长现象和反应工程。主要以金属蒸气、挥发性金属卤化物、氢化物或金属有机化合物等蒸气为原料，进行气相热分解反应，以及两种以上单质或化合物的反应，再凝聚生成各种形态的材料。化学气相沉积工艺中，沉积薄膜的均匀性极为重要，薄膜的均匀性主要受到炉内气体分布的影响。化学气相沉积过程是一个极为复杂的化学过程，气体是否均匀分布会对工艺的沉积速率、膜层的致密性、薄膜均匀性等产生较大影响。通常来说化学气相沉积受气体流场等工艺因素影响均匀性难以保证，为了提高涂层均匀性一般采用石墨盘旋转装置，可以达到稳定生产的目的。

现有技术的石墨盘旋转装置通常包括石墨盘和底座，底座中主气道和两个倾斜气孔直接连接，用于产生旋转气体推动石墨盘悬浮并转动，倾斜气孔一个在前，一个在后，流经前气孔的阻力比后气孔的阻力小，故流过前气孔的气体多，前气孔受到工艺气体的腐蚀也大，导致前气孔孔径变大影响到气体流量均匀性，从而容易影响到石墨盘的的正常悬浮和旋转，导致装置失效。

发明内容

为了解决现有技术中的问题，本实用新型提供了一种气相沉积炉内气体悬浮装置。

本实用新型提供了一种气相沉积炉内气体悬浮装置，包括平行设置并且旋转配合的石墨盘和底座，所述底座上设有主进气孔、第一分气孔、第二分气孔、第一倾斜出气孔和第二倾斜出气孔，所述第一分气孔、第二分气孔分别位于所述主进气孔的两侧，所述第一分气孔、第二分气孔分别与所述主进气孔交汇连通于同一点，所述第一分气孔与所述第一倾斜出气孔连接，所述第二分气孔与所述第二倾斜出气孔连接，所述主进气孔、第一分气孔、第一倾斜出气孔连通形成第一气道，所述主进气孔、第二分气孔、第二倾斜出气孔连通形成第二气道，所述第一气道、第二气道用于产生旋转气体，推动所述石墨盘悬浮并转动。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一分气孔、第二分气孔的轴线相重合，所述第一分气孔、第二分气孔分别垂直于所述主进气孔。

作为本实用新型的进一步改进，所述主进气孔、第一分气孔、第二分气孔的轴线均平行于水平面，所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔的轴线均与水平面成锐角。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔对称设置。

作为本实用新型的进一步改进，所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔的表面均覆盖有碳化硅涂层。

作为本实用新型的进一步改进，所述底座上设有转轴，所述石墨盘上设有转孔，所述转轴设置在所述转孔之内。

作为本实用新型的进一步改进，所述底座上设有气道镶块，所述第一分气孔、第二分气孔、第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔均位于所述气道镶块之内，所述底座与所述气道镶块为密封配合。

作为本实用新型的进一步改进，所述石墨盘贴合所述底座的底面上设有与所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔相对应的旋转气槽，所述第一倾斜出气孔、第二倾斜出气孔射出的倾斜气体进入所述旋转气槽产生旋转气体，推动所述石墨盘悬浮并转动。