[发明专利]一种等离子工艺设备有效

专利信息
申请号: 201911156301.2 申请日: 2019-11-22
公开(公告)号: CN111048392B 公开(公告)日: 2022-09-16
发明(设计)人: 赵晓丽 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;姜春咸
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子 工艺设备
【说明书】:

发明提供一种等离子工艺设备,该等离子工艺设备包括电磁波转换组件和工艺腔,电磁波转换组件包括天线板,天线板用于接收电磁波,以将接收到的电磁波以电磁场的形式馈入工艺腔中,天线板包括中央区域和环绕其设置的边缘区域,天线板的边缘区域形成有至少一个边缘缝隙。在本发明中,天线板边缘形成的边缘缝隙能够产生呈边缘位置的场强高、中央场位置的场强低的边缘电磁场,与天线板中央的缝隙产生的电磁场互补,在工艺腔中得到均匀分布的等离子体,从而提高工艺腔中等离子体分布的均匀性,并且最终得到的电磁场相当于两种缝隙天线所产生的电磁场的叠加,因此在环境参数改变时,该电磁场的场强更稳定,能够提高等离子工艺的均匀性和可重复性。

技术领域

本发明涉及微电子加工设备领域,具体地,涉及一种等离子工艺设备。

背景技术

等离子工艺设备通常包括工艺腔和缝隙天线,在进行等离子工艺时,首先向工艺腔内通入工艺气体,而后向缝隙天线提供电磁波,使电磁波通过缝隙天线馈入工艺腔,并在工艺腔中形成电磁场,击穿工艺气体放电,以对工艺气体进行电离,激发出等离子体,从而利用等离子体对工艺腔中的待加工件(例如晶片)进行等离子工艺加工。然而,现有的等离子工艺设备在进行表面波等离子体加工时,通常不能均匀地加工待加工件的加工面,工艺效果不佳。

因此,如何提供一种能够均匀地加工晶片表面的等离子工艺设备成为本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明旨在提供一种等离子工艺设备,该等离子工艺设备能够均匀地加工晶片表面。

为实现上述目的,本发明提供一种等离子工艺设备,所述等离子工艺设备包括电磁波转换组件和工艺腔,所述电磁波转换组件包括天线板,所述天线板用于接收电磁波,且所述天线板设置在所述工艺腔内,以将接收到的电磁波以电磁场的形式馈入所述工艺腔中,所述天线板包括中央区域和环绕所述中央区域设置的边缘区域,在所述中央区域形成有至少一个中央缝隙,且在所述边缘区域形成有至少一个边缘缝隙。

可选地,所述中央缝隙沿厚度方向贯穿所述中央区域,所述边缘缝隙沿厚度方向贯穿所述边缘区域。

优选地,所述边缘缝隙包括第一缝隙部和与所述第一缝隙部相通的第二缝隙部,所述第一缝隙部的延伸方向与所述第二缝隙部的延伸方向相交。

优选地,对于同一所述边缘缝隙,所述第一缝隙部沿所述中央区域的周向延伸,所述第二缝隙部沿所述中央区域的径向延伸,所述第二缝隙部的一端与所述第一缝隙部相连,所述第二缝隙部的另一端位于所述第一缝隙部的内侧。

可选地,所述天线板包括天线板主体、至少一个连接部和至少一个支臂部,所述支臂部与所述连接部一一对应,所述连接部用于将与该连接部相对应的支臂部与所述天线板主体连接,以在所述支臂部与所述天线板主体之间形成所述边缘缝隙,所述连接部和所述支臂部的延伸方向相交。

优选地,所述支臂部沿所述天线板主体的周向延伸。

优选地,所述连接部沿所述天线板主体的径向延伸。

可选地,多个所述中央缝隙沿圆周方向阵列排布。

可选地,所述电磁波转换组件还包括石英窗和慢波板,所述慢波板设置在所述天线板背离所述工艺腔的一侧,所述石英窗设置在所述天线板朝向所述工艺腔的一侧。

可选地,所述等离子工艺设备还包括电磁波生成组件,用于向所述天线板提供电磁波。

在本发明提供的等离子工艺设备中,天线板边缘区域形成的边缘缝隙能够产生呈边缘位置的场强高、中央场位置的场强低趋势的边缘电磁场,与天线板中央的缝隙产生的呈边缘位置的场强低、中央场位置的场强高趋势的电磁场互补,在工艺腔中得到均匀分布的等离子体,从而提高工艺腔中等离子体分布的均匀性。并且该天线板最终得到的电磁场相当于两种缝隙天线所产生的电磁场的叠加,因此在环境参数改变时,该电磁场的场强更稳定,能够提高等离子工艺的均匀性和可重复性。

附图说明

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