[发明专利]用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备在审
申请号: | 201911138349.0 | 申请日: | 2019-11-20 |
公开(公告)号: | CN112824556A | 公开(公告)日: | 2021-05-21 |
发明(设计)人: | 祝海生;陈立;金诚明;凌云;孙桂红;梁红;黄国兴;黄乐 | 申请(专利权)人: | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 湖南乔熹知识产权代理事务所(普通合伙) 43262 | 代理人: | 安曼 |
地址: | 411100 湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 arc 镀膜 生产线 基片翻面 设备 | ||
本发明提供了用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备,包括基片架、旋转底板、基片架底座、固定座和旋转电机,固定座固定在所述镀膜生产线的箱体内,旋转电机安装在固定座上,基片架位于旋转底板上,旋转电机连接并驱动旋转底板和基片架转动。本发明旋转底板和基片架底座同步旋转,带动基片架同步转动,实现基片架翻面的同时旋转平稳;基片架上设有多个基片区,可放置多个基片,充分利用基片架的位置。
技术领域
本发明涉及镀膜生产技术领域,具体为用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备。
背景技术
真空镀膜是以真空技术为基础,利用物理或化学方法,并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术,在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射,使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法。ARC(减反射)镀膜需要提高待镀膜基片的减反射性能,因此常常需要对待镀膜的基片进行双面镀膜,而待镀膜的基片安装在基片架上,一次只能对基片的一面进行镀膜,如此便会使镀膜生产线的长度较长。
发明内容
针对现有技术存在的上述问题,本发明的目的是提供用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备,旋转底板和基片架底座同步旋转,带动基片架同步转动,实现基片架翻面的同时旋转平稳;基片架上设有多个基片区,可放置多个基片,充分利用基片架的位置。
为了实现上述目的,本发明所采用的技术方案是:
用于ARC镀膜生产线的基片翻面设备,其特征在于,包括基片架、旋转底板、基片架底座、固定座和旋转电机,固定座固定在所述镀膜生产线的箱体内,旋转电机安装在固定座上,基片架位于旋转底板上,旋转电机连接并驱动旋转底板和基片架转动。
作为上述技术方案的进一步改进为:
旋转电机的电机轴垂直于水平面,旋转底板为一矩形平板,旋转底板的中部套接在旋转电机的电机轴的外部,旋转底板和固定座之间设有轴承,旋转底板和水平面平行。
轴承的一个端面接触旋转底板、另一个端面接触固定座,轴承的端面和水平面平行,旋转底板和旋转电机的电机轴之间设有轴承,旋转电机的电机轴穿过轴承的内圈,旋转底板的中心套接在轴承的外圈外部。
基片架底座位于旋转底板上,基片架底座长方体形,旋转电机的电机轴驱动端共运动的连接基片架底座的中部,基片架底座的两端通过插销可拆卸连接在旋转底板上。
基片架底座上部设有滑槽,基片架底端滑设在所述滑槽内。
基片架底座底部的两个各设有一个限位座,限位座一端铰接在基片架底座上,另一端可拆卸的连接在基片架底座上。
基片架包括框架和基片区,框架围设在基片区周围,片区包括多个基片区A和多个基片区B,基片区A和基片区B装载不同型号的待镀膜基片。
一个基片区包括四个基片区A和三个基片区B,三个基片区B位于四个基片区A的下方,四个基片区A呈两排两列均匀布置,三个基片区B呈一行均匀布置。
基片区A上包括多个基片位,每个基片位装载一个待镀膜的基片,每个基片区B装载一个待镀膜的另一种基片,基片区B的面积大于基片位的面积,
所述翻面设备还包括盖板和卡扣,盖板盖合在基片区A上,卡扣扣在盖板上,将盖板压紧。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:旋转底板和基片架底座同步旋转,带动基片架同步转动,实现基片架翻面的同时旋转平稳;基片架上设有多个基片区,可放置多个基片,充分利用基片架的位置。
附图说明
图1为本发明一个实施例的结构示意图;
图2为本发明一个实施例的基片区A的结构示意图。
具体实施方式
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