[发明专利]一种蒸镀坩埚和蒸镀设备在审

专利信息
申请号: 201910809807.2 申请日: 2019-08-29
公开(公告)号: CN110344004A 公开(公告)日: 2019-10-18
发明(设计)人: 姚祥 申请(专利权)人: 上海天马有机发光显示技术有限公司
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;H01L51/56
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 200120 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 坩埚主体 防爆 蒸镀 掩模体 坩埚 垂直投影 开口处 坩埚盖 背离 开口 膜厚均匀性 垂直距离 容纳空间 预设位置 蒸镀设备 蒸镀装置 侧壁 盖合 预设 连通
【权利要求书】:

1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括:

坩埚主体;

防爆沸板,设置于所述坩埚主体的开口处,或者设置于所述坩埚主体内且靠近所述坩埚主体的开口的预设位置处;所述防爆沸板与所述坩埚主体的侧壁之间存在间隙,且所述防爆沸板与所述坩埚主体的底部之间存在间隙;

掩模体,所述掩模体朝向所述坩埚主体的一侧固定在所述防爆沸板背离所述坩埚主体的一侧;

坩埚盖,盖合于所述坩埚主体的开口处,且与所述防爆沸板之间存在容纳空间;所述坩埚盖包括蒸镀口,所述蒸镀口与所述坩埚主体的开口连通;

所述掩模体背离所述坩埚主体的一侧在所述防爆沸板上的垂直投影位于所述蒸镀口在所述防爆沸板上的垂直投影内,所述掩模体背离所述坩埚主体的一侧与所述蒸镀口之间的垂直距离小于或等于预设值。

2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述蒸镀口与所述防爆沸板之间的垂直距离为L1,所述掩模体背离所述坩埚主体的一侧与所述防爆沸板之间的垂直距离为L2,且L1≤L2。

3.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述蒸镀口与所述掩模体背离所述坩埚主体的一侧之间的垂直距离可调。

4.根据权利要求3所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述坩埚盖包括角度板,所述角度板远离所述坩埚主体的一侧形成所述蒸镀口;

沿第一方向,所述角度板的高度可调;

所述第一方向垂直于所述坩埚主体的开口所在的平面。

5.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述坩埚盖还包括坩埚盖体,所述坩埚盖体的一侧开口与所述坩埚主体的开口盖合连通,所述坩埚盖体的另一侧开口与所述角度板靠近所述坩埚主体的一侧连通;

所述角度板包括依次嵌套可伸缩的至少两个第一连接部。

6.根据权利要求5所述的蒸镀坩埚,其特征在于,在所述蒸镀坩埚的中心轴所在的平面内,所述坩埚盖体呈折线型。

7.根据权利要求6所述的蒸镀坩埚,其特征在于,在所述蒸镀坩埚的中心轴所在的平面内,沿远离所述坩埚主体的方向,各所述第一连接部的宽度依次减小。

8.根据权利要求3所述的蒸镀坩埚,其特征在于,沿第一方向,所述掩模体的高度可调;

所述第一方向垂直于所述坩埚主体的开口所在的平面。

9.根据权利要求8所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述掩模体包括依次嵌套可伸缩的至少两个第二连接部。

10.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述掩模体的形状包括圆台形,所述掩模体远离所述坩埚主体的一侧在所述防爆沸板所在平面内的垂直投影位于所述掩模体靠近所述坩埚主体的一侧在所述防爆沸板所在平面内的垂直投影内。

11.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述掩模体的形状包括圆台形,所述掩模体靠近所述坩埚主体的一侧在所述防爆沸板所在平面内的垂直投影位于所述掩模体远离所述坩埚主体的一侧在所述防爆沸板所在平面内的垂直投影内;

所述掩模体远离所述坩埚主体的一侧与所述防爆沸板之间的垂直距离为L3,所述蒸镀口与所述防爆沸板之间的垂直距离为L4,L3>L4。

12.根据权利要求11所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述掩模体的侧面与所述防爆沸板所在的平面的锐角夹角小于预设角度值。

13.根据权利要求11所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述掩模体的数量为至少一个。

14.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,还包括加热柱;

所述加热柱设置于所述坩埚主体与所述防爆沸板形成的空间中。

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