[发明专利]一种耐高温太阳能选择性吸收涂层及其制备方法有效
申请号: | 201810570793.9 | 申请日: | 2018-06-05 |
公开(公告)号: | CN108468033B | 公开(公告)日: | 2023-08-22 |
发明(设计)人: | 杨勇;姚婷婷;金克武;李刚;沈洪雪;彭赛奥;王天齐;杨扬;金良茂;马立云 | 申请(专利权)人: | 中建材玻璃新材料研究院集团有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/16;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;F24S70/225;F24S70/30 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所(普通合伙) 34113 | 代理人: | 杨晋弘 |
地址: | 233010 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 耐高温 太阳能 选择性 吸收 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种耐高温太阳能选择性吸收涂层,包括现有金属基底,其特征在于:在金属基底上,从下到上还分别有三层:高红外反射层、吸收层和减反射层;
所述高红外反射层为Ti涂层,厚度为20-40nm;
所述吸收层自下而上依次包括高折射率吸收层TiCrN膜和低折射率吸收层TiCrNxOy膜,其中TiCrN膜的厚度为70-100nm,TiCrNxOy膜的厚度为80-100nm;所述减反射层自下而上依次包括Cr2O3膜和SiO2膜,其中Cr2O3膜的厚度为10-20nm,SiO2膜的厚度为20-30nm;
在300-2500nm范围内,TiCrN膜的折射率为2.66-3.53,TiCrNxOy膜折射率为1.76-2.44;在300-2500nm范围内,TiCrN膜的消光系数为0.65-3.57,TiCrNxOy膜的消光系数为0.05-1.34;
所述选择性吸收涂层的中高温200℃ -400℃发射率ε<4%,吸收率α>90%。
2.一种耐高温太阳能选择性吸收涂层制备方法,采用磁控溅射法为镀膜方法,其特征在于包括以下步骤:
a.选择厚度为0.15-10mm的铝、铜或不锈钢基片材料;
b.选用靶材为铝靶、金靶、银靶或镍靶,工作气体为惰性气体氩气(Ar),控制脉冲直流电源溅射功率为2000-3000w,工作气压为2.2-2.5mTorr,工作气体Ar流量为150-200sccm,控制步骤a中基片传输速率为0.5~1.6m/min,基片在靶下往返运动10-15次,即可得涂覆有高红外反射层的基片;
c.选用靶材为钛铬合金靶,工作气体为惰性气体氩气(Ar)、氮气和氧气,控制脉冲直流电源溅射功率为2000-3000w,工作气压为2.2-2.6mTorr,工作气体Ar流量为150-200sccm,反应气体N2流量为10-40sccm,控制步骤b制得的基片传输速率为0.5~1.6m/min,基片在靶下往返运动20-40次,可得涂覆有高折射率吸收层TiCrN膜的基片;
d.控制脉冲直流电源溅射功率为2000-3000w,工作气压为2.2-2.6mTorr,工作气体Ar流量为150-200sccm,反应气体N2流量为10-40sccm,反应气体O2流量为5-15sccm,步骤c制得的基片传输速率为0.5~1.6m/min,基片在靶下往返运动15-25次,可得涂覆有低折射率吸收层TiCrNxOy膜的基片;
e.选用靶材为硅靶和铬靶,工作气体为惰性气体氩气(Ar)和氧气,控制脉冲直流电源溅射功率为2000-3000w,工作气压为2.2-2.5mTorr,工作气体Ar流量为150-200sccm,反应气体O2流量为5-15sccm,步骤d制得的基片传输速率为0.5~1.6m/min,基片在靶下往返运动10-20次,可制得涂覆反射层Cr2O3的基片;
f.控制射频电源溅射功率为2000-3000w,工作气压为4.0-6.0mTorr, 工作气体流量为150-200sccm,反应气体O2流量为30-45sccm,步骤e制得的基片传输速率为0.5~1.6m/min,基片在靶下往返运动10-20次,可制得涂覆反射层SiO2的基片即得到一种耐高温太阳能选择性吸收涂层;
在300-2500nm范围内,TiCrN膜的折射率为2.66-3.53,TiCrNxOy膜折射率为1.76-2.44;在300-2500nm范围内,TiCrN膜的消光系数为0.65-3.57,TiCrNxOy膜的消光系数为0.05-1.34;
所述选择性吸收涂层的中高温200℃ -400℃发射率ε<4%,吸收率α>90%。
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