[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板，以及设置在所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层界定了多个像素区域，所述像素区域包括电荷生成层；其中，

所述像素界定层的内部设置有声学结构，所述声学结构用于在阈值声波频率的声波的作用下，发生共振，使相邻两个像素区域的所述电荷生成层断开。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述声学结构包括：凹槽或者音叉。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素界定层的高度为1-2微米，宽度为17-20微米。

4.根据权利要求1-3任一所述的阵列基板，其特征在于，所述声学结构的开口的宽度小于或者等于1微米，且深度为所述像素界定层的高度的1/2-4/5。

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述声学结构的开口包括方形、菱形或者圆形。

6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述像素区域还包括：第一发光层和第二发光层；

所述第一发光层设置在所述电荷生成层靠近所述衬底基板的一侧；

所述第二发光层设置在所述电荷生成层远离所述衬底基板的一侧。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，相邻两个像素区域的所述第一发光层断开。

8.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，相邻两个像素区域的所述第二发光层断开。

9.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-8任一所述的阵列基板。

10.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成设置有声学结构的像素界定层；所述像素界定层界定了多个像素区域；所述声学结构设置在像素界定层内部；

在所述像素界定层上形成电荷生成层；

所述声学结构在阈值声波频率的声波的作用下发生共振，使相邻两个像素区域的所述电荷生成层断开。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成设置有声学结构的像素界定层包括：

在衬底基板上形成阳极；

在所述阳极上沉积绝缘薄膜；

通过构图工艺形成设置有声学结构的像素界定层。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在所述像素界定层上形成电荷生成层之前，所述方法还包括：

在衬底基板上形成第一发光层。

13.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述在所述像素界定层上形成电荷生成层之后，所述方法还包括：

在所述电荷生成层上形成第二发光层。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述声学结构在阈值声波频率的声波的作用下发生共振之后，所述方法还包括：

在所述第二发光层远离所述衬底基板的一侧形成阴极。