[发明专利]一种图像处理方法及相关设备有效

专利信息
申请号: 201711293350.1 申请日: 2017-12-07
公开(公告)号: CN108171677B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 周景锦;程培;傅斌 申请(专利权)人: 腾讯科技(深圳)有限公司
主分类号: G06T5/50 分类号: G06T5/50
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518057 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 图像 处理 方法 相关 设备
【权利要求书】:

1.一种图像处理方法,其特征在于,所述方法包括:

对第一图像进行处理得到第一灰度掩膜;

对所述第一灰度掩膜进行腐蚀处理得到腐蚀后的掩膜;

根据所述第一灰度掩膜和所述腐蚀后的掩膜,确定所述第一图像的掩膜边缘;

将所述掩膜边缘叠加到所述第一灰度掩膜上得到第二灰度掩膜,所述第二灰度掩膜中像素点的灰度值为所述掩膜边缘中像素点的灰度值与所述第一灰度掩膜中像素点的灰度值之和;

对所述第二灰度掩膜进行高斯模糊处理;

对经高斯模糊处理后的所述第二灰度掩膜、所述第一图像以及背景图像进行融合处理得到第二图像。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一灰度掩膜和所述腐蚀后的掩膜,确定所述第一图像的掩膜边缘包括:

将所述第一灰度掩膜中像素点的灰度值减去所述腐蚀后的掩膜中所述像素点的灰度值,计算得到所述掩膜边缘中所述像素点的灰度值。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对经高斯模糊处理后的所述第二灰度掩膜、所述第一图像以及背景图像进行融合处理得到第二图像包括:

对经高斯模糊处理后的所述第二灰度掩膜和所述第一图像进行融合处理得到前景图像;

根据所述前景图像中像素点的灰度值和所述背景图像中所述像素点的灰度值,确定所述第二图像中所述像素点的灰度值。

4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据所述前景图像中像素点的灰度值和所述背景图像中所述像素点的灰度值,确定所述第二图像中所述像素点的灰度值包括:

计算所述前景图像中所述像素点的灰度值和所述背景图像中所述像素点的灰度值的加权平均值;

将所述加权平均值作为所述第二图像中所述像素点的灰度值。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述前景图像中所述像素点对应的权值为预设透明值。

6.如权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,所述对所述第一灰度掩膜进行腐蚀处理得到腐蚀后的掩膜包括:

获取所述第一灰度掩膜中目标像素点周围的其他各个像素点的灰度值;

选取所述其他各个像素点的灰度值中最小的一个作为所述腐蚀后的掩膜中所述目标像素点的灰度值。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述第二灰度掩膜进行高斯模糊处理包括:

获取所述第二灰度掩膜中目标像素点周围的其他各个像素点与所述目标像素点的距离;

根据所述其他各个像素点与所述目标像素点的距离,确定所述其他各个像素点对应的权值;

根据所述其他各个像素点对应的权值,计算所述其他各个像素点的灰度值的加权平均值作为经过高斯模糊处理后的所述第二灰度掩膜中所述目标像素点的灰度值。

8.一种图像处理装置,其特征在于,所述装置包括:

处理模块,用于对第一图像进行处理得到第一灰度掩膜;

所述处理模块,还用于对所述第一灰度掩膜进行腐蚀处理得到腐蚀后的掩膜;

所述处理模块,还用于根据所述第一灰度掩膜和所述腐蚀后的掩膜,确定所述第一图像的掩膜边缘;

融合模块,用于将所述掩膜边缘叠加到所述第一灰度掩膜上得到第二灰度掩膜,所述第二灰度掩膜中像素点的灰度值为所述掩膜边缘中像素点的灰度值与所述第一灰度掩膜中像素点的灰度值之和;

所述处理模块,还用于对所述第二灰度掩膜进行高斯模糊处理;

所述融合模块,还用于对经高斯模糊处理后的所述第二灰度掩膜、所述第一图像以及背景图像进行融合处理得到第二图像。

9.如权利要求8所述的装置,其特征在于,

所述处理模块,还用于将所述第一灰度掩膜中像素点的灰度值减去所述腐蚀后的掩膜中所述像素点的灰度值,计算得到所述掩膜边缘中所述像素点的灰度值。

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