[发明专利]表面处理设备和用于处理表面区域的方法

说明书

本发明公开了一种用于处理具有障碍物的表面区域的表面处理设备，其包括底盘、表面处理装置、以及第一感测装置和第二感测装置，其特征在于它还包括适于影响所述表面处理装置对于表面区域的暴露的可移动组件，其中所述可移动组件适于基于来自所述第一感测装置和所述第二感测装置的信息相对于所述底盘至少在第一位置与第二位置之间移动，其中在所述第二位置中，所述表面处理装置对于表面区域的暴露与处于所述第一位置时不同。

技术领域

本发明涉及表面处理设备和用于处理表面区域的方法。特别地，本发明涉及用于处理包括障碍物的表面区域的设备和方法。

背景技术

本发明主要涉及类似自主式真空吸尘器或拖擦设备等的表面处理设备。存在许多市售设备以及描述和公开的解决方案。例如，出版物US8855914B1公开了一种优化穿越拐角的方法，并且因此允许表面覆盖设备更好地覆盖表面。另一个出版物US6809490B2公开了一种用于自主式表面覆盖设备的系统，其允许使设备的行为模式适应检测的障碍物以便更好地覆盖处理表面。

现有解决方案着重于对设备行为的优化，同时假定其恒定(即不变)的形式。因此，它们提供具体问题的具体解决方案(如前述的US8855914B1)或者提供一般更好的行为算法(如前述US6809490B2)。

本发明试图通过给设备配备可移动组件来优化处理表面的覆盖率，所述可移动组件可以使所述设备适应特定类型的不可接近表面，即不同于90度的测量拐角。

本发明的开发目的是用于处理表面区域的改善的和成本有效的方法和设备。

发明概要

本发明的目的是一种用于处理具有障碍物的表面区域的表面处理设备，其包括底盘、表面处理装置、以及第一感测装置和第二感测装置，所述表面处理设备还包括适于影响所述表面处理装置对于表面区域的暴露的可移动组件，其中所述可移动组件适于基于来自所述第一感测装置和所述第二感测装置的信息相对于所述底盘至少在第一位置与第二位置之间移动，其中在所述第二位置中，所述表面处理装置对于表面区域的暴露与处于所述第一位置时不同。

优选地，在所述第二位置中，所述表面处理装置对于表面区域的暴露与处于所述第一位置时相比是更大的。

优选地，处于所述第二位置的所述表面处理装置相对于所述表面处理设备的角度布置与处于所述第一位置时不同。

优选地，处于所述第二位置的所述表面处理装置暴露于其形状与处于所述第一位置时不同的表面区域。

优选地，所述可移动组件包括可相对于底盘枢转的用于接触障碍物的接触组件。

优选地，所述表面处理设备还包括可相对于底盘移动的往复运动元件，其适于致动所述接触组件。

优选地，所述往复运动元件适于致动所述接触组件，同时改变所述表面处理装置对于表面区域的暴露。

优选地，所述接触组件是可扩展的。

本发明的另一个目的是一种用于通过以上所述的表面处理设备来处理具有障碍物的表面区域的方法，所述方法包括以下步骤：处理表面区域；通过第一感测装置来检测障碍物，检查是否通过第二感测装置检测到所述障碍物，如果没有，则将所述可移动组件从第一位置移动到第二位置。

优选地，第一感测装置感测所述设备的一侧上的障碍物，而第二感测装置感测所述设备的另一侧上的障碍物。

优选地，所述方法还包括根据所述可移动组件的所选位置来设置设备参数的步骤。

优选地，设置所述设备参数以增加所述表面处理装置的处理能力。

优选地，设置所述设备参数以便仅为所述表面处理装置的一部分供电。

优选地，在处理所述障碍物之后，所述设备将所述可移动组件从所述第二位置移动到所述第一位置。