[发明专利]表面处理设备和用于处理表面区域的方法

权利要求书

1.一种用于处理具有障碍物的表面区域的表面处理设备，其包括：

底盘(329)，所述底盘(329)具有一轮廓；

表面处理装置(330)，所述表面处理装置(330)设置于所述轮廓内，且所述表面处理装置(330)经配置以处理在所述轮廓内的表面；以及

第一感测装置（315、316）和第二感测装置(317、318)，其特征在于它还包括适于影响所述表面处理装置(330)对于表面区域的暴露的可移动组件(100、200)，其中所述可移动组件(100、200)适于基于来自所述第一感测装置（315、316）和所述第二感测装置(317、318)的信息相对于所述底盘(329)至少在第一位置与第二位置之间移动，其中在所述第二位置中，所述表面处理装置(330)对于表面区域的暴露与处于所述第一位置时不同；

其中所述可移动组件(100、200)包括可相对于所述底盘(329)枢转的用于接触所述障碍物的接触组件(200)，所述接触组件(200)可纵长地扩展和缩回；

其中所述第一感测装置（ 315 、 316 ） 和所述第二感测装置(317、318)中的至少一感测装置侦测到一障碍物时，侦测到所述障碍物的感测装置于所述可移动组件上的一侧保留于所述第一位置，位于未侦测到所述障碍物的感测装置于所述可移动组件上的一侧移动至所述第二位置。

2.如权利要求1所述的表面处理设备，其特征在于在所述第二位置中，所述表面处理装置(330)对于表面区域的暴露与处于所述第一位置时相比是更大的。

3.如权利要求1所述的表面处理设备，其特征在于处于所述第二位置的所述表面处理装置(330)相对于所述表面处理设备(300)的角度布置与处于所述第一位置时不同。

4.如权利要求1所述的表面处理设备，其特征在于处于所述第二位置的所述表面处理装置(330)暴露于其形状与处于所述第一位置时不同的表面区域。

5.如权利要求1所述的表面处理设备，其特征在于它还包括可相对于底盘(329)移动的往复运动元件(100)，其适于致动所述接触组件(200)。

6.如权利要求1所述的表面处理设备，其特征在于往复运动元件(100)适于致动所述接触组件(200)，同时改变所述表面处理装置(330)对于表面区域的暴露。

7.一种用于通过如权利要求1所述的表面处理设备(300)来处理具有障碍物的表面区域的方法，所述方法包括以下步骤：

-处理表面区域，

-通过第一感测装置(315、316)来检测障碍物，

-检查是否通过第二感测装置(317、318)检测到所述障碍物，

-如果没有，则将可移动组件(100、200)从第一位置移动到第二位置。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于所述第一感测装置(315、316)感测所述设备(300)的一侧上的障碍物，而所述第二感测装置(317、318)感测所述设备(300)的另一侧上的障碍物。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于它还包括根据所述可移动组件(100、200)的所选位置来设置设备参数的步骤。

10.如权利要求9所述的方法，其特征在于设置所述设备参数以增加所述表面处理装置330的处理能力。

11.如权利要求9所述的方法，其特征在于设置所述设备参数以便仅为所述表面处理装置330的一部分供电。

12.如权利要求7所述的方法，其特征在于在处理所述障碍物之后，所述设备将所述可移动组件(100、200)从所述第二位置移动到所述第一位置。