[发明专利]一种低共熔溶剂电沉积铁铬合金镀层的方法在审
申请号: | 201711101672.1 | 申请日: | 2017-11-10 |
公开(公告)号: | CN107761142A | 公开(公告)日: | 2018-03-06 |
发明(设计)人: | 华一新;武腾;汝娟坚;徐存英;李坚;张启波;李艳;苏波;艾刚华;牛平召;王运;吕栋梁;朱啸林;唐杰 | 申请(专利权)人: | 昆明理工大学 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 650093 云*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 低共熔 溶剂 沉积 合金 镀层 方法 | ||
1.一种低共熔溶剂电沉积铁铬合金镀层的方法,其特征在于具体步骤如下:
(1)在惰气环境下,首先将季铵盐与多元醇按照摩尔比为2~4:1~2混合均匀后形成低共熔溶剂,然后向温度为20~80℃的低共熔溶剂中加入四水合氯化亚铁和六水合氯化铬,制备得到低共熔溶剂电解液;
(2)以铬片为阳极,预处理后的基体为阴极,在控制电解液温度为35~75℃、槽电压为1.8~2.8V、阳极与阴极距离为0.6~2.4cm的条件下,在步骤(1)制备得到的低共熔溶剂电解液中电沉积0.5~5h,将电积后的阴极基体经丙酮、蒸馏水冲洗,干燥后即能在阴极基体上得到铁铬合金镀层。
2.根据权利要求1所述的低共熔溶剂电沉积铁铬合金镀层的方法,其特征在于:所述步骤(1)中季铵盐为氯化胆碱、氯化苄基三乙基铵或硫酸氢四丁基铵。
3.根据权利要求1所述的低共熔溶剂电沉积铁铬合金镀层的方法,其特征在于:所述步骤(1)中多元醇为乙二醇、丙三醇或甘露醇。
4.根据权利要求1所述的低共熔溶剂电沉积铁铬合金镀层的方法,其特征在于:所述步骤(1)中四水合氯化亚铁和六水合氯化铬摩尔比为1~2:5~20。
5.根据权利要求1所述的低共熔溶剂电沉积铁铬合金镀层的方法,其特征在于:所述步骤(2)中基体为铜片、不锈钢或锌片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆明理工大学,未经昆明理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711101672.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。