[发明专利]基板处理装置和基板搬送方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，具备在搬送室与具有两个载置台的处理室之间搬送两张基板的搬送臂，所述搬送臂将所述两张基板以在该两张基板之间隔开间隔地重叠的方式进行保持，所述基板处理装置的特征在于，具备：

下方基板检测传感器，其在下方的所述基板被搬送时，检测下方的所述基板的缘部上的彼此不同的两个部位并确定所述两个部位的位置；以及

上方基板检测传感器，其在上方的所述基板被搬送时，检测上方的所述基板的缘部，其中，所述搬送臂将下方的所述基板在一个所述载置台与所述搬送室之间搬送，将上方的所述基板在另一个所述载置台与所述搬送室之间搬送，

所述下方基板检测传感器包括具有发光部和受光部的光学式传感器，

所述发光部和所述受光部中的一方被配置于在下方的所述基板被搬送时下方的所述基板所通过的区域且被配置为位于下方的所述基板与上方的所述基板之间，

所述发光部和所述受光部中的另一方被配置为在下方的所述基板被搬送时隔着下方的所述基板而与所述发光部和所述受光部中的一方相向，

所述上方基板检测传感器被配置于在上方的所述基板被搬送时上方的所述基板所通过的区域，

其中，所述发光部和所述受光部中的一方安装在使所述搬送室的内部与所述处理室的内部连通的连通口内。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述发光部和所述受光部中的一方被配置在减压环境中。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

还具备测定所述搬送臂的高度的高度传感器。

4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述搬送臂经由设置在所述处理室与所述搬送室之间的开口搬送两张所述基板，所述开口的宽度小于将两张所述基板水平排列时的两张所述基板的合计宽度。

5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述搬送臂使两张所述基板的每个基板沿着曲线轨道移动。

6.一种基板搬送方法，利用搬送臂来在搬送室与具有两个载置台的处理室之间搬送两张基板，所述基板搬送方法的特征在于，包括以下步骤：

保持步骤，利用所述搬送臂将所述两张基板以在该两张基板之间隔开间隔地重叠的方式进行保持；

第一搬送步骤，利用所述搬送臂将下方的所述基板在一个所述载置台与所述搬送室之间搬送；以及

第二搬送步骤，利用所述搬送臂将上方的所述基板在另一个所述载置台与所述搬送室之间搬送，

其中，配置用于在所述第一搬送步骤中检测下方的所述基板的缘部上的彼此不同的两个部位并确定所述两个部位的位置的下方基板检测传感器以及用于在所述第二搬送步骤中检测上方的所述基板的缘部的上方基板检测传感器，

所述下方基板检测传感器包括具有发光部和受光部的光学式传感器，

所述发光部和所述受光部中的一方被配置于在所述第一搬送步骤中下方的所述基板所通过的区域且被配置为位于下方的所述基板与上方的所述基板之间，

所述发光部和所述受光部中的另一方被配置为在所述第一搬送步骤中隔着下方的所述基板而与所述发光部和所述受光部中的一方相向，

所述上方基板检测传感器被配置于在所述第二搬送步骤中上方的所述基板所通过的区域，

其中，所述发光部和所述受光部中的一方安装在使所述搬送室的内部与所述处理室的内部连通的连通口内。

7.根据权利要求6所述的基板搬送方法，其特征在于，

当所述下方基板检测传感器的所述受光部所接收的光量低于阈值时，发出警告或者将上方的所述基板的搬送中断。

8.根据权利要求6或7所述的基板搬送方法，其特征在于，

当在对下方的所述基板实施热处理之后下方的所述基板通过下方基板检测传感器的发光部与受光部之间时，使下方的所述基板的搬送速度降低。

9.根据权利要求8所述的基板搬送方法，其特征在于，

当在对下方的所述基板实施热处理之后下方的所述基板通过下方基板检测传感器的发光部与受光部之间时，使下方的所述基板暂时停止。