[发明专利]激光直接成像曝光机用聚焦结构及聚焦方法

权利要求书

1.一种激光直接成像曝光机用聚焦结构，包括曝光平台以及位于所述曝光平台正上方的投影物镜（4）；其特征是：所述曝光平台包括用于承载待曝光板体（5）的吸盘（6），所述吸盘（6）与用于所述驱动吸盘（6）升降的吸盘升降驱动机构（7）连接；在所述投影物镜（4）的一侧设有聚焦光源（1），投影物镜（4）的另一侧设置用于接收聚焦光源（1）经过待曝光板体（5）后投影光线的光线探测器（10），所述光线探测器（10）与吸盘升降驱动机构（7）连接，光线探测器（10）根据投影光线的状态能控制吸盘升降驱动机构（7）的工作状态，直至使得吸盘（6）上的待曝光板体（5）处于最佳焦面位置。

2.根据权利要求1所述的激光直接成像曝光机用聚焦结构，其特征是：还包括用于将聚焦光源（1）的光线进行分光的分光棱镜机构，分光棱镜机构包括第一分光棱镜（2）、第二分光棱镜（3）、第三分光棱镜（9）以及第四分光棱镜（8）；

第一分光棱镜（2）、第二分光棱镜（3）位于投影物镜（4）的同一侧，且第一分光棱镜（2）邻近聚焦光源（1），第二分光棱镜（3）位于第一分光棱镜（2）的下方；

第三分光棱镜（8）、第四分光棱镜（9）位于投影物镜（4）的同一侧，且第三分光棱镜（8）邻近光线探测器（10），第四分光棱镜（9）位于第三分光棱镜（8）的下方，经第二分光棱镜（3）的聚焦光线经待曝光板体（5）后能进入第四分光棱镜（9）。

3.根据权利要求1或2所述的激光直接成像曝光机用聚焦结构，其特征是：所述待曝光板体（5）包括掩模版或晶圆。

4.一种激光直接成像曝光机用聚焦方法，其特征是，所述聚焦方法包括如下步骤：

步骤1、提供曝光平台以及位于所述曝光平台正上方的投影物镜（4），曝光平台包括用于承载待曝光板体（5）且能在投影物镜（4）下方升降的吸盘（6），吸盘（6）与吸盘升降驱动机构（7）连接；

步骤2、开启位于投影物镜（4）一侧的聚焦光源（1），聚焦光源（1）发出的激光经过吸盘（6）上的待曝光板体（5）后，能被投影物镜（4）另一侧的光线探测器（10）接收；

步骤3、光线探测器（10）根据投影光线的状态能控制吸盘升降驱动机构（7）的工作状态，直至使得吸盘（6）上的待曝光板体（5）处于最佳焦面位置。

5.根据权利要求4所述的激光直接成像曝光机用聚焦方法，其特征是，还包括用于将聚焦光源（1）的光线进行分光的分光棱镜机构，分光棱镜机构包括第一分光棱镜（2）、第二分光棱镜（3）、第三分光棱镜（9）以及第四分光棱镜（8）；

第一分光棱镜（2）、第二分光棱镜（3）位于投影物镜（4）的同一侧，且第一分光棱镜（2）邻近聚焦光源（1），第二分光棱镜（3）位于第一分光棱镜（2）的下方；

第三分光棱镜（8）、第四分光棱镜（9）位于投影物镜（4）的同一侧，且第三分光棱镜（8）邻近光线探测器（10），第四分光棱镜（9）位于第三分光棱镜（8）的下方，经第二分光棱镜（3）的聚焦光线经待曝光板体（5）后能进入第四分光棱镜（9）。

6.根据权利要求4所述的激光直接成像曝光机用聚焦方法，其特征是，所述待曝光板体（5）包括掩模版或晶圆。