[实用新型]ICP增强多靶磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201620802147.7 | 申请日： | 2016-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN205803587U | 公开（公告）日： | 2016-12-14 |
| 发明（设计）人： | 杨佳奇;胡一波;金成刚;吴雪梅;诸葛兰剑 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | icp 增强 磁控溅射 装置 | ||
【说明书】：
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