[发明专利]应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头在审
申请号: | 201611154916.8 | 申请日: | 2016-12-14 |
公开(公告)号: | CN107313026A | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
发明(设计)人: | 林伯融;陈哲霖;蔡长达;钟步青 | 申请(专利权)人: | 汉民科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司11019 | 代理人: | 寿宁,张华辉 |
地址: | 中国台湾台北巿大*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 应用于 化学 沉积 装置 气体 分流 喷头 | ||
1.一种应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,包含:
气体分流层,用以分流不同的气体而将其由同一水平面侧向喷出,该气体分流层包含:
圆盘状主体,其中心位置具有圆形开孔,用以容置布气装置以及供其气体通行;
多条第一气体通道,由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边延伸而呈放射状排列,用以将第一气体由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边输送,而横向喷出;
多条第二气体通道,由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边延伸而呈放射状排列,用以将第二气体由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边输送,而横向喷出;以及
多条第三气体通道,由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边延伸而呈放射状排列,用以将第三气体由该圆盘状主体的中心位置向该圆盘状主体的周边输送,而横向喷出;
其中,所述第一气体通道、所述第二气体通道、以及所述第三气体通道皆设置于该圆盘状主体内的同一水平面上且成对称分布,借此,不同的气体能够经由不同气体通道与同一水平面上横向喷出。
2.根据权利要求1所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中该第一气体为Ⅲ族气体,该第二气体与该第三气体皆为Ⅴ族气体,并以氢气(H2)或氮气(N2)做为运载气体(carrier gas)。
3.根据权利要求1所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中所述第一气体通道、所述第二气体通道、以及所述第三气体通道以每相邻两个第一气体通道间至少夹有第二气体通道或第三气体通道的方式,而排列于该气体分流层中。
4.根据权利要求3所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中所述第一气体通道、所述第二气体通道、以及所述第三气体通道以第一气体通道、第二气体通道、第一气体通道、第三气体通道此排列顺序为一个周期,而循环排列于该气体分流层中。
5.根据权利要求1所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中所述第一气体通道、所述第二气体通道、以及所述第三气体通道以每相邻两个第一气体通道间夹有至少一个第二气体通道与至少一个第三气体通道的方式,而循环排列于该气体分流层中。
6.根据权利要求5所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中每相邻两个第一气体通道间的第二气体通道与该第三气体通道是以彼此轮替的方式排列。
7.根据权利要求5所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中每相邻两个第一气体通道间的第二气体通道与该第三气体通道是以每两个相邻的第二气体通道之间夹有至少一个第三气体通道的方式而排列于其中。
8.根据权利要求5所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中每相邻两个第一气体通道间的第二气体通道与该第三气体通道是以每两个相邻的第三气体通道之间夹有至少一个第二气体通道第一气体通道的方式而排列于其中。
9.根据权利要求1所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头更包含多个气体通道隔块,用以分隔该气体分流层中的气体通道,以控制各个不同气体的混合反应时间。
10.根据权利要求9所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中每一该第一气体通道、每一该第二气体通道、以及每一该第三气体通道皆被夹于两个相邻的气体通道隔块之间。
11.根据权利要求9所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中以两个相邻的气体通道隔块之间夹有至少一个第一气体通道与至少个一第二气体通道做为第一气体通道组合,而以两个相邻的气体通道隔块之间夹有至少一个第一气体通道与至少一个第三气体通道做为第二气体通道组合,而以第一气体通道组合与第二气体通道组合交替排列的方式排列于该气体分流层中。
12.根据权利要求11所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中第一气体通道组合中的第一气体通道与第二气体通道以两个相邻第一气体通道之间夹有至少一个第二气体通道的方式排列。
13.根据权利要求11所述的应用于化学气相沉积装置的气体分流喷头,其中第一气体通道组合中的第一气体通道与第二气体通道以两个相邻第二气体通道之间夹有至少一个第一气体通道的方式排列。
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