[发明专利]一种曲面多谱复眼镜头的制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及镜头制作技术，尤其涉及一种曲面多谱复眼镜头的制作方法。

背景技术

技术词解释：

PDMS：聚二甲基硅氧烷

对于多谱成像系统，其能够实现准确的谱分离并 获得多个单一波段图像信息，并且结合数字图像处理技术，便能够获得普通相机无法察觉的隐藏信息，因此，多谱成像系统在很多方面具有重要的应用。

目前，常用的多谱成像系统通常是通过将一个旋转滤光轮置于普通相机的镜头前来实现工作波段选择的，但是，这样的设置不可避免地增大了系统的复杂性和设备的体积，而且其每次仅能获得一个波段的图像信息，操作繁琐耗时。为了解决这些问题，专家们提出了一种基于人造复眼的多谱成像系统，其所包括的多谱复眼镜头是通过将多通道滤光片置于微透镜阵列之前来实现光谱分离的。但是目前，对于所述的多谱复眼镜头，其受到现有制作工艺的限制，因此，其集成度低，而且其通常仅能为平面结构，从而导致其存有视场角小的缺点。

发明内容

为了解决上述技术问题，本发明的目的是提供一种能提高多谱复眼镜头的集成度，以及扩大其视场角的制作方法。

本发明所采用的技术方案是：一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，该方法包括：

A、制作PDMS复眼模具；

B、制作带有曲面多通道滤光片的第二基底；

C、将制作得出的PDMS复眼模具和带有曲面多通道滤光片的第二基底进行集成，从而制作出曲面多谱复眼镜头。

进一步，所述步骤A包括：

A1、制作复眼结构；

A2、利用制作得出的复眼结构，从而制作PDMS复眼模具。

进一步，所述步骤A1包括：

A101、在第一基底的上表面设置第一光刻胶层；

A102、将以圆形阵列作为掩膜图案的第一掩膜板置于第一光刻胶层的上方，然后对第一光刻胶层进行曝光，从而使第一光刻胶层记录圆形阵列图案；

A103、对曝光后的第一光刻胶层进行显影，从而使在第一基底上形成得到光刻胶圆柱阵列；

A104、对光刻胶圆柱阵列进行加热，并使其达到熔融状态，从而使在第一基底上形成得到复眼结构。

进一步，所述步骤A2具体为：将PDMS预聚体均匀倾倒在带有复眼结构的第一基底上后对PDMS预聚体进行固化，从而制作得出PDMS复眼模具。

进一步，所述步骤B包括：

B1、采用光刻剥离微加工技术在第二基底的相应位置上镀上铬膜，从而使在第二基底上形成得到一带圆形透光孔阵列的光阻挡层；

所述第二基底为一上表面为圆弧形的基底；

B2、在第二基底的上表面设置第一颜色光阻剂层；

B3、将带有圆形掩膜图案的第三掩膜板置于第一颜色光阻剂层上，所述圆形掩膜图案与相对应的圆形透光孔对准，然后对第一颜色光阻剂层进行曝光，从而使第一颜色光阻剂层记录圆形图案；

B4、对曝光后的第一颜色光阻剂层进行显影，从而使相对应的圆形透光孔中形成得到作为滤光片的颜色光阻剂圆柱。

进一步，所述步骤B1包括：

B101、在第二基底的上表面设置第二光刻胶层；

B102、将以圆形阵列作为掩膜图案的第二掩膜板置于第二光刻胶层的上方，然后对第二光刻胶层进行曝光，从而使第二光刻胶层记录圆形阵列图案，其中，所述第二掩膜板为曲面掩膜板；

B103、对曝光后的第二光刻胶层进行显影，从而使在第二基底上得到光刻胶圆柱阵列；

B104、在第二基底的上表面设置一层铬膜后进行去除光刻胶的处理，从而使在第二基底上形成得到一带圆形透光孔阵列的光阻挡层。

进一步，所述步骤B3之前还设有在带有圆形掩膜图案的第三掩膜板上设置对准标记这一步骤。

进一步，所述第二基底为半圆柱形状的基底。

进一步，所述步骤C包括：

C1、在带有曲面多通道滤光片的第二基底的上表面设置一压印材料层并将所述的第二基底置于真空室内固定；

C2、将PDMS复眼模具置于真空室的悬臂架上后，所述真空室的内腔被分为上腔室和下腔室；

C3、通过控制上腔室和下腔室的真空度从而产生压力，该压力推动PDMS复眼模具向下移并使PDMS复眼模具挤压压印材料层，从而使压印材料层产生相应的形变；

C4、对变形后的压印材料层进行固化，然后通过调整上腔室和下腔室的真空度使PDMS复眼模具脱离压印材料层的表面，从而制作得出曲面多谱复眼镜头。