[发明专利]一种曲面多谱复眼镜头的制作方法

权利要求书

1.一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，其特征在于：该方法包括：

A、制作PDMS复眼模具；

B、首先，在第二基底的相应位置上镀上铬膜，从而使在第二基底上形成得到一带圆形透光孔阵列的光阻挡层；所述第二基底为一上表面为圆弧形的基底；然后，在第二基底的上表面设置第一颜色光阻剂层；接着，将带有圆形掩膜图案的第三掩膜板置于第一颜色光阻剂层上，所述圆形掩膜图案与相对应的圆形透光孔对准，然后对第一颜色光阻剂层进行曝光，从而使第一颜色光阻剂层记录圆形图案；跟着，对曝光后的第一颜色光阻剂层进行显影，从而使相对应的圆形透光孔中形成得到作为滤光片的颜色光阻剂圆柱；

C、首先，在带有曲面多通道滤光片的第二基底的上表面设置一压印材料层并将所述的第二基底置于真空室内固定；然后，将PDMS复眼模具置于真空室的悬臂架上后，所述真空室的内腔被分为上腔室和下腔室；接着，通过控制上腔室和下腔室的真空度从而产生压力，该压力推动PDMS复眼模具向下移并使PDMS复眼模具挤压压印材料层，从而使压印材料层产生相应的形变；跟着，对变形后的压印材料层进行固化，然后通过调整上腔室和下腔室的真空度使PDMS复眼模具脱离压印材料层的表面，从而制作得出曲面多谱复眼镜头。

2.根据权利要求1所述一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，其特征在于：所述步骤A包括：

A1、制作复眼结构；

A2、利用制作得出的复眼结构，从而制作PDMS复眼模具。

3.根据权利要求2所述一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，其特征在于：所述步骤A1包括：

A101、在第一基底的上表面设置第一光刻胶层；

A102、将以圆形阵列作为掩膜图案的第一掩膜板置于第一光刻胶层的上方，然后对第一光刻胶层进行曝光，从而使第一光刻胶层记录圆形阵列图案；

A103、对曝光后的第一光刻胶层进行显影，从而使在第一基底上形成得到光刻胶圆柱阵列；

A104、对光刻胶圆柱阵列进行加热，并使其达到熔融状态，从而使在第一基底上形成得到复眼结构。

4.根据权利要求3所述一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，其特征在于：所述步骤A2具体为：将PDMS预聚体均匀倾倒在带有复眼结构的第一基底上后对PDMS预聚体进行固化，从而制作得出PDMS复眼模具。

5.根据权利要求1所述一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，其特征在于：所述步骤B中所述在第二基底的相应位置上镀上铬膜，从而使在第二基底上形成得到一带圆形透光孔阵列的光阻挡层这一步骤，其具体为：采用光刻剥离微加工技术在第二基底的相应位置上镀上铬膜，从而使在第二基底上形成得到一带圆形透光孔阵列的光阻挡层。

6.根据权利要求5所述一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，其特征在于：所述采用光刻剥离微加工技术在第二基底的相应位置上镀上铬膜，从而使在第二基底上形成得到一带圆形透光孔阵列的光阻挡层这一步骤包括：

B101、在第二基底的上表面设置第二光刻胶层；

B102、将以圆形阵列作为掩膜图案的第二掩膜板置于第二光刻胶层的上方，然后对第二光刻胶层进行曝光，从而使第二光刻胶层记录圆形阵列图案，其中，所述第二掩膜板为曲面掩膜板；

B103、对曝光后的第二光刻胶层进行显影，从而使在第二基底上得到光刻胶圆柱阵列；

B104、在第二基底的上表面设置一层铬膜后进行去除光刻胶的处理，从而使在第二基底上形成得到一带圆形透光孔阵列的光阻挡层。

7.根据权利要求5或6所述一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，其特征在于：所述将带有圆形掩膜图案的第三掩膜板置于第一颜色光阻剂层上，所述圆形掩膜图案与相对应的圆形透光孔对准，然后对第一颜色光阻剂层进行曝光，从而使第一颜色光阻剂层记录圆形图案这一步骤之前还设有在带有圆形掩膜图案的第三掩膜板上设置对准标记这一步骤。

8.根据权利要求5或6所述一种曲面多谱复眼镜头的制作方法，其特征在于：所述第二基底为半圆柱形状的基底。