[实用新型]磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置有效
| 申请号： | 201520348565.9 | 申请日： | 2015-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN204714888U | 公开（公告）日： | 2015-10-21 |
| 发明（设计）人： | 李爽;沈晓磊;许磊 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司 31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 孪生 旋转 气体 供应 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置，包括气管，所述气管上开设有出气口，其特征在于：所述气体供应装置至少包括若干所述气管，所述气管上的所述出气口分别对应覆盖所述靶材的部分区域，若干所述气管上的所述出气口所构成的覆盖范围包含所述靶材的全部区域。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置，其特征在于：若干所述气管上的所述出气口错列布置。
3.根据权利要求1或2所述的一种磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置，其特征在于：若干所述气管的所述出气口的覆盖范围具有重合交叠的区域。
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置，其特征在于：所述出气口的口径沿所述气管的内壁至外壁的方向逐渐变大。
5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置，其特征在于：至少两个所述出气孔呈中心对称分布设置于所述气管上。
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