[发明专利]在EUV照射下没有膨胀的用于EUV光刻的反射镜毛坯有效
| 申请号： | 201480053715.1 | 申请日： | 2014-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN105579410B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | K.贝克;S.托马斯 | 申请（专利权）人： | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 |
| 主分类号： | C03C3/06 | 分类号： | C03C3/06;C03B19/14;G02B5/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 卢江;张涛 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | euv 照射 没有 膨胀 用于 光刻 反射 毛坯 | ||
1.用于EUV反射镜的衬底，其特征在于，所述衬底在表面上具有偏离统计分布的过零温度，其中所述衬底在所述表面上具有彼此相差多于1.5K的最小过零温度（Tzcmin）和最大过零温度（Tzcmax），
其中所述衬底在远离边缘的区域中具有过零温度Tzc1并且在边缘处具有过零温度Tzc2，其中Tzc1比Tzc2高至少1.5℃，
其中所述表面上的过零温度的分布具有至少一个局部最大值，
其中所述衬底中的过零温度的变化过程与所述反射镜的运行温度的变化过程适配，
其中OH分布图对应于关于过零温度的变化过程的所期望的预给定，以及
其中假想温度的变化过程依照事先所规定的分布图，所述分布图对应于以后的衬底中的过零温度的所期望的变化过程。
2.根据权利要求1所述的衬底，其特征在于，所述衬底包括氧化钛掺杂的石英玻璃。
3.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，所述衬底具有重量分别相对于所述衬底的总重量为5重量％至12重量％的二氧化钛。
4.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，所述衬底具有重量分别相对于所述衬底的总重量为6重量％至10重量％的二氧化钛。
5.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，所述衬底包括多个层。
6.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，Tzcmax和Tzcmin之间的差为至少2K。
7.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，Tzcmax和Tzcmin之间的差为至少3K。
8.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，Tzcmax和Tzcmin之间的差在2至10K的范围中。
9.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，Tzcmax和Tzcmin之间的差在2.5至7K的范围中。
10.根据权利要求1或2所述的衬底，其特征在于，所述过零温度的分布至少部分地具有基本上连续的变化过程。
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