[发明专利]一种投射式电容屏及其制作方法在审
申请号: | 201410291241.6 | 申请日: | 2014-06-25 |
公开(公告)号: | CN104049824A | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 向火平 | 申请(专利权)人: | 向火平 |
主分类号: | G06F3/044 | 分类号: | G06F3/044 |
代理公司: | 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 | 代理人: | 张秋红 |
地址: | 518102 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 投射 电容 及其 制作方法 | ||
技术领域
本发明涉及电容屏领域,尤其涉及一种投射式电容屏及其制作方法。
背景技术
投射式电容屏是采用投射电容触控技术的屏幕,触摸屏面板能在手指触碰到时检测到该位置电容的变化从而计算出手指所在,进行多点触控操作。投射式电容屏广泛应用于我们日常生活各个领域,如手机、平板电脑、媒体播放器、导航系统、数码相机、电器控制、医疗设备等等。
投射电容式触摸屏是在两层ITO导电玻璃涂层上蚀刻出不同的ITO导电线路模块。两个模块上蚀刻的图形相互垂直,可以把它们看作是X和Y方向连续变化的滑条。由于X、Y架构在不同表面,其相交处形成一电容节点。一个滑条可以当成驱动线,另外一个滑条当成是侦测线。当电流经过驱动线中的一条导线时,如果外界有电容变化的信号,那么就会引起另一层导线上电容节点的变化。侦测电容值的变化可以通过与之相连的电子回路测量得到,再经由A/D控制器转为数字讯号让计算机做运算处理取得(X,Y)轴位置,进而达到定位的目地。
现有技术中的投射式电容屏主要有以下几种结构:(1)GG模式;其中第一个G为保护玻璃,第二个G是SENSOR传感器,即双面ITO玻璃,将X方向电极形成的X轴电极层的图案和Y方向电极形成的Y轴电极图案分别做到双面ITO玻璃的两个面,并使用金属线将X方向电极和Y方向电极引出;GG模式制作投射式电容屏时需要在双面ITO上的双面均制作金属线路,金属线路的制作良率难以控制,而采用两个玻璃,其结构较为厚重。(2)GFF模式;其中G是保护玻璃,F是ITO膜,用于分别将X轴电极图案与Y轴电极图案分别做到两个ITO膜,再使用OCA贴合;GFF模式制作过程中需使用OCA贴合三次,其透光性不好而且良率难以控制。(3)GF2模式;其中G是保护玻璃,F是双面ITO膜,分别将X轴电极图案和Y轴电极图案做到F的正反两面,通过OCA贴合,并使用金属线将X方向电极和Y方向电极引出;其制作过程中需分别制作与X轴电极图案和Y轴电极图案相连的金属线,制作困难且难以控制良率。(4)OGS模式,即在一层保护玻璃上直接形成ITO导电膜及传感器的技术,即将X轴电极图案和Y轴电极图案均制作在保护玻璃上,其过程中需要对X轴电极和Y轴电极进行搭桥,并分别制作与X轴电极图案和Y轴电极图案相连的金属线路,制作困难且难以控制良率。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于,针对现有技术的缺陷,提供一种无需两次制作金属线路并且无需X轴电极与Y轴电极之间搭桥的投射式电容屏及其制作方法。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种投射式电容屏,包括第一基板、第二基板、设置于所述第一基板上的第一ITO层以及设置于所述第二基板的第二ITO层,所述第一ITO层与所述第二ITO层之间通过光学胶粘接;所述第一ITO层包括由若干X轴方向电极形成的X轴电极层,所述第二ITO层包括由若干Y轴方向电极形成的Y轴电极层,所述投射式电容屏还包括设置于所述第一ITO层上的金属导线层;所述金属导线层包括与所述X轴电极层相连的X金属线和与所述Y轴电极层相连的Y金属线;所述X金属线与所述Y金属线独立分开设置在所述X轴电极层边缘,且分别与柔性线路板相连。
优选地,所述Y轴电极层与所述Y金属线通过异方性导电胶绑定连接。
优选地,所述第一基板与第一ITO层之间、所述第二基板与第二ITO层之间均设有用于消除光折射率的消影层。
优选地,所述第一基板的边缘上设有用于隐藏所述金属导线层的边框防护层。
本发明还提供一种投射式电容屏的制作方法,包括如下步骤:
S2:在第一基板上制作第一ITO层和金属导线层;所述第一ITO层包括由若干X轴方向电极形成的X轴电极层,所述金属导线层包括设置于所述X轴电极层边缘的独立分开设置的X金属线和Y金属线,所述X金属线与所述X电极层电连接;
S4:在第二基板上制作第二ITO层,所述第二ITO层包括由若干Y轴方向电极形成的Y轴电极层;
S6:将光学胶粘接在所述第一ITO层上;并将所述第二ITO层压合至所述光学胶上;将所述Y金属线与所述Y轴电极层电连接,将所述X金属线和所述Y金属线分别连接至柔性线路板上,以完成投射式电容屏的制作。
优选地,步骤S2之前还包括步骤S0:在所述第一基板上制作边框防护层及消影层,在所述第二基板上制作消影层;所述步骤S0包括:
S01:在第一基板的边缘上采用丝印工艺或黄光工艺制作边框防护层;
S02:在所述第一基板和所述第二基板上分别制作用于消除光折射率的消影层;所述步骤S02包括步骤:
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