[发明专利]研磨用组合物和基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及研磨用组合物和使用其的基板的制造方法。

背景技术

含有水溶性高分子的研磨用组合物例如可以用于硅基板等基板的研磨。水溶性高分子起到提高基板的表面的润湿性的作用，由此，基板的表面的异物的残留减少。专利文献1中公开了含有提高研磨速度、降低雾度水平的水溶性高分子等的研磨用组合物。

现有专利文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2003/072669号

发明内容

发明要解决的问题

使用研磨用组合物进行了研磨的基板的表面有时产生被称为LPD(光点缺陷，Light Point Defect)的表面缺陷。本发明发现研磨用组合物中含有的水溶性高分子的重均分子量、以及用重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn)表示的分子量分布与LPD的减少水平相关，是基于此而作出的。需要说明的是，关于这些相关性，专利文献1没有任何教导。

本发明的目的在于提供容易减少研磨后的表面的LPD的研磨用组合物以及基板的制造方法。此处，“减少LPD”是指减少LPD的数量或缩小尺寸等含义。

用于解决问题的方案

为了达成上述的目的，本发明的研磨用组合物的特征在于，其含有重均分子量为1000000以下、且用重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn)表示的分子量分布不足5.0的水溶性高分子。

优选的是，水溶性高分子包含选自纤维素衍生物、淀粉衍生物、聚乙烯醇、具有聚乙烯醇结构的聚合物、具有聚氧亚烷基结构的聚合物、以及主链或侧链官能团中具有氮原子的聚合物的至少一种。

优选的是，水溶性高分子包含选自纤维素衍生物、淀粉衍生物、聚乙烯醇和具有聚乙烯醇结构的聚合物的至少一种、以及选自具有聚氧亚烷基结构的聚合物和主链或侧链官能团中具有氮原子的聚合物的至少一种。

研磨用组合物优选用于研磨基板的用途。

研磨用组合物优选用于对基板进行最终研磨的用途。

本发明的基板的制造方法的特征在于，其包括使用上述研磨用组合物研磨基板的研磨工序。

发明的效果

根据本发明，容易减少研磨后的表面的LPD。

具体实施方式

以下，说明将本发明具体化的实施方式。需要说明的是，本发明并不限定于以下的实施方式，可以在不损害发明的内容的程度内进行适当设计变更。

研磨用组合物含有重均分子量为1000000以下、且用重均分子量(Mw)/数均分子量(Mn)表示的分子量分布不足5.0的水溶性高分子。本实施方式的研磨用组合物用于研磨例如硅基板、化合物半导体基板等基板的用途。此处，基板的研磨工序中例如包括使由单晶铸锭切片而成的圆盘状的基板的表面平坦化的预磨工序(例如，一次研磨或二次研磨)和将预磨工序后的基板的表面存在的细微凹凸去除而使其镜面化的最终研磨工序。研磨用组合物也可以适宜地用于对基板进行预磨的用途、进行最终研磨的用途。本实施方式的研磨用组合物更加适宜用于对基板进行最终研磨的用途。

作为水溶性高分子以外的成分，本实施方式的研磨用组合物还可以含有磨粒、碱性化合物和水。

＜水溶性高分子＞

水溶性高分子起到提高研磨面的润湿性的作用。通过使用分子量分布小的水溶性高分子，LPD的减少变得容易。如上所述，研磨用组合物使用的水溶性高分子的分子量分布不足5.0，优选为4.9以下，更优选为4.8以下，进一步优选为4.7以下，最优选为4.6以下。水溶性高分子的分子量分布理论上为1.0以上。随着使用的水溶性高分子的分子量分布增大，被研磨的表面的润湿性提高。

水溶性高分子的分子量分布也被称为多分散指数(Polydispersity Index，PDI)。重均分子量(Mw)表示聚环氧乙烷换算的重均分子量。重均分子量和数均分子量、以及分子量分布表示用通过凝胶渗透色谱法(Gel Permeation Chromatography，GPC)测定的值。

作为水溶性高分子，可以使用分子中具有选自阳离子基团、阴离子基团和非离子基团的至少一种官能团的物质。水溶性高分子例如在分子中具有羟基、羧基、酰氧基、磺基、酰胺结构、季氮结构、杂环结构、乙烯结构、聚氧亚烷基结构等。