[实用新型]一种LED芯片有效

专利信息
申请号: 201320736159.0 申请日: 2013-11-21
公开(公告)号: CN203617331U 公开(公告)日: 2014-05-28
发明(设计)人: 张杰;彭遥 申请(专利权)人: 惠州比亚迪实业有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/44
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 516083*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 led 芯片
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于半导体技术领域,具体涉及一种LED芯片。

背景技术

由于LED具有环保、节能、寿命长等优点,得到的广泛的应用。图1为现有技术中的水平结构LED芯片的结构示意图包括依次堆叠的衬底100’、第一掺杂类型半导体层200’、量子阱400’、第二掺杂类型半导体层500’、电流扩散层600’,以及第一电极300’、第二电极700’和覆盖在LED芯片顶部的钝化层900’。通常电流扩散层600’采用ITO材料,折射率为2.0;钝化层900’采用SiO2材料,折射率1.46。由于二者折射率相差较大,导致光在出光面发生全反射,全反射角为48°,LED芯片的出光角度仅为96°。LED芯片的发光亮度低。

发明内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述出光角度小的技术问题。为此,本实用新型的一个目的在于提出一种出光角度大的LED芯片。

根据本实用新型实施例的LED芯片,可以包括以下部分:衬底,所述衬底的表面具有图形化结构;第一掺杂类型半导体层,所述第一掺杂类型半导体层位于所述衬底上;第一电极,所述第一电极与所述第一掺杂类型半导体层接触;多量子阱,所述多量子阱位于所述第一掺杂类型半导体层上;第二掺杂类型半导体层,所述第二掺杂类型半导体层位于所述多量子阱上;电流扩散层,所述电流扩散层位于所述第二掺杂类型半导体层上;第二电极,所述第二电极位于所述电流扩散层的第一区域上;出光过渡层,所述出光过渡层位于所述电流扩散层的第二区域上;以及钝化层,所述钝化层位于所述出光过渡层上,其中,所述电流扩散层、出光过渡层和钝化层的折射率匹配。 

根据本实用新型上述实施例的LED芯片,至少具有如下优点:(1)光线从LED芯片顶部射出时,依次经过电流扩散层-出光过渡层-钝化层,而这三种的折射率匹配,从而能够更好地出射,展宽了出光角度,提高了发光亮度。(2)结构简单,适合大批量生产。

另外,根据本实用新型实施例的LED芯片还可以具有如下附加技术特征:

在本实用新型的一个实施例中,所述LED芯片为垂直结构。

在本实用新型的一个实施例中,所述出光过渡层的折射率等于所述电流扩散层的折射率和所述钝化层的折射率的几何平均值。

在本实用新型的一个实施例中,所述出光过渡层的透光率大于90%。

在本实用新型的一个实施例中,所述出光过渡层为氧化镁薄膜、二氧化钛纳米/有机复合薄膜或者掺锡的氧化钇薄膜。

在本实用新型的一个实施例中,所述出光过渡层为绝缘薄膜。

在本实用新型的一个实施例中,还包括:位于所述衬底底部的背镀层。

在本实用新型的一个实施例中,还包括:位于多量子阱和第二掺杂类型半导体层之间的电子阻挡层。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:

图1是传统水平结构的LED芯片的结构示意图;

图2为本实用新型第一实施例的LED芯片的结构示意图;

图3为无出光过渡层的LED芯片与本实用新型实施例LED芯片的出光示意图;

图4为本实用新型第二实施例的LED芯片的结构示意图;

图5是本实用新型实施例的LED芯片的形成方法的流程图;和

图6a至图6g是本实用新型实施例的LED芯片的形成方法的具体过程示意图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本实用新型,而不能理解为对本实用新型的限制。

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