[发明专利]基底传送设备和基底加工设备

说明书

技术领域

本发明涉及一种基底传送设备以及一种基底加工设备，且更确切地说，涉及一种当基底进行加工时，通过基底传送设备传送基底而使薄膜结晶于所述基底上的基底加工设备。

背景技术

在制造有机发光二极管(OLED)和太阳能电池时，通常执行热处理来使非晶多晶硅结晶。此处，当使用具有低熔点的基底时，使用激光来使非晶多晶硅结晶是十分有利的。

具体地，随着基底变得更大，在沉积薄膜之后执行退火处理时更加难以保证均匀性，因此提出各种方法。所述各种方法中的一种是使用激光使非晶多晶硅结晶的退火方法。图1是图示了根据相关技术的激光加工设备的图。

参考图1，气体入口端/出口端11a和11b设置在反应室10中，并且透明窗20设置在反应室10的上部部分中。激光束辐照单元40设置在透明窗20的上方，并且从所述激光束辐照单元40辐照出的激光束穿过透明窗20，到达反应室10内的基底W。

图2(A)、图2(B)是图示了从图1中的激光束辐照单元40辐照出的激光束41的形状的图。图2(A)图示了从上方看到的基底。图2(B)是基底的透视图。如图2(A)及图2(B)所示，激光束41以直线形状辐照到基底W上。由于基底W在与激光束41的直线垂直的方向上(在箭头方向上)水平移动，因此激光束41可以辐照到基底W的整个表面上。

用于传送基底的基底传送设备通过线性电机(linear motor，LM)引导件来实施。如图3所示，在LM引导件中，第一轴传送台52沿着LM导轨51移动，而用作基底支撑件的第二轴传送台53沿着所述第一轴传送台52移动。因此，当执行热处理时，基底W通过第二定向运动和水平旋转运动以及第一定向运动合适地进行定位。此处，第一轴和第二轴是构成二维平面的任意轴，它们分别可以简单地表示为X轴和Y轴。第一轴和第二轴的定义也将类似地或等效地适用于下文中的描述。

第一轴传送台沿着LM导轨移动，而第二轴传送台沿着所述第一轴传送台移动，同时与所述第一轴传送台机械地接触。机械接触会形成可能导致加工失败的微粒。为了将微粒的形成最少化，韩国专利申请公开案第2011-0010252号提出将空气轴承设置在第一轴传送台和第二轴传送台的下方，从而将机械摩擦接触最小化。

然而，当传送台通过使用空气轴承移动时，可能发生随后的限制。空气轴承通过气压而无接触地漂浮。此处，由于喷射出的气压，因此空气轴承周围的微粒被吹走，从而使得污染物沉积在基底上。

发明内容

本发明提供一种基底传送设备，其中基底被稳定地传送。

本发明还提供一种设备，其中通过使用空气轴承而产生的微粒污染物被最少化。

本发明还提供一种用于使得高质量膜能够沉积的设备。

根据示例性实施例，基底传送设备包含：通过空气轴承滑动的传送台；以及围绕空气轴承的吸收器，用来吸收从空气轴承喷射出之后折回的空气。

根据另一示例性实施例，基底传送设备包含：一对导轨，该对导轨设置在第一轴方向上并且彼此间隔开；第一轴传送台，所述第一轴传送台连接该对导轨，且所述第一轴传送台在第二轴方向上具有一长度，通过设置在第一轴传送台的底部表面上的空气轴承，所述第一轴传送台在第一轴方向上沿着导轨前后滑动；第二轴传送台，所述第二轴传送台设置在所述第一轴传送台上方，通过设置在第二轴传送台的底部表面上的空气轴承，所述第二轴传送台在第二轴方向上沿着第一轴传送台前后滑动；旋转轴引导件，所述旋转轴引导件插入到第二轴传送台的中心；基底支撑件，所述基底支撑件设置在所述旋转轴引导件的上方；以及围绕空气轴承的吸收器，用来吸收从空气轴承喷射出之后折回的空气。

第二轴传送台可以包含：基底支撑主体，所述基底支撑主体设置在第一轴传送台上方；第二轴传送台支撑主体，所述第二轴传送台支撑主体分别从基底支撑主体的两端向下突出，以在长度方向上围绕第一轴传送台的侧壁。

吸收器可以包含：吸盘，所述吸盘围绕空气轴承的空气喷射表面；固定啮合棒，所述固定啮合棒将所述吸盘固定到外围结构上；多个吸气孔，所述多个吸气孔界定在所述吸盘的底部表面中；吸气管，其设置在所述吸盘内，所述吸气管与所述多个吸气孔连通；以及排气端，所述排气端设置在所述吸气管末端处以排放吸入的空气。