[发明专利]一种显示基板制作方法及黑矩阵、显示基板、显示装置有效
申请号: | 201210564216.1 | 申请日: | 2012-12-21 |
公开(公告)号: | CN103034366A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 李娟 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 制作方法 矩阵 显示装置 | ||
技术领域
本发明涉及显示技术,尤其涉及一种显示基板制作方法及黑矩阵、显示基板、显示装置。
背景技术
目前,在进行嵌入式触摸屏的制作时,需要在彩膜内侧制作触控电极,触控电极一般均选用氧化铟锡共用电极、金属或两者皆有的导电层。
在彩膜内实现嵌入式触摸屏的工艺一般是在普通彩膜BM(黑矩阵)、R/G/B色阻、PS(柱状隔垫物)等的工艺完成的基础上,增加X、Y向触控电极的制作,触控电极的材质一般为共用电极;而形成共用电极图形的工艺需经过曝光、显影、刻蚀、剥离,制作流程长且刻蚀中显示区域内已经形成的色阻没有完整共用电极层的保护,易受到刻蚀液的腐蚀。同样,若选用金属作为触控电极,对触控电极的制作流程也比较复杂。
可见,目前制作触控电极的工艺流程复杂且对色阻的抗刻蚀液化学腐蚀的能力有很高要求,产品良率较低。
发明内容
本发明实施例提供一种显示基板制作方法及黑矩阵、显示基板、显示装置,以提高制作触控电极的效率和产品良率。
一种黑矩阵,包括:
由导电材料制作的横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形,每个横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极,或者至少两个相邻的横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极;且
所述横向黑矩阵图形和所述纵向黑矩阵图形异层设置,且在横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形之间设有色阻层,并由所述色阻层图形绝缘。
一种显示基板,包括本发明实施例提供的黑矩阵。
一种显示装置,包括本发明实施例提供的黑矩阵。
一种显示装置,包括本发明实施例提供的显示基板。
一种显示基板制作方法,包括:
通过导电材料制作横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形;
利用绝缘材料制作色阻层图形;
通过导电材料制作纵向黑矩阵图形或横向黑矩阵图形;其中,每个横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极,或者至少两个相邻的横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极;所述横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形通过所述色阻层图形绝缘。
本发明实施例提供一种显示基板制作方法及黑矩阵、显示基板、显示装置,由导电材料制作黑矩阵,并且,横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形异层设置,且在横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形之间设有色阻层,并由色阻层图形绝缘,每个横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极,或者至少两个相邻的横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极,因此,不需要再单独制作触控电极,减少了工艺流程,也避免了制作色阻后多次进行刻蚀,提高了产品良率。
附图说明
图1a为本发明实施例提供的黑矩阵结构示意图;
图1b为本发明实施例提供的横向黑矩阵和纵向黑矩阵交叠处的截面图;
图2为本发明实施例提供的显示基板结构示意图;
图3为本发明实施例提供的阵列基板结构示意图;
图4为本发明实施例提供的显示基板制作方法流程图。
具体实施方式
本发明实施例提供一种显示基板制作方法及黑矩阵、显示基板、显示装置,由导电材料制作黑矩阵,并且,横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形异层设置,且在横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形之间设有色阻层,并由色阻层图形绝缘,每个横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极,或者至少两个相邻的横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极,因此,不需要再单独制作触控电极,减少了工艺流程,也避免了制作色阻后多次进行刻蚀,提高了产品良率。
如图1a所示和图1b所示,本发明实施例提供的黑矩阵,包括:
由导电材料制作的横向黑矩阵图形101和纵向黑矩阵图形102,每个横向黑矩阵图形101或纵向黑矩阵图形102构成一个触控电极,或者至少两个相邻的横向黑矩阵图形101或纵向黑矩阵图形102构成一个触控电极;且
横向黑矩阵图形101和纵向黑矩阵图形102异层设置,且在横向黑矩阵图形101和纵向黑矩阵图形102之间设有色阻层,并由色阻层图形104绝缘。
其中,当每个触控电极中包括至少两个相邻的横向黑矩阵图形101或纵向黑矩阵图形102时,每个触控电极中还包括:用于连接构成该触控电极的各个横向黑矩阵图形101或纵向黑矩阵图形102的电极端103。
其中,图1b是图1a中横向黑矩阵图形101和纵向黑矩阵图形102交叠处的截面图。
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