[发明专利]一种显示基板制作方法及黑矩阵、显示基板、显示装置有效
申请号: | 201210564216.1 | 申请日: | 2012-12-21 |
公开(公告)号: | CN103034366A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 李娟 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100176 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 制作方法 矩阵 显示装置 | ||
1.一种黑矩阵,其特征在于,包括:
由导电材料制作的横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形,每个横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极,或者至少两个相邻的横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极;
所述横向黑矩阵图形和所述纵向黑矩阵图形异层设置,且在所述横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形之间设有色阻层,并由所述色阻层图形绝缘。
2.如权利要求1所述的黑矩阵,其特征在于,横向黑矩阵图形和所述纵向黑矩阵图形的材料具体为:
掺杂有纳米金属材料的聚合物基体;或者
掺杂有复合型掺杂导电材料的聚合物基体;或者
导电性高分子材料;或者
金属材料。
3.如权利要求2所述的黑矩阵,其特征在于,横向黑矩阵图形和所述纵向黑矩阵图形的材料具体为:
掺杂有导电纳米粒子或导电纳米丝的聚合物基体。
4.如权利要求3所述的黑矩阵,其特征在于,横向黑矩阵图形和所述纵向黑矩阵图形的材料具体为:
掺杂有纳米银粒子的聚合物基体。
5.如权利要求3所述的黑矩阵,其特征在于,所述掺杂有导电纳米粒子或导电纳米丝的聚合物基体中,掺杂成分占聚合物基体的质量的5%~70%。
6.如权利要求1所述的黑矩阵,其特征在于,所述在横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形之间设有色阻层,具体为:
所述横向黑矩阵图形和所述纵向黑矩阵图形之间设有红色色阻、绿色色阻、蓝色色阻中的至少一种。
7.一种显示基板,其特征在于,在所述显示基板的显示区域设置有如权利要求1-6任一所述的黑矩阵。
8.如权利要求7所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板为彩膜基板;该彩膜基板还包括:
边框导电胶,与所述触控电极连接,用于连接所述触控电极与阵列基板中连接触控驱动集成电路芯片IC的触控信号线。
9.如权利要求7所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括位于所述显示区域外侧的遮光区域;
所述遮光区域为常黑显示区域和/或背光黑胶带区域。
10.如权利要求9所述的显示基板,其特征在于,
对基于常黑模式的显示基板,所述常黑显示区域中的像素电极和共用电极之间的电压差为零;
对基于常白模式的显示基板,所述常黑显示区域中的像素电极和共用电极之间的电压差达到最大。
11.如权利要求8所述的显示基板,其特征在于,所述边框导电胶为黑色导电胶。
12.如权利要求8所述的显示基板,其特征在于,还包括:
具有图案的平坦层和/或具有图案的共用电极层,所述具有图案的平坦层和/或具有图案的共用电极层与所述横向黑矩阵图形、纵向黑矩阵图形及所述边框导电胶绝缘。
13.如权利要求7所述的显示基板,其特征在于,还包括:
用于遮光的外边框,设置在由所述横向黑矩阵图形和/或纵向黑矩阵图形构成的触控电极的端处。
14.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求7-13任一所述的显示基板。
15.一种显示基板制作方法,其特征在于,包括:
通过导电材料制作横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形;
利用绝缘材料制作色阻层图形;
通过导电材料制作纵向黑矩阵图形或横向黑矩阵图形;其中,每个横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极,或者至少两个相邻的横向黑矩阵图形或纵向黑矩阵图形构成一个触控电极;所述横向黑矩阵图形和纵向黑矩阵图形通过所述色阻层图形绝缘。
16.如权利要求15所述的方法,其特征在于,所述显示基板为彩膜基板;所述制作方法还包括:
在彩膜基板边缘制作边框导电胶,所述边框导电胶与所述触控电极连接,用于连接所述触控电极与阵列基板中连接触控驱动集成电路芯片IC的触控信号线。
17.如权利要求16所述的方法,其特征在于,所述横向黑矩阵图形和所述纵向黑矩阵图形的材料具体为:
掺杂有纳米金属材料的聚合物基体;或者
掺杂有复合型掺杂导电材料的聚合物基体;或者
导电性高分子材料;或者
金属材料。
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