[发明专利]立体光掩模及其制造方法以及立体表面图案化制作方法无效

专利信息
申请号: 201210158514.0 申请日: 2012-05-21
公开(公告)号: CN103424992A 公开(公告)日: 2013-12-04
发明(设计)人: 许馨卉;张胜杰;黄宝毅 申请(专利权)人: 启碁科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F1/76
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 立体 光掩模 及其 制造 方法 以及 表面 图案 制作方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种对具有立体曝光面物件曝光时使用的立体光掩模、一种此立体光掩模的制造方法以及一种使用此立体光掩模的立体表面图案化制作方法;特别是涉及一种在电子装置壳体表面制作天线的制作工艺中的曝光程序所使用的立体光掩模、一种此立体光掩模的制造方法以及一种使用此立体光掩模的立体表面图案化制作方法。 

背景技术

随着电子科技的日益进步以及电脑产业的应用普及,各式各样的可携式电子产品已普遍地应用在日常生活之中。其中,智慧型移动电话由于具有处理大量数字化资讯的强大功能以及方便携带的外观尺寸与重量,因而受到社会大众的喜爱与广泛使用。为了提升信号收发效果以提供良好视讯通话及网络通讯品质,以及考虑到节省空间以利于缩小机体体积,有越来越多的智慧型移动电话将天线或信号电路等设置于壳体表面。而壳体大多具有立体表面,尤其壳体内侧表面更有许多崎岖立体表面,例如弧角、隔间柱等。 

如图1A所示,前述天线77或信号电路等,可能因为设计需求而必须设置在壳体20的立体表面21上。前述天线77通常以印刷导电油墨、或以平板光掩模重复施以湿制作工艺、沉积、光刻、蚀刻等半导体程序的图案化制作工艺而设置。具体而言,如图1B及1C所示,在图案化制作工艺中,壳体20的立体表面21上会先涂布有光致抗蚀剂层50,然后使用光掩模80对光致抗蚀剂层50曝光。然而,现有的光掩模为平板式,使用此类平板式光掩模对涂布于立体表面21上的光致抗蚀剂层50曝光时,会因光线角度而受到限制。例如图1B所示,由于光线由上而下照射,因此欲曝光部分71(即欲形成的图案化保护层)会因为角度的关系无法被有效曝光。另一方面,由于现有所使用的光掩模材质为石英玻璃,造价不菲,加上智慧型移动电话的产品周期极短,每款机型的天线不尽相同。换言之,每推出一种款式,就必 须重新设计、制作制作工艺上使用的光掩模,相当耗费时间与金钱。以上光掩模及对立体表面曝光的方法有改善的空间。 

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种对具有立体曝光面物件曝光时使用的立体光掩模,可增进对立体曝光面的曝光效果以及减少曝光次数以降低成本。 

本发明的另一目的为提供一种对具有立体曝光面物件曝光时使用的立体曝光治具,可增进对立体曝光面的曝光效果并能依客户需求快速设计变更图样以及减少曝光次数以降低成本。 

本发明的另一目的为提供一种立体光掩模制造方法,可减少曝光次数以降低成本。并能依客户需求快速设计变更图样。 

本发明的另一目的为提供一种立体表面图案化制作工艺方法,可增进对立体曝光面的曝光效果以及减少成本。 

本发明的立体光掩模供对物件曝光时使用。其中,物件具有立体曝光面。立体光掩模包含立体图案面以及图案单元。立体图案面具有固定且与立体曝光面互补的立体形状,以与立体曝光面相嵌合。图案单元形成于立体图案面。 

立体光掩模形成凹形半开放空间,立体图案面是凹形半开放空间的内面。在一实施例中,立体光掩模是不透光高分子材质,图案单元形成于立体图案面的镂空部,图案单元较佳为形成于立体图案面且侧壁与立体图案面的法线夹15°以上的开口渐窄的镂空部。在另一实施例中,立体光掩模是透光高分子材质并以热压成型、抽真空成型或注塑成型,立体图案面的表面进一步覆盖不透光层,图案单元形成于不透光层的镂空部。 

立体曝光治具包含前述立体光掩模以及治具下盖。治具下盖可与立体光掩模共同形成容置空间容置物件,并限制物件的位移,其中当物件位于容置空间,立体图案面与立体曝光面相嵌合。 

本发明中的立体光掩模可视物件的立体曝光面需求设计,并不限将立体光掩模设计具有半凹容置空间。倘若立体曝光面为凹陷状,也可视将立体光掩模设计为凸面以与立体曝光面相嵌合。 

本发明的立体光掩模制造方法包含下列步骤:步骤A1:形成具有立体图案面的立体光掩模,立体图案面具有固定且与立体曝光面互补的立体形 状,以与立体曝光面相嵌合;以及步骤A2:形成图案单元于立体图案面。 

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