[发明专利]有机性排水的处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种将对有机性排水进行过厌氧处理接着进行过好氧处理后的处理液通过膜进行固液分离的生物处理装置，尤其是涉及一种适于有机性排水为从液晶显示器或半导体制造工厂排出的且全部有机物中碳原子数4以下的有机物的比例为70％以上的情形的有机性排水的处理装置。

背景技术

在液晶显示器或半导体制造工厂等电子产业工厂中，会排出含有单乙醇胺、四甲基氢氧化铵、二甘醇单N-丁基醚、异丙醇等的在加工工序中作为洗净剂、剥离剂等使用的特定的低分子有机物的排水。以往，在适用厌氧处理的食品、饮料工厂等的含有淀粉、糖、蛋白质等的高分子有机物的排水中，多数情况下，在分解过程中生成的各种慢分解性成分的一部分会残存在处理水中，但是，在电子产业工厂排水中所含的低分子有机物不生成慢分解性的中间体，而迅速分解成醋酸、甲烷。因此，在电子产业工厂排水的厌氧处理中，即使对于BOD 300～500mg/L左右的排水也能够以95％以上的高除去率进行处理，在处理液中有机物浓度显著变低(BOD 20mg/L以下)。

作为对如此的来自半导体工厂等的有机性排水进行生物处理的装置，已知有对有机性排水进行厌氧处理后，进行好氧处理，接下来进行固液分离的装置(专利文献1，2)。在专利文献2中，将膜配置在硝化槽内。

厌氧处理中，成为膜污染的原因的代谢产物的生成比好氧处理少，因此，如上所述地，进行厌氧→好氧→膜分离的加工处理，与对原水直接进行好氧处理然后进行膜分离的情况相比，膜污染减小，能够减少膜的药品洗净频率。此外，由于进行厌氧处理，因此还有污泥产生量减小、曝气空气量减小的效果。

对生物处理液进行膜分离处理的分离膜模件中，有使膜模件浸渍于曝气槽内并吸取过滤水的浸渍型、和将槽内污泥循环至设于曝气槽外的膜模件并吸取处理水的槽外设置型，其中，槽外设置型使污泥以高流速循环到膜模件内，因此，与浸渍型相比，一般会增多动力成本，因此，如专利文献2所示浸渍型得到广泛普及。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-175582号公报

专利文献2：日本特开2006-305555号公报

发明内容

如上所述，电子产业工厂排水的厌氧处理中，即使对BOD 300～500mg/L左右的排水也能够以95％以上的高除去率进行处理，在处理液中有机物浓度显著变低(BOD 20mg/L以下)。因此，当作为电子产业排水的厌氧处理的后级的膜分离模件采用浸渍型时，为了确保使膜模件浸渍的空间，曝气槽容量变大，好氧处理槽以极低的BOD负荷及槽内污泥浓度运转。

具有浸渍型膜模件的好氧处理槽内的污泥浓度低至2,000mg/L以下时，不会在膜表面形成过滤滤饼层，相反变得容易堵塞，除此之外，在减少污泥的取出量将SRT过度地变长的情况下，污泥分散化而易堵塞。如此地，在电子产业排水的厌氧处理的后级设计的具有浸渍型膜模件的好氧处理槽中，存在膜污染剧烈、洗净频率增加的问题。

本发明的目的在于提供一种排水处理装置，其通过厌氧处理槽对有机性排水进行厌氧处理，并通过好氧处理槽对厌氧处理槽的处理液进行好氧处理，并用膜分离模件进行固液分离而获得处理水，其能够抑制膜分离模件的膜污染，减少洗净频率。

第1发明(技术方案1)的有机性排水的处理装置，其通过厌氧处理槽对有机性排水进行厌氧处理，并通过好氧处理槽对厌氧处理槽的处理液进行好氧处理，并用膜分离模件进行固液分离而获得处理水，其特征在于，膜分离模件是槽外设置型膜分离模件。

在第1发明中，优选所述有机性排水中的全部有机物中碳原子数4以下的有机物的比例是70％以上。

在第1发明中，优选所述有机性排水是从液晶显示器或半导体制造工厂排出的有机性排水。

第1发明中，有机性排水的处理装置通过厌氧处理槽对有机性排水进行厌氧处理，并通过好氧处理槽对厌氧处理槽的处理液进行好氧处理，并用膜分离模件进行固液分离而获得处理水，其中，该膜分离模件是槽外设置型膜分离模件。由此，好氧处理槽容积不会受到膜的设置空间的影响，能够在膜污染少的适当条件下运转好氧处理槽的BOD负荷、污泥浓度、SRT，膜洗净频率变少。

第2发明(技术方案4)的有机性排水的处理装置，其通过厌氧处理槽对有机性排水进行厌氧处理，并通过好氧处理槽对厌氧处理槽的处理液进行好氧处理，并用膜分离模件进行固液分离而获得处理水，其特征在于，在该好氧处理槽中具有添加厌氧处理液以外的有机物的设备。

在第2发明中，优选所述有机性排水中的全部有机物中碳原子数4以下的有机物的比例是70％以上。