[发明专利]一种金属纳米薄膜厚度的检测方法无效
| 申请号： | 201210088205.0 | 申请日： | 2012-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN102620642A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 李壮;温志伟;张悦;许富刚;孙玉静;石岩;戴海潮 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春应用化学研究所 |
| 主分类号： | G01B7/06 | 分类号： | G01B7/06 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏晓波;逯长明 |
| 地址： | 130022 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 纳米 薄膜 厚度 检测 方法 | ||
1.一种金属纳米薄膜厚度的检测方法，包括以下步骤：
a)检测待测金属纳米薄膜的电阻，得到所述金属纳米薄膜的电阻值；
b)根据所述步骤a)得到的电阻值和预先制定的金属纳米薄膜厚度与金属纳米薄膜的电阻值之间的标准曲线，得到所述金属纳米薄膜的厚度；
所述标准曲线为金属纳米薄膜电阻值的对数与所述金属纳米薄膜厚度的倒数之间的标准曲线。
2.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述金属纳米薄膜电阻值的对数为所述金属纳米薄膜电阻值的自然对数。
3.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述金属纳米薄膜为厚度小于70nm的金属纳米薄膜。
4.根据权利要求3所述的检测方法，其特征在于，所述金属纳米薄膜为厚度小于等于50nm的金属纳米薄膜。
5.根据权利要求3或4任意一项所述的检测方法，其特征在于，所述金属纳米薄膜为厚度大于等于3nm的金属纳米薄膜。
6.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述金属纳米薄膜的材质为纯金属或金属合金。
7.根据权利要求6所述的检测方法，其特征在于，所述金属纳米薄膜为铂纳米薄膜、银纳米薄膜或金纳米薄膜。
8.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述步骤a)具体为：
采用万用表检测待测金属纳米薄膜的电阻，得到所述金属纳米薄膜的电阻值。
9.根据权利要求1所述的检测方法，其特征在于，所述步骤b)中的标准曲线由以下方法获得：
检测得到金属纳米薄膜的标准厚度；
检测所述金属纳米薄膜的电阻，得到所述金属纳米薄膜的电阻值；
根据所述金属纳米薄膜的电阻值，得到所述金属纳米薄膜电阻值的对数；
根据所述金属纳米薄膜的标准厚度的倒数与所述金属纳米薄膜电阻值的对数，得到标准曲线。
10.根据权利要求9所述的检测方法，其特征在于，所述检测得到金属纳米薄膜的标准厚度具体为：
采用原子力显微镜检测得到金属纳米薄膜的标准厚度。
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