[发明专利]一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种LCD显示技术领域，具体涉及一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法。

背景技术

由于防眩膜的表面呈微粒状的凹凸，一方面，可以降低环境光的干扰，提高画面的清晰度和能度，减少屏幕反光；另一方面，防眩膜可以对屏幕提供多一层的保护，所以电子产品，比如手机、笔记本电脑以及平板电脑的屏幕上都会多贴附一层防眩膜。而目前市面上所用的防眩膜大多为含有银的PS205T防眩膜，具有较高的生产成本，同时，这种防眩膜的厚度大多在0.3mm，贴附时会增加屏幕的厚度，而在接触到较硬的物体时虽然保护了屏幕，但自身很容易受到刮蹭而留下痕迹，需要经常更换以保持外观的光洁美感。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法，能够降低生产成本、减小屏幕贴膜的厚度、还能增强防眩膜的表面硬度、提高防刮能力。

为解决以上技术问题，本发明提供的技术方案是，一种触控屏防眩面盖，在透明面盖上镀有一层硬质保护膜，该硬质保护膜通过蚀刻液的腐蚀，使硬质保护膜形成磨砂雾化的表面。

所述防眩面盖的厚度在0.5mm～2mm，所述硬质保护膜的雾化达到5％～15％。

所述硬质保护膜为二氧化硅膜。

在此基础上，本发明提供一种触控屏防眩面盖制作方法，包括：a、在透明面盖上镀一层硬质保护膜；b、将镀有硬质保护膜的透明面盖放入蚀刻液中进行腐蚀，待硬质保护膜形成磨砂雾化的表面后，将透明面盖取出。

所述硬质保护膜为二氧化硅薄膜，蚀刻液为氢氟酸溶液。

所述二氧化硅薄膜的厚度为100-500埃，蚀刻温度为20-40℃，氢氟酸溶液的浓度为2-30％，等待的时间为5min-100min。

所述二氧化硅薄膜的厚度为150-350埃；蚀刻温度为22-35℃，氢氟酸溶液的浓度为11-28％，等待的时间为15min-75min。

所述二氧化硅薄膜的厚度为200-300埃；蚀刻温度为24-30℃，氢氟酸溶液的浓度为18-26％，等待的时间为25min-50min。

所述二氧化硅薄膜的厚度为250±10埃；蚀刻温度为25±1℃，氢氟酸溶液的浓度为25±1％，等待的时间为34±1min。

此外，本发明还提供一种电子产品，包括触控屏，所述触控屏采用上述的触控屏防眩面盖。

与现有技术相比，本发明在透明面盖上直接镀一层硬质保护膜，之后蚀刻成雾面。由此形成的防眩面盖中，由于镀膜的厚度很小，使触控屏在具有防眩功能的同时可有效地避免外加贴膜给屏幕带来的厚度。特别地，采用二氧化硅这类材料形成的硬质镀膜，一方面降低了生产成本，另一方面也提高了防眩面盖的表面硬度，有助于加强防眩膜的防刮能力。

附图说明

图1为本发明中防眩面盖的结构示意图；

图2为本发明中防眩面盖的制作方法流程图；

图1-2中，附图标记为：1、面盖；2、二氧化硅薄膜。

具体实施方式

本发明的基本构思是，在透明面盖上镀硬质保护膜，之后蚀刻成雾面，由此能够在降低成本的同时增强面盖表面硬度、加强防刮能力。

为了使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合具体实施例对本发明作进一步的详细说明。

参见图1，表示本发明防眩面盖的一个较优实施例。该防眩面盖，在透明材质的面盖1上镀有一层硬质的保护膜，其中，透明材质的面盖可以是钢化玻璃或塑料等；硬质保护膜是一层以二氧化硅这类材料为原料的镀膜。在室温条件下，二氧化硅薄膜2通过蚀刻液的腐蚀，使二氧化硅薄膜2的表面形成磨砂雾化的效果，其中蚀刻液为氟化氢溶液，也可以为氟化铵与硫酸或盐酸的混合溶液。经过蚀刻液的腐蚀，二氧化硅薄膜表面的雾化值达到5％～15％，蚀刻防眩面盖厚度在0.5mm～2mm。

参见图2，表示本发明防眩面盖制作方法流程，该防眩面盖的制作方法主要包括如下步骤：

S201、在透明面盖上镀一层硬质保护膜；

S202、准备蚀刻液；

S203、在室温下，将步骤S201中镀有硬质保护膜的透明面盖放入步骤S202中准备好的蚀刻液中进行腐蚀，使硬质保护膜形成磨砂雾化的表面；

S204、等待蚀刻液将步骤S203中的透明面盖上的硬质保护膜腐蚀一段时间后取出；

S205、检测步骤S204中透明面盖上所镀硬质保护膜的雾度值。

上述实施例中S201与S202的先后顺序并非固定，两者的顺序可以颠倒，也可同时进行。