[发明专利]一种电子产品及其触控屏面盖和制作方法

权利要求书

1.一种触控屏防眩面盖，其特征在于，在透明面盖上镀有一层硬质保护膜，该硬质保护膜通过蚀刻液的腐蚀，使硬质保护膜形成磨砂雾化的表面。

2.如权利要求1所述的触控屏防眩面盖，其特征在于，所述防眩面盖的厚度在0.5mm～2mm，所述硬质保护膜的雾化达到5％～15％。

3.如权利要求1所述的触控屏防眩面盖，其特征在于，所述硬质保护膜为二氧化硅膜。

4.一种触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，包括：

a、在透明面盖上镀一层硬质保护膜；

b、将镀有硬质保护膜的透明面盖放入蚀刻液中进行腐蚀，待硬质保护膜形成磨砂雾化的表面后，将透明面盖取出。

5.如权利要求4所述的触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，所述硬质保护膜为二氧化硅薄膜，蚀刻液为氢氟酸溶液。

6.如权利要求5所述的触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，所述二氧化硅薄膜的厚度为100-500埃，蚀刻温度为20-40℃，氢氟酸溶液的浓度为2-30％，等待的时间为5min-100min。

7.如权利要求5所述的触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，所述二氧化硅薄膜的厚度为150-350埃；蚀刻温度为22-35℃，氢氟酸溶液的浓度为11-28％，等待的时间为15min-75min。

8.如权利要求5所述的触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，所述二氧化硅薄膜的厚度为200-300埃；蚀刻温度为24-30℃，氢氟酸溶液的浓度为18-26％，等待的时间为25min-50min。

9.如权利要求5所述的触控屏防眩面盖制作方法，其特征在于，所述二氧化硅薄膜的厚度为250±10埃；蚀刻温度为25±1℃，氢氟酸溶液的浓度为25±1％，等待的时间为34±1min。

10.一种电子产品，包括触控屏，其特征在于，所述触控屏采用权利要求1-9所述的触控屏防眩面盖。