[发明专利]一种柔性不锈钢衬底上CIGS吸收层的Na掺杂方法无效
申请号: | 201210054339.0 | 申请日: | 2012-03-05 |
公开(公告)号: | CN103296130A | 公开(公告)日: | 2013-09-11 |
发明(设计)人: | 马格林;张建柱;孙玉娣;彭博 | 申请(专利权)人: | 任丘市永基光电太阳能有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 062550 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 不锈钢 衬底 cigs 吸收 na 掺杂 方法 | ||
一、技术领域
本发明专利涉及光伏器件CIGS薄膜太阳电池的制备工艺,尤其涉及柔性不锈钢衬底上吸收层CIGS的Na掺杂方法。
二、背景技术
Cu(InGa)Se2(CIGS)薄膜太阳电池是转换率最高的薄膜光伏技术,最近,已在玻璃衬底上获得了实验室级的,转换效率20.3%的Cu(InGa)Se2(CIGS)太阳电池。轻质的柔性CIGS薄膜太阳电池组件不仅拓宽了太阳电池在地面应用的范围,同时由于其便于使用卷对卷工艺,而使其发电成本降低。
高转换率黄铜矿CIGS薄膜太阳电池要求CIGS吸收层中掺入0.1%的Na。在CIGS吸收层的生长温度下,Na从钠钙玻璃衬底扩散出来,通过Mo背接触层进入正在生长的CIGS层。Na对CIGS层电子和结构方面的影响如下:1)改进CIGS膜的生长,2)掺入CIGS晶格,形成NaInSe2,3)使晶粒边界的施主型缺陷InCu钝化成NaCn,4)由于Na的扩散伴随着O的扩散,扩散到施主型的VSe,形成中性的OSe,从而使净受主缺陷增多,P型导电性增强,光生载流子复合减少,光生电流增强。柔性太阳电池优先选择的衬底是金属和聚酰亚胺箔,其中不含有对CIGS低温生长重要的Na,因此为了优化这些无Na衬底上太阳电池的性能,需要在CIGS层的最佳部位,加入的最佳量的Na。当前Na的掺杂方式为沉积Na的预置层。Na预置层的沉积位置有,Mo沉积前的衬底表面,沉积掺Na的Mo,在Mo层表面,三步共蒸发法的第一,二、生长期间或结束后沉积预置层。由于Na可阻止Cu、In、Ga的扩散而使Mo层的生长发生改变。由于上述几种Na预置层的沉积部位和时机,使得掺入的Na参与了CIGS膜层生长,当Na参入量较大时容易生成晶粒较小,取向度较差的膜层,同时占据Cu晶格位的Na原子增多,而使Mo层的P型导电性减弱,晶粒边界处光生载流子复合增强,光生载流子减小,致使太阳电池的光电转换率不高。在这里我们根据Na对Cu、In、Ga的扩散的阻碍和对边界缺陷的钝化作用,提出了在三步共蒸发生长CIGS吸收层的第三步生长结束后,在低温下蒸发沉积Na预置层,再在较高温度下退火,使其扩散到晶粒表面和边界处,为制备高光电转换效率的CIGS太阳电池提供了可能。
三、发明内容
对当前Na预置层沉积部位和时机带来的不利影响,本Na掺杂方法要解决的问题是如 何避免Na对CIGS膜层生长的不利影响,充分发挥其增强P型导电作用的问题,并提出了在CIGS太阳电池制备工艺的Na预置层,Na预置层的沉积及其沉积后处理的方法。
为解决上述问题,本Na的掺杂方法采用如下技术方案:
一种新的Na掺杂方法:其包括:充分抑制Na对Cu、In、Ga的扩散的阻碍作用,使CIGS膜层由垂直于界面取向的的柱状大晶粒致密的堆积而成,这样可使少数载流子的迁移率较大,从而获得较高的载流子迁移率;尽可能钝化粒表面和边界处的施主缺陷InCu和VSe,使CIGS膜层的P型导电性增强,多数载流子的界面复合减小,短路电流增加;通过退火是少数Na原子扩散进晶粒,使晶粒内的Ga向表面析出,表面的Ga浓度增加,有利于开路电压和CIGS膜层吸收光子的范围增加。
优选的,所述的抑制Na对Cu、In、Ga的扩散的阻碍作用,其采用在三步共蒸发法沉积CIGS吸收层的第三步结束后沉积Na预置层。
优选的,预置层的沉积方法为蒸发沉积
优选的,预置层的衬底温度为80℃
优选的,预置层的趁机厚度为25nm
优选的,所述的尽可能钝化粒表面和边界处的施主缺陷InCu和VSe,其采用预置层沉积后高温退火。
优选的,退火温度为480℃。
优选的,退火时间为20min。
优选的,退火气氛为Se气氛下。
优选的,Na预置层材料Na2S
四、具体实施方式
柔性不锈钢衬底上CIGS吸收层Na的掺杂方法的具体实施介绍如下
柔性CIGS吸收层池Na的掺杂工艺如下:
三步共蒸发法沉积CIGS吸收层第三步生长结束后沉积Na的预制层Na2S膜层。Na预制层的沉积工艺:在三步共蒸发法第三步生长结束后,衬底温度在Se气氛下降低至300℃,关闭Se蒸发源,使衬底温度继续降低,直至<100℃的80℃时,蒸发沉积25nm厚的Na2S膜层,沉积结束后,在H2S气氛中使衬底升温到480℃,并在此温度下对样品退火20min。
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