[发明专利]一种气相沉积用多层制品支架及化学气相沉积反应室有效
申请号: | 201110404792.5 | 申请日: | 2011-12-07 |
公开(公告)号: | CN102424957A | 公开(公告)日: | 2012-04-25 |
发明(设计)人: | 刘汝萃;刘汝强 | 申请(专利权)人: | 山东国晶新材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/32;C23C16/42 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 吕利敏 |
地址: | 251200 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 沉积 多层 制品 支架 化学 反应 | ||
1.一种化学气相沉积用多层制品支架,其特征在于包括由圆套筒、布气盘和支杆组成的单元层;所述单元层的结构是布气盘置于圆套筒上,支杆直立固定在布气盘上用于支撑待涂基板,在一个单元的布气盘上放置另一个单元层的圆套筒;其中,所述圆套筒壁的上部对称设有两个凹口便于气体流通;所述支杆有一尖端。
2.如权利要求1所述的多层制品支架,其特征在于,圆套筒外径与布气盘直径相同。
3.如权利要求1所述的多层制品支架,其特征在于,所述布气盘为设有通孔的石墨圆盘。
4.如权利要求1所述的多层制品支架,其特征在于,所述圆套筒高度为支杆固定在布气盘上支撑基板后,基板顶部距离另一层布气盘20-50mm。
5.如权利要求1所述的多层制品支架,其特征在于,所述支杆为钨针。
6.如权利要求1所述的多层制品支架,其特征在于,所述圆套筒为石墨材质,壁厚6~8mm。
7.如权利要求1所述的多层制品支架,其特征在于,所述圆套筒壁上部的凹口形状为弧形、长方形、方形或锥形。
8.如权利要求1所述的多层制品支架,其特征在于,所述多层基板支架由3~5个单元层组成。
9.一种化学气相沉积反应室,包括权利要求1-8任一项所述的多层制品支架和反应室腔体,所述的多层制品支架置于腔体内进气口上的进气布气板上,进气口位于反应室底部,出气口与进气口相对位于反应室的顶部。
10.一种碳化硅涂层制品的生产方法,包括使用权利要求1-8任一项所述的多层制品支架,将所述的多层制品支架置于气相沉积反应室腔体内进气口上的进气布气板上,将待涂基板放置于支杆的尖端,3~4个支杆撑一个待涂基板,原料气从反应室底部进入,反应后的气体从反应室的顶部排出。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的