[发明专利]曝光装置、曝光方法以及显示用面板基板的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光装置、曝光方法以及使用所述曝光装置及曝光方法的显示用面板(panel)基板的制造方法，所述曝光装置在液晶显示(display)装置等的显示用面板基板的制造过程中，将光束(beam)照射至涂布有光刻胶(photoresist)的基板，借由光束来对基板进行扫描，在基板上描绘出图案(pattern)，本发明特别涉及如下的曝光装置、曝光方法以及使用所述曝光装置及曝光方法的显示用面板基板的制造方法，所述曝光装置使用多个光束照射装置，借由多条光束来对基板进行扫描。

背景技术

使用曝光装置，借由光刻(photolithography)技术在基板上形成图案，从而制造出被用作显示用面板的液晶显示装置的薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)基板或彩色滤光片(color filter)基板、等离子显示(plasma display)面板用基板、以及有机电致发光(Electroluminescence，EL)显示面板用基板等。作为曝光装置，以往，已有投影(projection)方式的曝光装置与接近(proximity)方式的曝光装置，所述投影方式的曝光装置是使用透镜(lens)或镜子来将光罩(mask)的图案投影至基板上，所述接近方式的曝光装置是在光罩与基板之间设置微小的间隙(接近间隙(proximity gap))，将光罩的图案转印至基板。

近年来，已开发出如下的曝光装置，该曝光装置是将光束照射至涂布有光刻胶的基板，借由光束来对基板进行扫描，从而在基板上描绘出图案。借由光束来对基板进行扫描，从而直接在基板上描绘出图案，因此，无需昂贵的光罩。另外，可借由将描绘数据(data)以及扫描的程序(program)予以变更来对应于各种类型的显示用面板基板。作为此种曝光装置，例如已有专利文献1、专利文献2、以及专利文献3所揭示的曝光装置。

[先前技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2010-44318号公报

[专利文献2]日本专利特开2010-60990号公报

[专利文献3]日本专利特开2010-102084号公报

当借由光束在基板上描绘出图案时，使用数字微镜器件(DigitalMicromirror Device，DMD)等的空间光调制器(spatial light modulator)来对光束进行调制。DMD是将对光束进行反射的多个微小的面镜(mirror)排列于正交的两个方向而构成，驱动电路基于描绘数据来将各面镜的角度予以变更，借此，对照明光学系统所供给的光束进行调制。经空间光调制器调制的光束从光束照射装置的包括投影透镜的照射光学系统向基板照射。

在液晶显示装置等的显示用面板基板的制造过程中，由于曝光区域广阔，因此，若使用一个光束照射装置，且借由一条光束来对整个基板进行扫描，则对于整个基板的扫描会耗费时间，工作时间(tact time)变长。为了使工作时间缩短，必须使用多个光束照射装置，且借由多条光束来并行地对基板进行扫描。

DMD的面镜的动作角度存在由每个DMD的公差所引起的不均。若DMD的面镜的动作角度不同，则经DMD的面镜反射且透过投影透镜等的照射光学系统的光束的光路会偏移，光束的衍射光的强度分布会发生变化。当使用多个光束照射装置，且借由多条光束来对基板进行扫描时，存在如下的问题，即，若从各光束照射装置向基板照射的光束的衍射光的强度分布存在不均，则解析性能会不均，无法均一地描绘出图案，描绘品质会下降。

发明内容

本发明的课题在于：当借由来自多个光束照射装置的多条光束来对基板进行扫描，在基板上描绘出图案时，对光束的衍射光的强度分布的不均进行修正，从而使描绘品质提高，所述光束的衍射光的强度分布的不均是由空间光调制器的面镜的动作角度的不均引起。另外，本发明的课题在于：制造高品质的显示用面板基板。