[发明专利]使用石墨烯对比度增强层的光刻

说明书

背景技术

除非另有声明，这一部分中所述的材料并非相对于该申请中权利要求是现有技术，并且并不承认由于包括在这一部分中就是现有技术。

在光刻时，可以使用掩模在衬底上形成图案。在一些示例中，可以将光敏光致抗蚀剂层涂覆到衬底上。光源可以通过掩模向衬底施加光束。掩模上的图案可以使光束基于该图案对光致抗蚀剂的一些区域曝光、且阻挡光致抗蚀剂的其他区域曝光。光致抗蚀剂可以与施加的光反应以在衬底上形成图案。可以将光学系统插入到掩模和衬底之间，使得可以改变暴光到光致抗蚀剂层的图案的尺寸。

发明内容

一般地描述了包括通过光刻形成的图案的方法、系统和结构的技术。

在一些示例中，一般地描述了一种形成结构的方法。示例方法可以包括：将光致抗蚀剂层涂覆到衬底上；以及将石墨烯层涂覆到光致抗蚀剂层上。在一些示例中，该方法还可以包括通过掩模向石墨烯层施加光。其中掩模包括图案。所施加的光可以在石墨烯层上形成图案，并且使得该图案形成在光致抗蚀剂层上。

在一些示例中，一般地描述了一种结构。示例结构可以包括在衬底上具有光致抗蚀剂层的衬底。该结构还可以包括光致抗蚀剂层上的石墨烯层。

在一些示例中，一般地描述了一种用于形成结构的系统。示例系统可以包括处理器、光源、掩模、衬底、光致抗蚀剂层和石墨烯层。光致抗蚀剂层可以形成于衬底上，在光致抗蚀剂层上形成有石墨烯层。处理器可以配置为与光源通信，并且配置为通过掩模向石墨烯层施加光。在一些示例中，光可以用于在石墨烯层上形成图案，使得可以在光致抗蚀剂层上形成该图案。

以上发明内容仅仅是说明性的，而绝不是限制性的。除了上述示例性的各方案、各实施例和各特征之外，参照附图和以下详细说明，将清楚其他方案、其他实施例和其他特征。

附图说明

根据以下说明和所附权利要求，结合附图，本公开的前述和其他特征将更加清楚。在认识到这些附图仅仅示出了根据本公开的一些示例且因此不应被认为是限制本公开范围的前提下，通过使用附图以额外的特征和细节来详细描述本公开，附图中：

图1示出了可以用来实现使用石墨烯对比度增强层的光刻的示例系统；

图2示出了用于实现使用石墨烯对比度增强层的光刻的示例处理的流程图；

图3示出了可以用来实现使用石墨烯对比度增强层的光刻的计算机程序产品；以及

图4是示出了配置为实现使用石墨烯对比度增强层的光刻的示例计算设备的方框图，所有这些都根据这里描述的至少一些实施例来配置。

具体实施方式

在以下详细说明中，参考了作为详细说明的一部分的附图。在附图中，类似符号通常表示类似部件，除非上下文另行指明。具体实施方式部分、附图和权利要求书中记载的示例性实施例并不是限制性的。在不脱离在此所呈现主题的精神或范围的情况下，可以利用其他实施例，且可以进行其他改变。应当理解，在此一般性记载以及附图中图示的本公开的方案可以按照在此明确和隐含公开的多种不同配置来设置、替换、组合、分割和设计。

本公开一般地主要涉及与使用石墨烯对比度增强层的光刻相关的系统、方法、材料和设备。

简而言之，一般地描述了包括通过光刻形成的图案的方法、系统和结构的技术。在一些示例方法中，将光致抗蚀剂层涂覆到衬底上，并且可以将石墨烯层涂覆到光致抗蚀剂层上。可以通过掩模向石墨烯层施加光，其中掩模包括图案。光可以在石墨烯层上形成图案，使得该图案形成在光致抗蚀剂层上。

还应该理解，在说明书中明确或隐含公开的和/或在权利要求中记载为属于一组的任意化合物、材料或物质或者结构上、成分上或功能上相关的化合物、材料或物质包括该组中的各单独项及其所有组合。

图1示出了根据这里所述的至少一些实施例的可以用来实现使用石墨烯对比度增强层的光刻的示例系统。示例光刻系统100可以包括衬底102、光致抗蚀剂层104、石墨烯层106、光源110、光学系统154和/或掩模108。这些元件的至少一些可以设置为通过通信链路156与处理器154通信。在一些示例中，处理器154可以适于与存储器158通信，存储器158包括在存储器中存储的指令160。处理器154可以配置为(例如通过指令160)控制下面描述的操作中的至少一些。