[发明专利]一种耐热负性光刻胶的制备方法无效
| 申请号： | 200610151036.5 | 申请日： | 2006-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN101192005A | 公开（公告）日： | 2008-06-04 |
| 发明（设计）人： | 张玉军;张明艳;巩桂芬;李磊 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150080黑*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 耐热 光刻 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于以聚环化丁二烯为胶液基体，以2，6-双(叠氮亚苄基)4-甲基环己酮为交联剂，以二苯甲酮为光敏剂，以环己烷为溶剂，通过原料精制、调胶和过滤工艺，可得到紫外光固化的耐热负性光刻胶。
2.根据权利要求一所述的一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于所述的制备负性光刻胶的主要原料为聚环化丁二烯。
3.根据权利要求一所述的一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于所述的负性光刻胶的溶剂为环己烷。
4.根据权利要求一所述的一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于所述的制备负性光刻胶的主要原料聚环化丁二烯分子量分布低于1.5。
5.根据权利要求一所述的一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于所述的胶膜需要在96℃下前烘30分钟。
6.根据权利要求一所述的一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于所述的刻蚀图形分辨率(感光度小于5mJ/cm2下测试)小于2μm。
7.根据权利要求一所述的一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于所述的胶膜针孔密度(胶膜厚度为1.0μm下测试)小于0.4个/cm2。
8.根据权利要求一所述的一种耐热负性光刻胶的制备方法，其特征在于所述的胶膜在235℃下不会发生变形和流动。
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