[发明专利]图案形成方法以及半导体器件的制造方法无效
| 申请号： | 200610080276.0 | 申请日： | 2006-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN1862386A | 公开（公告）日： | 2006-11-15 |
| 发明（设计）人： | 伊藤信一;松永健太郎;河村大辅;大西廉伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 图案 形成 方法 以及 半导体器件 制造 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝，未经株式会社东芝许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610080276.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：插入深度可调式气管切开套管
- 下一篇：用于热恢复发泡管的组合物
